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公开(公告)号：CN101060995A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200580039772.5
申请日：2005-11-14
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: B41N3/00 , B05D5/08 , B05D3/06 , B41F19/00 , B41D5/00 , C09D183/04 , C09D133/12 , B41F17/00 , B41K3/02
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明揭示了一种方法和组合物，其特征在于能够改进湿润特性，同时具有对于基板和模具进行选择性粘合和脱模的特性，在所述基板与模具之间具有压印材料。该方法包括用一定体积的含表面活性剂的溶液涂覆模具表面。溶液中的表面活性剂包含基本上由许多含氟分子组成的疏水性组分。所述组合物的特征是能够改进对基板和模具的选择性粘合和脱模的特性，在基板与模具之间具有压印材料。所述组合物可帮助压印材料分成两部分，一部分是富含表面活性剂组分的子部分，另一部分是位于所述富含表面活性剂组分的子部分与所述基板之间的缺少表面活性剂组分的子部分。还揭示了利用了所述组合物特性的方法。
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公开(公告)号：CN101019066A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200580017951.9
申请日：2005-06-02
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , B41J3/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B41J3/28 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0004
Abstract: 本发明涉及将一个总体积的液体分配到基片之上的方法，所述方法包括：将多个相互间隔开的液滴设置在所述基片的一个区域上，各液滴具有与之相关的单位体积，所述区域中所述液滴的聚集体积随要在此区域形成的图案的体积而变化；等等。
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公开(公告)号：CN101060995B
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200580039772.5
申请日：2005-11-14
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: B41N3/00 , B05D5/08 , B05D3/06 , B41F19/00 , B41D5/00 , C09D183/04 , C09D133/12 , B41F17/00 , B41K3/02
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明揭示了一种方法和组合物，其特征在于能够改进湿润特性，同时具有对于基板和模具进行选择性粘合和脱模的特性，在所述基板与模具之间具有压印材料。该方法包括用一定体积的含表面活性剂的溶液涂覆模具表面。溶液中的表面活性剂包含基本上由许多含氟分子组成的疏水性组分。所述组合物的特征是能够改进对基板和模具的选择性粘合和脱模的特性，在基板与模具之间具有压印材料。所述组合物可帮助压印材料分成两部分，一部分是富含表面活性剂组分的子部分，另一部分是位于所述富含表面活性剂组分的子部分与所述基板之间的缺少表面活性剂组分的子部分。还揭示了利用了所述组合物特性的方法。
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公开(公告)号：CN100572032C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200480016523.X
申请日：2004-06-10
Applicant: 分子制模股份有限公司 , 得克萨斯州大学系统董事会
IPC: B29C59/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 本发明提供一种减少基片上的贴合区与模具的图案之间的粘合的方法，其中所述模具有选择地与贴合区发生接触。该方法的特点在于在基片上形成贴合材料，并将整合材料与表面接触。整理由贴合材料形成一整理层。整理层具有第一和第二子部分，第一子部分被固化，第二子部分对于表面具有第一吸引力，对于第一子部分具有第二吸引力。第一吸引力比第二吸引力大。在此方式下，在模具从整理层中分离后，第二子部分的子集保持与模具接触，从而减少了形成在整理层中的图案被破坏的可能性。
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公开(公告)号：CN100482307C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200480028560.2
申请日：2004-09-24
Applicant: 分子制模股份有限公司 , 得克萨斯州大学系统董事会
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S425/06 , Y10S425/815 , Y10S438/909
Abstract: 本发明涉及一种通过减少在一垫片上粘性流体层中的气泡来减少刻印层上图案变形的方法。为此，该方法包括改变靠近粘性流体的气体的传送状况。具体来说，在复制图案的垫片附近的环境中充满相对于所放置的粘性流体或者具有高度溶解性、或者具有高度分散性、或者两者兼有的气体。另外，或者作为上述使环境充满气体的替代方案，可减小环境的压力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1859959A
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN200480028560.2
申请日：2004-09-24
Applicant: 分子制模股份有限公司 , 得克萨斯州大学系统董事会
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S425/06 , Y10S425/815 , Y10S438/909
Abstract: 本发明涉及一种通过减少在一垫片上粘性流体层中的气泡来减少刻印层上图案变形的方法。为此，该方法包括改变靠近粘性流体的气体的传送状况。具体来说，在复制图案的垫片附近的环境中充满相对于所放置的粘性流体或者具有高度溶解性、或者具有高度分散性、或者两者兼有的气体。另外，或者作为上述使环境充满气体的替代方案，可减小环境的压力。
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公开(公告)号：CN101115971B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200580040751.5
申请日：2005-11-21
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G01B11/26
CPC classification number: G03F9/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7003 , G03F9/703 , G03F9/7042 , G03F9/7049 , G03F9/7076
Abstract: 本发明的特征在于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统和方法，这两个坐标系可以是模具和其中采用模具来生成图案的衬底。为此，感测两坐标系之间在多个点处的相对对准以确定它们之间间的相对空间参数。相对空间参数包括相对面积和相对形状。
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公开(公告)号：CN100570445C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200580017951.9
申请日：2005-06-02
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , B41J3/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B41J3/28 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0004
Abstract: 本发明涉及将一个总体积的液体分配到基片之上的方法，所述方法包括：将多个相互间隔开的液滴设置在所述基片的一个区域上，各液滴具有与之相关的单位体积，所述区域中所述液滴的聚集体积随要在此区域形成的图案的体积而变化；等等。
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公开(公告)号：CN101115971A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200580040751.5
申请日：2005-11-21
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G01B11/26
CPC classification number: G03F9/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7003 , G03F9/703 , G03F9/7042 , G03F9/7049 , G03F9/7076
Abstract: 本发明的特征在于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统和方法，这两个坐标系可以是模具和其中采用模具来生成图案的衬底。为此，感测两坐标系之间在多个点处的相对对准以确定它们之间的相对空间参数。相对空间参数包括相对面积和相对形状。
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公开(公告)号：CN1805838A
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN200480016523.X
申请日：2004-06-10
Applicant: 分子制模股份有限公司 , 得克萨斯州大学系统董事会
IPC: B29C59/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 本发明提供一种减少基片上的贴合区与模具的图案之间的粘合的方法，其中所述模具有选择地与贴合区发生接触。该方法的特点在于在基片上形成贴合材料，并将整合材料与表面接触。整理由贴合材料形成一整理层。整理层具有第一和第二子部分，第一子部分被固化，第二子部分对于表面具有第一吸引力，对于第一子部分具有第二吸引力。第一吸引力比第二吸引力大。在此方式下，在模具从整理层中分离后，第二子部分的子集保持与模具接触，从而减少了形成在整理层中的图案被破坏的可能性。
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