半导体装置的制造方法
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101136330A

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN200710147138.4

    申请日:2007-08-30

    CPC classification number: H01L27/1288 H01L27/1214

    Abstract: 本发明提供一种不使用光掩模或抗蚀剂而利用简单工艺形成开口部的方法。此外,本发明提供一种以低成本制造半导体装置的方法。在衬底上形成多个光吸收层,在该多个光吸收层上形成层间绝缘层,从层间绝缘层侧将直线形或矩形激光束照射到多个光吸收层,至少去掉多个光吸收层上的层间绝缘膜来形成开口部,由此,去掉多个光吸收层以及形成在该多个光吸收层上的绝缘层,而可以形成多个开口部。

    半导体装置的制造方法
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101136330B

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN200710147138.4

    申请日:2007-08-30

    CPC classification number: H01L27/1288 H01L27/1214

    Abstract: 本发明提供一种不使用光掩模或抗蚀剂而利用简单工艺形成开口部的方法。此外,本发明提供一种以低成本制造半导体装置的方法。在衬底上形成多个光吸收层,在该多个光吸收层上形成层间绝缘层,从层间绝缘层侧将直线形或矩形激光束照射到多个光吸收层,至少去掉多个光吸收层上的层间绝缘膜来形成开口部,由此,去掉多个光吸收层以及形成在该多个光吸收层上的绝缘层,而可以形成多个开口部。

    显示装置
    36.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101369587B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200810131294.6

    申请日:2008-08-04

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种显示装置及生产率高地制造其的方法,所述显示装置具有电特性优越且可靠性高的p沟道型薄膜晶体管及n沟道型薄膜晶体管。本发明之一是一种显示装置,包括:反交错型p沟道型薄膜晶体管和n沟道型薄膜晶体管,该p沟道型薄膜晶体管和n沟道型薄膜晶体管在栅电极上顺序层叠有栅极绝缘膜、微晶半导体膜、以及非晶半导体膜,并且还包括形成在非晶半导体膜上的一对n型半导体膜或p型半导体膜、以及形成在一对n型半导体膜或p型半导体膜上的一对布线,其中微晶半导体膜包含1×1016atoms/cm3以下的氧。此外,n沟道型薄膜晶体管的迁移率为10cm2/V·s以上且45cm2/V·s以下,而p沟道型薄膜晶体管的迁移率为0.3cm2/V·s以下。

    发光装置
    38.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101339960A

    公开(公告)日:2009-01-07

    申请号:CN200810137904.3

    申请日:2008-07-03

    Abstract: 本发明的目的在于提出批量生产性高地制造包括电特性良好且可靠性高的薄膜晶体管的发光装置的方法。本发明的要旨在于:在包括反交错型薄膜晶体管的发光装置的反交错型薄膜晶体管中,在栅电极上形成栅极绝缘膜,在栅极绝缘膜上形成用作沟道形成区域的微晶半导体膜,在微晶半导体膜上形成缓冲层,在缓冲层上形成一对源区域及漏区域,以使源区域及漏区域的一部分露出的方式形成与源区域及漏区域接触的一对源电极及漏电极。

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