-
公开(公告)号：CN103163024A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201310090805.5
申请日：2013-03-20
Applicant: 清华大学
IPC: G01N3/08
Abstract: 本发明公开了一种薄膜加载装置，包括：支架、杠杆组件、压电陶瓷、第一夹持件、第二夹持件和传感器。所述杠杆组件包括移动杆，所述移动杆可绕预定点转动地设在所述支架上；所述压电陶瓷与所述移动杆相连用于向所述移动杆输入初始位移；所述第一夹持件与所述移动杆相连，所述第一夹持件夹持薄膜的第一端且所述第二夹持件夹持薄膜的第二端，其中所述第一夹持件和所述移动杆的连接处与所述预定点之间的距离大于所述压电陶瓷和所述移动杆的连接处与所述预定点之间的距离；传感器用于测量所述薄膜受到的拉力，所述传感器设在所述支架上且与所述第二夹持件相连。根据本发明的薄膜加载装置，加载位移精度高，反应快，输出位移大且结构简单。
-
公开(公告)号：CN101852877A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN201010198493.6
申请日：2010-06-04
Applicant: 清华大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种制作云纹光栅的方法和纳米压印设备，属于光学器件制造和光测力学技术领域。本发明首先采用电铸工艺制作镍光栅膜，再采用覆膜工艺制作镍基金属光栅模板，避免了硅基等脆性模板易裂的缺点，可以多次重复使用。通过纳米压印的方法和设备在试件表面制作云纹光栅，操作简单，经济实用。纳米压印设备由加压，升温，冷却、控制系统等组成。压印在真空环境下完成，使用导轨定向，气囊可控推进，并利用气囊内气体压力的自平衡使上下压板在压印的过程中保持平行，采用电加热快速升温，采用水冷装置快速降温，提高了云纹光栅的制作效率。该方法和设备可以制作适合几何云纹、云纹干涉等方法测试的各种频率的云纹光栅。
-
公开(公告)号：CN101922910A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010236191.3
申请日：2010-07-26
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种利用云纹对扫描电镜的扫描线间距进行标定的方法，属于光测力学技术领域。本发明以扫描电镜的扫描线为参考栅，以已知栅距的标准光栅为试件栅，通过使两栅发生干涉形成清晰的平行云纹，测量出云纹的像素间距，将其代入推导出的反演公式求解出每个像素所对应的实际物理尺寸即扫描线间距。此方法集成了云纹法测量灵敏度高、视场大等优点，可实现实时原位标定，精度高，操作简单，并且考虑了扫描线数和工作距离等因素的影响，为扫描电镜和扫描电镜云纹法用于微纳米变形测量提供了良好的基础。
-
公开(公告)号：CN103149017A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310084490.3
申请日：2013-03-15
Applicant: 清华大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提出一种光栅线宽比测量方法，包括：提供SEM仪器以及已知线宽比的光栅；将一直线宽比的光栅放置于SEM仪器的载物台中央，调节放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，计算当前放大倍数下扫描线的线宽比，最终标定出一系列不同放大倍数下的SEM仪器扫描线线宽比；将未知线宽比的光栅放置于SEM载物台中央，调节SEM仪器的放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，查询前面标定得到当前放大倍数下SEM仪器扫描线的线宽比，结合反演方法计算得到未知线宽比的光栅的线宽比。本发明具有灵敏度高、测量视场大，以及SEM分辨率高、对样品无损伤、空间定位方便等优点，并且具有操作简单，过程快速、表征区域大、检测成本低等优点。
-
公开(公告)号：CN102981360A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210501039.2
申请日：2012-11-29
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提出一种微纳米散斑制作方法，包括：利用计算机软件生成优化散斑图；对硅片或石英片进行切割、清洗、烘干、涂覆抗蚀剂的预处理；按照优化散斑图，对硅片或石英片进行电子束曝光；对曝光后的硅片或石英片进行显影、刻蚀、去除残留抗蚀剂、清洗的后处理，得到表面带有优化散斑图的散斑压印模板；对试件进行清洗，涂覆热塑性胶；将散斑压印模板与试件紧密贴合，置于热压印箱平台进行热压印；以及脱模，对热压印后的试件进行刻蚀和去除残留热塑性胶，得到表面具有散斑图的试件。本发明具有质量可控、成本较低的优点。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102944976A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201210435146.X
