基于激光共聚焦显微镜的拉压及疲劳加载实验机

    公开(公告)号:CN101592573A

    公开(公告)日:2009-12-02

    申请号:CN200910086827.8

    申请日:2009-06-08

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 基于激光共聚焦显微镜的拉压及疲劳加载实验机,本发明提供一种适用于激光共聚焦显微镜平台的加载实验机,该实验机包括固定基板、电机驱动的拉压加载装置、压电陶瓷驱动的疲劳加载装置、力传感器、夹持装置和相移装置等部分。本发明可以实现对宏观尺度单轴向应力下的金属或非金属材料的典型试样、薄膜进行拉压和疲劳加载的测试,该装置为光学测试方法设计了相移装置,用于提高测试精度和自动化程度。该实验机结构紧凑,试件紧靠实验机下底面,能够实现在激光共聚焦显微镜平台下的加载,并使用该显微镜采集加载图像,通过光学方法处理图像得到试件材料的力学参数。系统测量灵敏度高,结果可靠,适用范围广。

    一种双频率高温光栅的制作方法

    公开(公告)号:CN100470266C

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200610113298.2

    申请日:2006-09-22

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种双频率高温光栅的制作方法,属于光测力学技术领域。本发明的技术特点是在聚焦离子束显微镜这一成熟商品仪器环境下完成双频率高温光栅的制作,该方法操作简单、灵活、容易实现。通过调整聚焦离子束显微镜系统的放大倍数、束流强度、刻蚀深度、线间距等参数并利用系统自身的精密定位系统,在试件表面,或者在金属镀膜上制作出可变密度、可变深度的单向光栅、正交光栅及双频光栅,适用于各种温度环境下,各种基体材料微观变形行为的研究。

    利用激光扫描共聚焦显微镜制作高密度光栅的方法

    公开(公告)号:CN1333271C

    公开(公告)日:2007-08-22

    申请号:CN200610011471.8

    申请日:2006-03-10

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种高密度光栅的制作方法,属于光学器件的制造、光测力学技术领域。本发明是在成熟商品仪器激光扫描共聚焦显微镜的操作环境中,利用其照明光源所发出的波长在光刻胶感光敏感波长范围内的聚焦激光点,对光栅基底材料表面的光刻胶进行扫描曝光,通过调整激光扫描共聚焦显微镜目镜的放大倍数、扫描线数、扫描次数以及扫描方向,能制作出可变密度、可变深度的单向光栅、正交光栅或应变花光栅;该方法的光栅制作原理清晰,操作简单,不需要人为布置光路,以及精确调整激光束的入射角度等重要参数;无需专业设备投资,制作成本低。

    多功能三维位移激光干涉测量系统

    公开(公告)号:CN1304817C

    公开(公告)日:2007-03-14

    申请号:CN200410000005.0

    申请日:2004-01-02

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种多功能三位移激光干涉测量系统,属于光测力学、工程材料、构件变形和位移测试技术领域。本发明由激光器,图像采集摄像系统,分光耦合器,三维干涉光路系统和六维调节载荷架五部分组成。该测量系统可实现u、v、w三个位移场的高精度实时测量,位移测量灵敏度可达波长量级,并具有云纹干涉和电子散斑干涉两种位移测量模式。采用六维调节载荷架能实现六个自由度的调节,使得本系统可同时实现单向拉压、三点弯曲加载实验,具有使用方便,结构紧凑、测量精度高等特点。系统配有相移装置,经过相移技术处理后的位移测量精度可达纳米量级。

Patent Agency Ranking