一种探测器低温系统
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116171016A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202310142467.9

    申请日:2023-02-08

    Abstract: 本发明公开一种探测器低温系统,涉及探测器相关设备技术领域;包括设置于支架上的容器系统、液化系统和真空系统;所述容器系统包括用于安装探测器的探测器容器,所述探测器容器通过密封保温设置的氩气管和液氩管与所述液化系统连接,所述液化系统和容器系统分别通过真空管路连接有所述真空系统,所述真空系统能够将所述容器系统和液化系统分别抽真空,所述液化系统用于将氩气液化后输送至所述探测器容器内。本发明提供的探测器低温系统,制冷效果好,能够持续的制冷,从而为探测器提供稳定的低温环境。

    一种刀具涂层及其沉积方法

    公开(公告)号:CN111621744B

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN202010198939.9

    申请日:2020-03-20

    Abstract: 本发明公开了一种刀具涂层及其沉积方法,其中,刀具涂层的沉积方法包括以下步骤:在惰性气体中,在刀具基体上沉积金属离子形成金属过渡层;在金属过渡层上依次沉积金属离子、金属碳化物、碳离子形成单元涂层;循环步骤2S若干次;在所述单元循环涂层表层沉积SP3键渐变的碳离子形成渐变碳膜层。本发明对在微型刀具上沉积超厚碳膜的沉积方法进行优化,在刀具表面沉积金属过渡层、单元循环沉积、sp3键不断升高的渐变碳膜层,涂层与刀具结合力大于30N,膜层厚度可高至15微米,硬度大于50Gpa。

    一种防高速冲击涂层方法
    33.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111575669B

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN202010417649.9

    申请日:2020-05-18

    Abstract: 本发明涉及一种防高速冲击涂层方法,包括:对基体进行表面初步离子清洗;在表面清洗后的基体进行激光亚表面微结构化;对结构化表面深度清洗后进行离子注入,并退火形成伪扩散层;在所述伪扩散层之上,利用蒸发法沉积聚合物吸能膜层;利用高能离子注入对聚合物层进行金属化;利用磁过滤沉积设备在金属化层上沉积超硬金刚石涂层;循环制备聚合物层、金属化层以及超硬类金刚石层3‑5次。本发明实施例提供的方法,通过基体微结构、离子注入和沉积镀膜的相结合的方式,明显提高了基体的抗高速运动物体的冲击能力。因其方法简单、易操作,且成本低、效率高,非常适合批量化生产。

    一种散热涂层的制备方法
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111424243B

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN202010417846.0

    申请日:2020-05-18

    Abstract: 本发明涉及一种散热涂层的制备方法,包括:对基体进行表面清洗;随后对基体进行多弧技术表面沉积Al,紧接着进行400‑600℃加热真空保温1‑4h,形成渗铝层;随后进行磁过滤沉积Al或Zn等;随后在氧气气氛下进行200‑800℃下充分氧化;随后通过磁过滤沉积AlN涂层;最后在表面沉积铜层形成覆铜板。本发明实施例提供的方法,通过多弧沉积、磁过滤沉积以及高温渗铝、高温氧化等过程相结合的方法制备的致密的高绝缘高导热涂层,明显提高了基体作为覆铜板的散热性能。因其方法简单、易操作,且成本低、效率高,非常适合工业化大批量生产。

    一种5G陶瓷滤波器膜层材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN111607772A

    公开(公告)日:2020-09-01

    申请号:CN202010610496.X

    申请日:2020-06-29

    Abstract: 本发明公开了一种5G陶瓷滤波器膜层材料及其制备方法,属于陶瓷材料制备技术领域。所述膜层材料为四层复合结构,基体为陶瓷,中间过渡层依次为合金层和连接层,表层为银层;其中,合金层为以合金金属为阴极,利用多弧靶对陶瓷基体进行磁控溅射沉积而得;连接层为以Mo、Cu或Cr为阴极,利用圆柱多弧靶在合金层上沉积而得;表面银层以银为阴极,利用多弧靶和圆柱靶在连接层上进行银金属沉积而得。本发明选用磁控溅射和多弧离子镀组合制备膜层材料,以解决金属与陶瓷结合强度低、处理成本高及化学镀/电镀环境污染的问题,不仅制备工艺简便,而且所制得的5G陶瓷滤波器膜层材料具有结构致密、无明显缺陷及插入损耗低的优点。

    一种陶瓷复合材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118812285A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410864789.9

    申请日:2024-07-01

    Abstract: 本发明提供了一种陶瓷复合材料及其制备方法和应用,属于复合材料领域。本发明在陶瓷基体和纳米晶层的中间设置陶瓷/金属混合层,可以增强陶瓷基体与纳米晶层的结合强度,同时陶瓷/金属混合层能在陶瓷基体亚表面形成压应力,提高陶瓷复合材料的疲劳强度;纳米晶层中的金属碳化物熔点高,在高温下稳定性好,并且本发明采用耐磨性能优异的非晶碳膜包裹纳米晶,既可以增强高温稳定性和耐磨性能,又可以提高纳米晶层与非晶碳膜包裹纳米晶的结构层之间的结合强度;陶瓷复合材料的疲劳强度、各层之间的结合强度、耐磨性能和高温稳定性的提高延长了其作为打印机的陶瓷条的使用寿命。

    一种浅注入成膜设备及其技术
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116334566A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202310129986.1

    申请日:2023-02-17

    Abstract: 本发明公开了一种浅注入成膜设备,包括真空腔室底柜,真空腔室底柜上面连接设有真空腔室,真空腔室上面通过活套法兰一连接设有分子泵,真空腔室两侧均通过活套法兰二连接设有磁过滤器,磁过滤器上面连接设有阳极筒,真空腔室底部通过工作台转轴系统和齿轮连接设有旋转工作台,旋转工作台和真空腔室绝缘设置,真空腔室内通过绝缘螺钉固定连接设有交变电场,磁过滤器出口通过绕组方式连接设有纵横磁场,真空腔室上通过氮化硼套管固定连接设有偏压网系统,磁过滤器上通过螺钉引线连接设有磁过滤系统电位接线。本发明的优点:沉积速率高,膜层致密性好,膜基结合力强,成膜技术可操作性强。

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