高压蒸气辅助稀酸刻蚀碳纳米管制备石墨烯纳米带的方法

    公开(公告)号:CN107416803A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201710818726.X

    申请日:2017-09-12

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种高压蒸汽辅助稀酸刻蚀碳纳米管制备石墨烯纳米带的方法,其是将多壁碳纳米管置于聚四氟乙烯反应釜中,加入一定浓度的稀酸溶液后振荡使碳纳米管分散均匀,然后进行水热反应,利用反应釜中产生的高压蒸气的辅助刻蚀作用,使多壁碳纳米管沿纵向裂解,形成高质量的石墨烯纳米带。本发明制备过程简单易操作,可以一步完成,无须采用表面活性剂进行分散,过程污染小,克服了其他方法中存在的过程繁琐、污染严重、产率低等缺点,且制备的石墨烯纳米带具有褶皱少、不易团聚、层数少、产率高等优点,可用于制备乙醇燃料电池的阳极材料。

    一种铜基手性配位聚合物的光诱导对映选择性合成的方法

    公开(公告)号:CN104059091A

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201410283879.5

    申请日:2014-06-24

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明提供了一种铜基手性配位聚合物的光诱导对映选择性合成的方法,具体为:先合成铜基手性配位聚合物所需的反应液,然后将铜基手性配位聚合物的反应液置于光辐照装置中,光辐照3-5天,实现铜基手性配位聚合物的对映选择性合成。光辐照装置包括半导体激光器、偏振片、四分之一波片;通过调整偏振片与四分之一波片之间的夹角,能将出射光调整为左旋或右旋圆偏振光。圆偏振光辐照实验能有效的使本发明所尝试的手性配位聚合物结晶产物去消旋化,并实现对映选择性。本发明通过光诱导实现了手性配位聚合物的对映选择性合成。该方法具有良好的重现性,实验装置简单,可多次重复利用,合成过程清洁无污染。

    一种铌钪酸镨锂磁光晶体及其制备方法

    公开(公告)号:CN113862774B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202111148753.3

    申请日:2021-09-29

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种可应用于可见‑近红外光区的铌钪酸镨锂磁光晶体及其制备方法。所述磁光晶体的化学式为Li(5+2x)Pr3Nb(2‑x)ScxO12,其中x=0.5~1.0。该晶体属立方晶系,空间群为#imgabs0#。本发明制得的磁光晶体具有立方高对称性,可有效消除双折射效应对磁光应用的限制。同时,该晶体还具有磁性稀土离子含量高,电子交换作用大,晶体场作用强,磁性稀土离子在晶体中的电子有效跃迁波长较大等结构特点,有利于产生较强的磁光效应。此外,本发明磁光晶体为一致熔融化合物,生长温度为1300~1550℃,可采用中频感应提拉法生长,其生长工艺简单、周期短,晶体完整性高,能够实现大规模低成本的批量生产。

    一种高含铈掺钪钆铁石榴石磁光晶体及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN112095149B

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN202010953656.0

    申请日:2020-09-11

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种高含铈掺钪钆铁石榴石磁光晶体及其制备方法和应用。采用导模提拉法生长了化学式为Gd3‑x‑yCexCaySczFe5‑z‑wVwO12,(x=0.33‑0.54,y=0.02‑0.06,z=0.45‑0.96,w=0.01)磁光晶体。该方法可简化晶体后加工工艺,降低晶体制备的成本,且晶体生长速率快,光学均匀性好,可制备厘米级尺寸单晶。通过适量掺杂Sc有助于稳定RIG石榴石结构,并使晶胞膨胀,利于提高Ce在晶体中的掺杂量,并且增强了晶体磁性,获得透过性能好、磁性强、磁光性能优异的高含铈掺钪钆铁石榴石磁光晶体。该晶体材料有望在磁光隔离器、磁光环形器、磁光调制器等器件中获得实际应用。

    一种立方相掺杂铁酸铈磁光材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN110172734B

    公开(公告)日:2021-03-30

    申请号:CN201910462762.6

    申请日:2019-05-30

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明提供一种立方相掺杂铁酸铈磁光材料及其制备方法和应用。所述的磁光材料的化学式为Ce1‑xSrxFe1‑xVxO3,x=0.3~0.7。该材料属立方晶系,空间群为。该材料具有结构新颖,光学、磁学性能优良,磁光效应显著的优点,而且该化合物晶格常数与硅相匹配,有望在硅基集成光隔离器等领域获得应用。该材料采用射频磁控溅射法制备,因此还具有工艺简单、周期短、重现性好的优点。

    一种高含铈掺钪钆铁石榴石磁光晶体及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN112095149A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN202010953656.0

    申请日:2020-09-11

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种高含铈掺钪钆铁石榴石磁光晶体及其制备方法和应用。采用导模提拉法生长了化学式为Gd3‑x‑yCexCaySczFe5‑z‑wVwO12,(x=0.33‑0.54,y=0.02‑0.06,z=0.45‑0.96,w=0.01)磁光晶体。该方法可简化晶体后加工工艺,降低晶体制备的成本,且晶体生长速率快,光学均匀性好,可制备厘米级尺寸单晶。通过适量掺杂Sc有助于稳定RIG石榴石结构,并使晶胞膨胀,利于提高Ce在晶体中的掺杂量,并且增强了晶体磁性,获得透过性能好、磁性强、磁光性能优异的高含铈掺钪钆铁石榴石磁光晶体。该晶体材料有望在磁光隔离器、磁光环形器、磁光调制器等器件中获得实际应用。

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