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公开(公告)号:CN107919269A
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201711025682.1
申请日:2017-10-27
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种预后制备量子点的量子点耦合微结构及其制备方法。本发明中量子点的纵向尺寸由量子阱的厚度控制,量子点组分由量子阱的组分控制,均匀性高于自组装生长的量子点结构;量子点的横向尺寸,通过选择性热蒸发的方式予以调控,能够突破外延生长极限,其横向尺寸能够远低于自组装生长的量子点;量子点在微结构中的位置通过微纳加工技术控制,能够实现量子点在微结构中的位置高度可控;本发明利用选择性热蒸发处理预后制备量子点,工艺简单,成本低廉,扩展性强,可重复性高,能够实现批量化制备,推动量子点耦合微结构的实用化进程。
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公开(公告)号:CN117228641B
公开(公告)日:2024-01-30
申请号:CN202311524764.6
申请日:2023-11-16
Applicant: 北京大学
IPC: C01B21/00
Abstract: 本发明公开了一种补偿氮空位并抑制漏电流的氮化物铁电薄膜的制备方法。本发明利用离子注入和热退火工艺,得到补偿氮空位并抑制漏电流的氮化物铁电薄膜;本发明既能够通过大剂量、大能量和高深度的近下表面氮离子注入,解决由于应力引起的下表面附近的大量的氮空位缺陷,又能够通过多次氮离子注入方式,在整个氮化物铁电薄膜中实现均匀分布的氮浓度,解决整个氮化物铁电薄膜中的氮空位;本发明有效解决氮化物铁电薄膜中的氮空位问题,具有显著地漏电抑制作用,提高氮化物铁电薄膜的寿命和可靠性,同时降低相关器件能耗,使得氮化物铁电氮化物铁电薄膜能够用于制备高性能电子器件、铁电存储器、光电器件、声学器件和非线性光子
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公开(公告)号:CN116568042B
公开(公告)日:2023-09-08
申请号:CN202310835363.6
申请日:2023-07-10
Applicant: 北京大学
IPC: H10B51/30 , H01L29/78 , H01L21/336
Abstract: 本发明公开了一种电写光读氮化物铁电神经形态器件及其制备方法。本发明各层结构在同一设备的同一腔体中全外延实现,有利于提升界面质量,并提升器件的可靠性;利用多层复合式铁电层功能层,有利于增强器件的多态特性,通过精确控制超晶格中各层氮化物铁电层的掺杂元素组分,实现组分梯度变化,氮化物铁电层中掺杂元素组分浓度对矫顽场的调制作用,实现各层氮化物铁电层具有不同的矫顽电压,氮化物铁电神经形态器件的阈值电压呈离散值,从而实现低重叠、高鲁棒和抗噪声的多态数据存储能力,还能够更高效地模仿生物神经系统中突触的能力;本发明实现光读取能力,赋予了器件更多的操作维度,能够广泛应用于神经形态计算系统或新型存算一体系统中。
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公开(公告)号:CN115679443B
公开(公告)日:2023-06-30
申请号:CN202211421166.1
申请日:2022-11-14
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种光辅助金属有机化合物化学气相沉积装置及实现方法。本发明采用光束传输光路,对光束聚焦、分束、扩束准直和位置调节的操作,并对MOCVD系统加设入光窗口、出光窗口和惰性气体传输管道,使得光束通过入光窗口进入至反应腔中,光束产生与一种或多种反应剂分子振动模式能量相匹配的光场,引起反应剂分子对光场能量的共振吸收,产生的活性反应源输运到位于加热盘的衬底表面,实现材料的外延生长;并通过选择惰性气体的传输方向为平行方向或垂直流向衬底表面,使得携带反应剂分子的载气平行或垂直流向衬底表面,控制流畅和温场的耦合区域,实现四种不同的耦合方式,从四种耦合方式中选择一种耦合方式满足外延生长需求。
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公开(公告)号:CN115679443A
公开(公告)日:2023-02-03
申请号:CN202211421166.1
申请日:2022-11-14
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种光辅助金属有机化合物化学气相沉积装置及实现方法。本发明采用光束传输光路,对光束聚焦、分束、扩束准直和位置调节的操作,并对MOCVD系统加设入光窗口、出光窗口和惰性气体传输管道,使得光束通过入光窗口进入至反应腔中,光束产生与一种或多种反应剂分子振动模式能量相匹配的光场,引起反应剂分子对光场能量的共振吸收,产生的活性反应源输运到位于加热盘的衬底表面,实现材料的外延生长;并通过选择惰性气体的传输方向为平行方向或垂直流向衬底表面,使得携带反应剂分子的载气平行或垂直流向衬底表面,控制流畅和温场的耦合区域,实现四种不同的耦合方式,从四种耦合方式中选择一种耦合方式满足外延生长需求。
