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公开(公告)号：CN101030047B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200710086162.1
申请日：2007-03-05
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置，所述再生方法和再生装置特别适于经济性较好地对使用含有各种专门的胺化合物的剥离液的剥离工序时以及使用各种抗蚀剂和剥离液时所产生的抗蚀剂剥离废液进行再生。本发明的再生装置适用于该再生方法。本发明的抗蚀剂剥离废液的再生方法是对含有水、抗蚀剂、胺化合物、有机溶剂的抗蚀剂剥离废液进行再生的方法，该方法的特征在于，其含有：(a)添加酸的工序，所述酸与抗蚀剂剥离废液的胺化合物发生反应而使得胺化合物形成在有机溶剂蒸馏时不被蒸馏的胺-酸化合物；和(b)对上述(a)工序的反应产物进行分别蒸馏而仅获取有机溶剂的工序。
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公开(公告)号：CN1877449B
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200610091557.6
申请日：2006-06-12
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/038 , G03F7/027 , G02F1/136 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供负型感光性树脂组合物，其粘着力、耐热性、绝缘性、平坦性、耐化学性等性能优异，适用于液晶显示元件的图像形成用材料，并且由于灵敏度、残膜率、UV透过率优异，因而适于用作层间有机绝缘膜；不仅如此，将该组合物用作保护层用等各种抗蚀剂树脂时，可以提高灵敏度和残膜率。本发明的负型感光性树脂组合物含有a)丙烯酸类共聚物、b)光引发剂、c)具有乙烯性不饱和键的多官能性单体、d)含有环氧基或胺基的硅类化合物和e)溶剂；所述a)丙烯酸类共聚物是通过使i)烯丙基丙烯酸类化合物、ii)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物、iii)含有环氧基的不饱和化合物以及iv)烯烃类不饱和化合物进行共聚而得到的。
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公开(公告)号：CN1904734B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200610072635.8
申请日：2006-04-05
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/008 , G03F7/027 , G03F7/004 , G02F1/133 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物不仅灵敏度、耐热性、解像度等性能优异，还显著提高了常温保存稳定性和透过性，适于形成LCD制造工序中的层间绝缘膜。本发明的感光性树脂组合物的特征在于，其含有a)丙烯酸类共聚物、b)1，2-二叠氮醌化合物、c)以化学式1～6中的任意一个来表示的环氧类化合物、和d)溶剂，其中所述a)丙烯酸类共聚物是通过使下述i)～iii)共聚后，除去未反应的单体而得到的：i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；ii)含有羟基的烯烃类不饱和化合物；iii)烯烃类不饱和化合物。
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公开(公告)号：CN101941324A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010256785.0
申请日：2010-06-13
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供压印或辊印平版印刷用模版制造装置和制造方法，由真空腔和后面支持体吸附方式来进行。该装置包含有：由与真空发生装置连接且开闭的空间构成的真空腔、位于真空腔的下部且顶面具有模具图案的母模、可上下移动地位于真空腔的上部且可附着和脱离后面支持体的后面支持体附着用卡盘以及控制部。控制部用于(a)在真空腔内形成真空，(b)将后面支持体附着于后面支持体附着用卡盘上，使附着用卡盘向下移动，将后面支持体附着到母模顶面形成的模版上，(c)在真空状态下或除去真空的状态下，在将后面支持体脱离卡盘的状态下，使附着用卡盘向上移动。该制造装置和制造方法，能实现平坦度、总节距、图案形状的正确性和其他物性优良的模版。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1811597B
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200610002261.2
申请日：2006-01-27
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物不仅透过率、绝缘性、平滑性、耐化学性等性能优异，而且特别地，该组合物由于具有高耐热特性，使得在层间绝缘膜产生的渗气最小化，因而可确保后工序的可靠性，适于用作LCD制造工序的层间绝缘膜。本发明的感光性树脂组合物含有a)丙烯酸类共聚物、b)1，2-二叠氮醌化合物、和c)溶剂，其中所述a)丙烯酸类共聚物是通过使下述i)～iii)共聚得到的：i)苯基马来酰亚胺类化合物；ii)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；iii)含环氧基的不饱和化合物。
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公开(公告)号：CN101373343A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200810210852.8
申请日：2008-08-20
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1－20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1－C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1－C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1－70重量％的选自具有C1－C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5－10重量％的羟胺；0.5－50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
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公开(公告)号：CN101140428A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200710145306.6
申请日：2007-09-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物以及利用该组合物的光刻胶剥离及分解方法，具体说是涉及一种包含氨基甲酸酯化合物的光刻胶剥离剂组合物。而且，本发明还提供一种包含：a)环状内酯类化合物，及b)酰胺类化合物、氨基甲酸酯化合物或其混合物的光刻胶剥离剂组合物。本发明的光刻胶剥离剂组合物，在利用臭氧的工艺中可以选择性地分解去除光刻胶时所产生的光刻胶残留物，从而可极大地提高处理量，并且具有对金属布线或氧化膜的腐蚀防护效果。
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公开(公告)号：CN101058618A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200710105359.5
申请日：2007-02-05
IPC: C08F212/08 , C08F220/10 , C08F4/04 , G02F1/13 , G09F9/30 , C08F232/08
CPC classification number: C08F220/06 , C08F212/08 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/40 , G02F1/136227 , H01L27/3244 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明公开了一种用于有机绝缘层的树脂组合物，其制造方法，和包含用该树脂组合物形成的绝缘层的显示板。该用于有机绝缘层的树脂组合物通过聚合约5～35wt％的不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；约5～40wt％的苯乙烯类化合物；约5～40wt％的环氧化合物；约0.1～10wt％的异冰片基化合物和约20～40wt％的双环戊二烯化合物而得到，基于不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、苯乙烯类化合物、环氧化合物、异冰片基化合物和双环戊二烯化合物的总重量。
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公开(公告)号：CN101017334A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710000449.8
申请日：2007-02-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂处理液的再生方法及其装置。具体涉及一种从包含用于图形化电路或显示元件金属布线的抗蚀剂膜的基板上剥离抗蚀剂后，使从抗蚀剂剥离工序所排出的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂，从而剥离及分解抗蚀剂的方法及装置。该方法及装置不仅可以剥离残留在图形化金属膜上的抗蚀剂，还可以分解工艺过程中所产生的、并包含在处理液中的抗蚀剂成分，因此能够最大限度地减小在高温下因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度，而且能够将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。
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