申请日：2012-11-02
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提出一种紫外纳米压印系统，本发明涉及特征尺寸为纳米级高分辨率图形的制作装置，属纳米加工技术领域。本发明由压印系统箱体和真空泵组成，其中压印系统箱体包括自动压力控制器、自动真空度控制器、自动曝光时间控制器和真空工作室。该系统通过自适应定位装置和精确控制压印环境、压印载荷、曝光时间来实现高精度、高效率的紫外纳米压印制造，具有结构紧凑、自动化程度高、使用方便的优点。
-
公开(公告)号：CN101922910B
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201010236191.3
申请日：2010-07-26
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种利用云纹对扫描电镜的扫描线间距进行标定的方法，属于光测力学技术领域。本发明以扫描电镜的扫描线为参考栅，以已知栅距的标准光栅为试件栅，通过使两栅发生干涉形成清晰的平行云纹，测量出云纹的像素间距，将其代入推导出的反演公式求解出每个像素所对应的实际物理尺寸即扫描线间距。此方法集成了云纹法测量灵敏度高、视场大等优点，可实现实时原位标定，精度高，操作简单，并且考虑了扫描线数和工作距离等因素的影响，为扫描电镜和扫描电镜云纹法用于微纳米变形测量提供了良好的基础。
-
公开(公告)号：CN103149017B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201310084490.3
申请日：2013-03-15
Applicant: 清华大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提出一种光栅线宽比测量方法，包括：提供SEM仪器以及已知线宽比的光栅；将一直线宽比的光栅放置于SEM仪器的载物台中央，调节放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，计算当前放大倍数下扫描线的线宽比，最终标定出一系列不同放大倍数下的SEM仪器扫描线线宽比；将未知线宽比的光栅放置于SEM载物台中央，调节SEM仪器的放大倍数直至形成清晰地云纹条纹，记录形状参数，查询前面标定得到当前放大倍数下SEM仪器扫描线的线宽比，结合反演方法计算得到未知线宽比的光栅的线宽比。本发明具有灵敏度高、测量视场大，以及SEM分辨率高、对样品无损伤、空间定位方便等优点，并且具有操作简单，过程快速、表征区域大、检测成本低等优点。
-
公开(公告)号：CN101539642A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200910135728.4
申请日：2009-04-27
Applicant: 清华大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种高温云纹光栅的制作方法，属于光学器件制造、光测力学领域。将试件基底材料抛光、清洗、烘干后，在试件基体材料表面沉积一层在高温下抗氧化的金属膜；根据模板上云纹光栅尺寸的特点和光刻胶的型号调整温度、压力、时间等参数，将模板的表面图案转印到基底材料的光刻胶上；经过干法或湿法刻蚀，在基底材料上再镀一层在高温下抗氧化的金属膜，去除光刻胶后，可制成高温云纹光栅。所述的高温为为800～1000℃范围；所述的试件基底材料采用耐高温的金属合金或非金属材料。光栅制作的原理清晰，且操作方便、效率高、成本底，可批量生产。
-
公开(公告)号：CN102944976B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210435146.X
申请日：2012-11-02
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提出一种紫外纳米压印系统，本发明涉及特征尺寸为纳米级高分辨率图形的制作装置，属纳米加工技术领域。本发明由压印系统箱体和真空泵组成，其中压印系统箱体包括自动压力控制器、自动真空度控制器、自动曝光时间控制器和真空工作室。该系统通过自适应定位装置和精确控制压印环境、压印载荷、曝光时间来实现高精度、高效率的紫外纳米压印制造，具有结构紧凑、自动化程度高、使用方便的优点。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.014 seconds)
