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公开(公告)号:CN113571632A
公开(公告)日:2021-10-29
申请号:CN202111109797.5
申请日:2021-09-23
Applicant: 南开大学
IPC: H01L43/06 , H01L43/10 , H01L43/04 , H01L43/14 , C30B23/04 , C30B29/52 , C23C14/04 , C23C14/16 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供了一种反常霍尔元件及其制备方法,以在单晶MgO(100)上外延生长的Fe、Cr共掺杂的单晶Ni薄膜作为活性层材料,活性层形状为“十”字形,薄膜厚度为2nm~30 nm,采用离子束沉积法生长。本发明的微型反常霍尔元件具有较小的体积,较大的反常霍尔电阻率,较小的电阻率和功耗,较宽的工作温度范围,在磁电信号转换等领域有广泛的应用。
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公开(公告)号:CN117230419A
公开(公告)日:2023-12-15
申请号:CN202311263678.4
申请日:2023-09-27
Applicant: 南开大学
IPC: C23C14/35 , C25B11/091 , C25B1/04 , C25B11/061 , C23C14/16 , C23C14/58 , C23C8/10
Abstract: 一种电解水产氢催化剂的制备方法及产品,所述制备方法步骤如下:1)固定衬底,固定Ni靶材;2)对磁控溅射沉积系统的真空腔室抽真空,使压强小于5×10‑5 Pa;3)向真空腔室中充入Ar气,充入Ar气的流量为2~5 sccm,保持腔室气压为0.8×10‑2 Pa~2.0×10‑2 Pa,进行预溅射;4)打开基片挡板,控制溅射时间为50 min~130 min,得到Ni薄膜样品;5)向真空腔室中充入纯度大于99.999%的高纯O2,充入O2的流量为2~5 sccm,持续时间为5 min~20 min,得到Ni基的电解水产氢催化剂。
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公开(公告)号:CN113571632B
公开(公告)日:2021-12-10
申请号:CN202111109797.5
申请日:2021-09-23
Applicant: 南开大学
IPC: H01L43/06 , H01L43/10 , H01L43/04 , H01L43/14 , C30B23/04 , C30B29/52 , C23C14/04 , C23C14/16 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供了一种反常霍尔元件及其制备方法,以在单晶MgO(100)上外延生长的Fe、Cr共掺杂的单晶Ni薄膜作为活性层材料,活性层形状为“十”字形,薄膜厚度为2nm~30 nm,采用离子束沉积法生长。本发明的微型反常霍尔元件具有较小的体积,较大的反常霍尔电阻率,较小的电阻率和功耗,较宽的工作温度范围,在磁电信号转换等领域有广泛的应用。
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