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公开(公告)号：CN1726429B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200380106274.9
申请日：2003-11-12
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G03B27/58 , G03B27/60 , G03B27/32 , B29C35/08 , H01L21/461
CPC classification number: G03F7/70875 , B29C33/20 , B29C43/003 , B29C43/021 , B29C43/36 , B29C43/58 , B29C2043/025 , B29C2043/3233 , B29C2043/3488 , B29C2043/5841 , B29D11/00365 , G03B27/62 , G03F7/707
Abstract: 本发明涉及一种卡盘系统(40)和调整基底(26)形状的方法，基底具有对置的第一表面(26b)和第二表面(26a)。这是通过在第一对置表面的不同区域之间建立压力差以减轻第二对置表面的结构扭曲而获得，该扭曲是由于基底上的外力负载而发生。为此目的，卡盘系统包括具有对置的第一面和第二面的卡盘体，两面之间延伸侧面。第一面包括隔开距离的第一(58)和第二(60)支承区域。第一支承区域环绕第一(52)和第二(54)凹进处。第二支承区域环绕第二凹进处，其中与第二凹进处重叠的卡盘体的部分对于具有预定波长的辐射是透明的。第二面和侧面限定外部表面。
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公开(公告)号：CN100570445C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200580017951.9
申请日：2005-06-02
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , B41J3/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B41J3/28 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0004
Abstract: 本发明涉及将一个总体积的液体分配到基片之上的方法，所述方法包括：将多个相互间隔开的液滴设置在所述基片的一个区域上，各液滴具有与之相关的单位体积，所述区域中所述液滴的聚集体积随要在此区域形成的图案的体积而变化；等等。
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公开(公告)号：CN100498209C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200580004823.0
申请日：2005-02-14
Applicant: 分子制模股份有限公司
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C43/003 , B29C2043/025 , B81C1/0046 , B81C99/004 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01N21/8422 , G03F7/70625 , G03F7/7065
Abstract: 本发明涉及提供一种方法和系统，以测量设置在一基底上的薄膜的特征。该方法包括识别在薄膜上的多个处理区域；测量多个处理区域的一子部分的特征，形成测量的特征；确定测量的特征中的一个的变化；以及根据测量的特征中的一个与子部分的其余处理区域相关的测量的特征的比较，设想变化的原因。该系统实现上述方法。
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公开(公告)号：CN100485350C
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200380108949.3
申请日：2003-12-12
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G01M19/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供一种用于确定基板的特性诸如沾染物的存在与否、形状以及两个间隔的基板之间的空间关系的方法。空间关系包括两个间隔的第一基板与第二基板之间的距离和角度方位。这种技术方法包括在第二基板上形成一个具有与之相关的面积的量的流体。把所述流体量挤压在所述第一基板与第二基板之间而使所述面积的性质发生有效的变化，从而定义变化了的性质。用传感器感测变化了的性质，并根据所述变化了的性质确定所述第一基板和第二基板的特性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101356303A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200580016113.X
申请日：2005-05-19
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： S·V·斯里尼瓦桑
IPC: C23F1/00 , H01L21/461
CPC classification number: H01L21/0337 , H01L21/3086 , H01L21/76816 , H01L21/76817
Abstract: 本发明提供了在基板上形成凹陷的方法，所述方法包括在基板上形成具有第一特征的图案化层，对第一特征结构进行修整蚀刻，形成经过修整后具有一定形状的特征，然后将所述形状反相转移到基板上。
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公开(公告)号：CN1791967A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200480013913.1
申请日：2004-04-21
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： S·V·斯里尼瓦桑
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B81C1/0046 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/002 , C03C23/0005 , C03C23/002 , G03F7/0002 , H01L21/76813 , H01L21/76817
Abstract: 本发明提供用于在基底(31)上形成有台阶的结构(34a、34b、34c)的方法，其特征在于，将在基底上设置的有台阶的结构的颠倒形状转移进入该基底。
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公开(公告)号：CN1739015A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200380108949.3
申请日：2003-12-12
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G01M19/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供一种用于确定基板的特性诸如沾染物的存在与否、形状以及两个间隔的基板之间的空间关系的方法。空间关系包括两个间隔的第一基板与第二基板之间的距离和角度方位。这种技术方法包括在第二基板上形成一个具有与之相关的面积的量的流体。把所述流体量挤压在所述第一基板与第二基板之间而使所述面积的性质发生有效的变化，从而定义变化了的性质。用传感器感测变化了的性质，并根据所述变化了的性质确定所述第一基板和第二基板的特性。
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公开(公告)号：CN106030756B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201480071488.5
申请日：2014-12-31
Applicant: 佳能纳米技术公司
Inventor： M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·M·金凯德 , 崔炳镇 , S·V·斯里尼瓦桑
IPC: H01L21/027
Abstract: 本发明提供用于局部区域压印的系统及方法，以使压印模板非对称地调整以容许在与该模板中心间隔开的位置处与基板上的一局部区域初始地接触。
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公开(公告)号：CN106030756A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201480071488.5
申请日：2014-12-31
Applicant: 佳能纳米技术公司
Inventor： M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·M·金凯德 , 崔炳镇 , S·V·斯里尼瓦桑
IPC: H01L21/027
Abstract: 本发明提供用于局部区域压印的系统及方法，以使压印模板非对称地调整以容许在与该模板中心间隔开的位置处与基板上的一局部区域初始地接触。
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