一种基于纳米管的荧光标记载体及其制备方法

    公开(公告)号:CN106680252B

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201611055447.4

    申请日:2016-11-25

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于纳米管的荧光标记载体及其制备方法。本发明的荧光标记载体包括:纳米管内壁、量子结构和纳米管外壁;本发明根据拟运载物的特点设计纳米管结构的尺寸,通过控制生长条件进行精确调控纳米管结构的尺寸;固定温度退火过程,保证核‑壳结构中的纳米线完全分解,并不破坏限制于纳米管内壁和纳米管外壁之间的量子结构;纳米管的荧光标记部分采用半导体量子结构,具有荧光强度高,持续时间长,光化学性质稳定,不易发生光漂白,高效率辐射复合;并且,可以采用连续宽谱激发,吸收系数大,荧光发射峰窄,无波长拖尾,可辨识度高;纳米管结构既可实现管内的运载物的荧光标记运载,还能进行传统的包裹式或结合式荧光标记运载。

    一种面向micro-LED应用的无损微纳结构的制备方法

    公开(公告)号:CN110416372B

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN201910608697.3

    申请日:2019-07-08

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种面向micro‑LED应用的无损微纳结构的制备方法。本发明通过电子束光刻实现微米或纳米级图形的转移和制备,灵活性强,适用于多种微、纳米器件结构的制备;规避了等离子体刻蚀损伤的引入对材料辐射复合效率的降低作用,有利于进一步提高于光电器件的性能;晶格选择性热化学刻相比传统的半导体刻蚀工艺,获得的位点可控的微米或纳米结构侧壁具有高度陡直性和光滑性,不受刻蚀工艺限制,能够获得不同极性面的位点可控的纳米结构;利用热化学刻蚀工艺制备micro‑LED,无刻蚀损伤引入,改善器件性能,同时兼有现有工艺,能够实现批量生产。

    一种面向micro-LED应用的无损微纳结构的制备方法

    公开(公告)号:CN110416372A

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201910608697.3

    申请日:2019-07-08

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种面向micro-LED应用的无损微纳结构的制备方法。本发明通过电子束光刻实现微米或纳米级图形的转移和制备,灵活性强,适用于多种微、纳米器件结构的制备;规避了等离子体刻蚀损伤的引入对材料辐射复合效率的降低作用,有利于进一步提高于光电器件的性能;晶格选择性热化学刻相比传统的半导体刻蚀工艺,获得的位点可控的微米或纳米结构侧壁具有高度陡直性和光滑性,不受刻蚀工艺限制,能够获得不同极性面的位点可控的纳米结构;利用热化学刻蚀工艺制备micro-LED,无刻蚀损伤引入,改善器件性能,同时兼有现有工艺,能够实现批量生产。

    一种基于纳米管的荧光标记载体及其制备方法

    公开(公告)号:CN106680252A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201611055447.4

    申请日:2016-11-25

    Applicant: 北京大学

    CPC classification number: G01N21/6428 G01N2021/6439

    Abstract: 本发明公开了一种基于纳米管的荧光标记载体及其制备方法。本发明的荧光标记载体包括:纳米管内壁、量子结构和纳米管外壁;本发明根据拟运载物的特点设计纳米管结构的尺寸,通过控制生长条件进行精确调控纳米管结构的尺寸;固定温度退火过程,保证核‑壳结构中的纳米线完全分解,并不破坏限制于纳米管内壁和纳米管外壁之间的量子结构;纳米管的荧光标记部分采用半导体量子结构,具有荧光强度高,持续时间长,光化学性质稳定,不易发生光漂白,高效率辐射复合;并且,可以采用连续宽谱激发,吸收系数大,荧光发射峰窄,无波长拖尾,可辨识度高;纳米管结构既可实现管内的运载物的荧光标记运载,还能进行传统的包裹式或结合式荧光标记运载。

    一种预后制备量子点的量子点耦合微结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN107919269B

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201711025682.1

    申请日:2017-10-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种预后制备量子点的量子点耦合微结构及其制备方法。本发明中量子点的纵向尺寸由量子阱的厚度控制,量子点组分由量子阱的组分控制,均匀性高于自组装生长的量子点结构;量子点的横向尺寸,通过选择性热蒸发的方式予以调控,能够突破外延生长极限,其横向尺寸能够远低于自组装生长的量子点;量子点在微结构中的位置通过微纳加工技术控制,能够实现量子点在微结构中的位置高度可控;本发明利用选择性热蒸发处理预后制备量子点,工艺简单,成本低廉,扩展性强,可重复性高,能够实现批量化制备,推动量子点耦合微结构的实用化进程。

    一种二维通道结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN106586944B

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201611064839.7

    申请日:2016-11-28

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种二维通道结构及其制备方法。本发明采用支架支撑隔离层,获得多种二维通道结构,适用材料范围广;各层的间距精确可控,二维通道结构设计约束少,适用众多图案;适合工业化生产,图案精度高且适用于多种工业化生产方法,制作方法简单,成本低,用途广泛;工艺约束小,适合多种工艺;可以在隔离层上设计电路,通过外接电源或电信号或光源,或通过调制不同入口压强,控制离子或分子走向,达到能量转换或药物合成等目的;图案配合适当的探测手段(如拉曼光谱,荧光谱等)能有效实现单分子探测或其他生物探测及化学探测,可配合的系统广泛。

    一种预后制备量子点的量子点耦合微结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN107919269A

    公开(公告)日:2018-04-17

    申请号:CN201711025682.1

    申请日:2017-10-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种预后制备量子点的量子点耦合微结构及其制备方法。本发明中量子点的纵向尺寸由量子阱的厚度控制,量子点组分由量子阱的组分控制,均匀性高于自组装生长的量子点结构;量子点的横向尺寸,通过选择性热蒸发的方式予以调控,能够突破外延生长极限,其横向尺寸能够远低于自组装生长的量子点;量子点在微结构中的位置通过微纳加工技术控制,能够实现量子点在微结构中的位置高度可控;本发明利用选择性热蒸发处理预后制备量子点,工艺简单,成本低廉,扩展性强,可重复性高,能够实现批量化制备,推动量子点耦合微结构的实用化进程。

Patent Agency Ranking