公开(公告)号：CN100470266C

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200610113298.2

申请日：2006-09-22

Applicant: 清华大学

Inventor： 谢惠民 ,  杜华 ,  郭智强 ,  方岱宁 ,  戴福隆

IPC: G02B5/18

Abstract: 一种双频率高温光栅的制作方法，属于光测力学技术领域。本发明的技术特点是在聚焦离子束显微镜这一成熟商品仪器环境下完成双频率高温光栅的制作，该方法操作简单、灵活、容易实现。通过调整聚焦离子束显微镜系统的放大倍数、束流强度、刻蚀深度、线间距等参数并利用系统自身的精密定位系统，在试件表面，或者在金属镀膜上制作出可变密度、可变深度的单向光栅、正交光栅及双频光栅，适用于各种温度环境下，各种基体材料微观变形行为的研究。

公开(公告)号：CN1924622A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200610113298.2

申请日：2006-09-22

Applicant: 清华大学

Inventor： 谢惠民 ,  杜华 ,  郭智强 ,  方岱宁 ,  戴福隆

IPC: G02B5/18

Abstract: 一种双频率高温光栅的制作方法，属于光测力学技术领域。本发明的技术特点是在聚焦离子束显微镜这一成熟商品仪器环境下完成双频率高温光栅的制作，该方法操作简单、灵活、容易实现。通过调整聚焦离子束显微镜系统的放大倍数、束流强度、刻蚀深度、线间距等参数并利用系统自身的精密定位系统，在试件表面，或者在金属镀膜上制作出可变密度、可变深度的单向光栅、正交光栅及双频光栅，适用于各种温度环境下，各种基体材料微观变形行为的研究。