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公开(公告)号：CN103499318B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201310495022.5
申请日：2013-10-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开一种光学元件自重变形量的测定方法，获取被测光学元件在全重力作用状态下的面形数据，标定干涉仪和标准镜组成的系统的误差；保持干涉仪的参数及位置不变，使被测光学元件没入不同深度的重液，获得被测光学元件的被测面在不同重力作用下的面形数据；对10个面形数据中相同坐标的数据点分别采用最小二乘法拟合，得到并令相应的拟合曲线方程中被测光学元件浸没重液的深度等于被测光学元件漂浮状态时浸入重液的总深度，获取被测光学元件的真实面形在各坐标处的数据值；根据数据值恢复被测光学元件的真实面形信息；由全重力的面形数据与真实面形数据相减，获得被测光学元件由于自重导致的变形量。
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公开(公告)号：CN104374548A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201410653561.1
申请日：2014-11-17
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种透镜折射率干涉测量方法，该方法首先通过移动被测透镜，使干涉仪出射的平行光束经过标准镜头后会聚在被测透镜表面。然后采用双路测距干涉仪进行距离测量及面形误差补偿，获取被测透镜前后表面顶点处两次定位的位置坐标，利用光线追迹公式计算透镜折射率。该方法使用的测量装置包括干涉仪，标准物镜，激光测距仪，五维调整架及移动导轨。其中标准物镜和被测透镜依次放在干涉仪光源出射光线方向。被测透镜固定在五维调整架上，可在导轨上移动。本发明利用干涉法对透镜表面定位及位置补偿，实现了透镜折射率的非接触测量。
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公开(公告)号：CN102607408B
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201210086778.X
申请日：2012-03-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B9/02
Abstract: 本发明是一种校正干涉仪成像系统畸变的方法，此方法基于被测件重叠子区域数据的重叠区域上有明确标记点或者镜面面形信息特征，对干涉仪成像系统畸变进行校正，校正干涉仪成像系统畸变方法的系统包括干涉仪、被测件、调整机构及计算机系统，计算机系统与干涉仪连接，调整机构实现对被测件的调整；通过安装在计算机系统上的干涉仪数据处理软件获得经过调整机构调整的被测件上具有重叠区域的子区域数据，最后将得到的子区域测试数据送入计算机系统进行处理，获得干涉仪成像畸变系数及校正后的面形误差；本发明为高精度面形加工测量提供检测方法，具有较大的应用价值。
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公开(公告)号：CN102519355B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201110382126.6
申请日：2011-11-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于弹性导向机构的一种一维微平动机构，微位移驱动器的输出端的球头和垫块采用单向接触方式，环形弹性薄片是具有旋转对称的U形连接的环形弹性薄片机构，其内环与内导向套筒通过螺钉紧固，外环与筒状机架通过螺钉紧固，从而确保微平动机构输出平台作一维单向微位移时不会发生转动，并具有在各种工作姿态下和受各种方向的小负载的情况下，实现精密直线微位移导向的功能。本发明具有结构简单，造价低廉，维护和保养容易等优点，解决了微位移驱动器的位移输出不同步带来的问题，并且减小了驱动控制的复杂度，机构中心位置留有较大空间，有利于通光或通过其它器件，适用于各种微纳级一维位移调整机构。
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公开(公告)号：CN102494631B
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201110383336.7
申请日：2011-11-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种绕光轴旋转对准误差分析方法。首先对初始位置处测得的面形数据进行泽尼克条纹多项式拟合，提取旋转对称项的拟合系数；然后将被测光学元件绕光轴旋转一定角度，对测得的面形数据同样进行多项式拟合并提取旋转对称项的系数，然后与旋转前的对应多项式拟合系数做差值运算并与拟合得到的阈值作对比，即可获得绕光轴旋转对准误差信息。如此反复进行多次不同旋转角度位置的对准。本发明提供了一种旋转对准误差分析方法，为绝对检测中旋转对准误差控制提供了一种定量分析方法，对减小旋转对准误差进而提高面形绝对检测精度具有较大的应用价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102538699B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201110386255.2