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公开(公告)号:CN114975700B
公开(公告)日:2022-10-21
申请号:CN202210914235.6
申请日:2022-08-01
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种氮化物LED的制备与无损界面分离方法。本发明采用原子辐照技术,改性在透明衬底上的二维原子晶体层,得到辐照区,在改性后的二维原子晶体层制备氮化物LED结构,再通过金属功能层固化支撑基板,从透明衬底背面入射可见光激光,定向破坏二维原子晶体层的辐照区,得到从透明衬底上分离出来的氮化物LED结构、金属功能层和支撑基板的整体结构;本发明能够实现界面无损分离,透明衬底的重复使用,与氮化物LED和Micro‑LED的外延与加工工艺兼容,应用于晶圆级氮化物LED和微米级Micro‑LED阵列的制造与分离,无需预置氮化物牺牲层,无需额外磨抛工艺;本发明节能环保、工艺简单并适于批量生产。
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公开(公告)号:CN114975699A
公开(公告)日:2022-08-30
申请号:CN202210888388.8
申请日:2022-07-27
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种全彩氮化物半导体Micro‑LED阵列的单片集成制备方法。本发明先制备复合型导电衬底,然后用绝缘模板覆盖在复合型导电衬底上制备模板衬底,将单晶石墨烯完全对齐覆盖在模板衬底上,得到包括石墨烯阵列基元的定制化模板石墨烯衬底,每个石墨烯阵列基元的蓝区石墨烯阵列元、绿区石墨烯阵列元和红区石墨烯阵列元的表面性质不同,再进行一次原位外延生长垂直结构全氮化物,一次原位得到全彩Micro‑LED阵列外延片,最后进行封装和制备透明电极,得到垂直结构且顶面出光的全彩氮化物Micro‑LED阵列;本发明无需额外的微纳加工工艺,节能环保并适于批量生产,应用于增强/虚拟现实和8K超清显示等用显示芯片。
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公开(公告)号:CN113463200B
公开(公告)日:2022-02-11
申请号:CN202110711924.2
申请日:2021-06-25
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种用于HVPE反应炉的限域生长环及氮化物晶体生长方法。本发明采用钨、钌和钼中的一种,或者采用钨、钌和钼中的一种的碳化物或氮化物的限域生长环,经过清洗、退火和激活使限域生长环的功能面具备化学活性;将限域生长环置于反应炉生长区中,生长过程中限域生长环对晶体侧向生长进行限制,从而阻止晶体的边缘生长,遏制生长过程中产生边缘效应,减少生长过程中产生的应力,最终实现厘米级GaN体晶生长;本发明实现方法简单,根据现有的技术水平能够容易实现,并大量推广;限域生长环能够经过热清洗后重复使用,节约了限域生长环的制作成本,经济实用;限域生长环能够根据不同HVPE反应炉生长区的不同结构进行优化设计,通用性强。
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公开(公告)号:CN110323308B
公开(公告)日:2020-09-08
申请号:CN201910491149.7
申请日:2019-06-06
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种利用石墨烯阻挡层制备氮化物垂直结构LED的方法。本发明通过在单晶金属衬底上表面引入高晶体质量的、具有六方晶体结构对称性的石墨烯阻挡层,利用石墨烯阻挡层的层内强共价键阻挡单晶金属衬底与氮化物LED的界面反应和金属原子的扩散,利用石墨烯阻挡层的层间弱分子力结合弛豫金属衬底和氮化物LED结构的晶格失配和热失配,通过表面活化处理石墨烯阻挡层提供氮化物LED的成核位点,进而得到高晶体质量、高发光效率的大功率氮化物垂直结构LED;本发明具有简化氮化物垂直结构LED制备工艺、提高氮化物LED的晶体质量和发光效率、提高氮化物LED散热能力、成本低、成品率高、设备简单易操作、适合产业化生产等优点。
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公开(公告)号:CN105304737B
公开(公告)日:2018-02-13
申请号:CN201510726104.5
申请日:2015-10-30
Applicant: 北京大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种可控阵列纳米线太阳能电池及其制备方法。本发明的太阳能电池包括:衬底、N型掺杂层、N型纳米线、多量子阱、P型掺杂层、绝缘材料、P型电极和N型电极;N型纳米线和多量子阱构成核‑壳结构;通过设计图形化衬底的排布和直径,可精确调控阵列纳米线的周期和直径,满足不同太阳能电池的需求;N型纳米线的表面积/体积比较大,有效提高了太阳能电池的吸收面积;阵列纳米线具有光子晶体效应,可扩展其对太阳光谱的有效吸收范围;N型纳米线的直径小于太阳光波长,具有明显的聚光效应,调节N型纳米线的尺寸,提高太阳能电池的吸收效率;工艺简单,成本低廉,能实现批量生产。
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