申请日：2011-11-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种光学干涉检测同轴度控制方法，其可以实现干涉仪光轴和被测镜面中心旋转轴的同轴度检测和控制，包括干涉仪(1)、标准镜(2)、被测镜面(3)、六维调整架和计算机(8)。转动六维调整架的转台(5)绕光轴旋转被测镜面(3)，将转动前后的被测镜面(3)面形检测数据导入计算机(8)进行数据分析可获得干涉仪系统的光轴和被测镜面中心旋转轴的同轴度信息，并以此为依据调节六维调整平台来实现干涉仪(1)光轴和被测镜面(3)旋转轴的同轴度对准。本发明可以为高精度干涉检测提供光学同轴度的检测和控制方法，结构简单，能有效提高干涉检测的同轴度，进而提高检测精度。
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公开(公告)号：CN102248461B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201110082649.9
申请日：2011-04-02
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法包括：确定待抛光光学元件表面的待抛光点和驻留时间分布，用随机轨道算法生成待抛光光学元件表面离散点的抛光顺序和抛光轨迹；用驻留时间补偿方法计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布，获得待抛光光学元件表面离散点准确的驻留时间；根据驻留时间的分布，由机床代码转换程序生成随机轨迹数控抛光程序代码，在数控抛光机床执行随机轨迹数控抛光程序代码对待抛光光学元件表面各个点进行抛光。随机轨迹抛光方法根据面形分布，使抛光头和磨粒的运动轨迹近似为随机凌乱分布，待抛光光学元件不会残留规则的轨迹划痕，而且使规则的轨迹间的去除函数迭代误差均匀的分布在整个面形中，提高面形精度。
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公开(公告)号：CN102508352B
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201110382335.0
申请日：2011-11-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种二维角度微调调整架，其适用于调整光学干涉仪镜头在X-X、Y-Y两条轴线转动，其组成结构主要包括在外壳内同轴线放置的镜头、上盖、带有弧形凹槽面的小圆环和大圆环，小圆环和大圆环之间采用间隙配合，并有销钉相连，镜头通过上盖安装在调整机构上；两个调整螺杆分别与大圆环和小圆环上的凹槽面接触构成滑动副，调整两个调整螺杆，能够使小圆环内的待调整镜头沿X-X、Y-Y两条轴线转动，实现二维小角度的调整；复位组件分别与大小圆环相连，使镜头能够复位的同时，具有正反两个方向的角度调节。与现有技术相比，本发明具有稳定性好，镜头通光面积大，结构简单及安装调节方便的特点，适用于精密光学镜头的角度调整。
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公开(公告)号：CN102120314B
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201010586835.1
申请日：2010-12-09
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明是一种全淹没射流抛光装置及方法，装置包括：喷嘴、抛光液容器、待抛光工件、工件装夹、抛光液回收槽、数控抛光机床、数控计算机、压力表、压力调节阀、增压泵、抛光液搅拌器、抛光液回收容器和多根液体管路，工件装夹固定在抛光液容器的底端，待抛光工件置于工件装夹中并固接；喷嘴的一端固定在数控抛光机床的抛光运动头中，数控计算机控制喷嘴的坐标位置和停留时间，定量去除待抛光工件的材料。方法是待抛光工件装夹在抛光液容器中，把抛光液注入抛光液容器中，待抛光工件和喷嘴出口全部淹没在抛光液中；启动液压部开始淹没射流抛光；数控计算机调节喷嘴与待抛光工件表面之间的距离；控制抛光驻留时间实现定量去除材料。
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公开(公告)号：CN102889980A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210390365.0
申请日：2012-10-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅剪切干涉检测系统的微透镜定焦检测方法，属于光学检测技术领域，该方法利用郎奇光栅的0级和1级衍射光干涉产生的条纹完成对微透镜的定焦测量：平行光经过郎奇光栅时，由于光栅的衍射效应产生0级和1级衍射光斑；根据衍射光波前相位变化，当光栅位于微透镜焦面上时，光斑重叠区域没有干涉条纹；当光栅位于离焦位置时，光斑重叠区域将由于位相差异产生干涉条纹；通过不同离焦位置的条纹周期变化，即可计算光栅的离焦量从而完成微透镜的定焦测量。本发明根据物理光学理论，定量分析光栅离焦量与条纹周期的关系，通过光栅在焦前和焦后两次离焦时条纹周期的不同，计算两次离焦量，从而完成微透镜及其阵列元件的定焦。
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