公开(公告)号：CN106030756B

公开(公告)日：2021-01-22

申请号：CN201480071488.5

申请日：2014-12-31

Applicant: 佳能纳米技术公司

Inventor： M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 ,  M·M·金凯德 ,  崔炳镇 ,  S·V·斯里尼瓦桑

IPC: H01L21/027

Abstract: 本发明提供用于局部区域压印的系统及方法，以使压印模板非对称地调整以容许在与该模板中心间隔开的位置处与基板上的一局部区域初始地接触。

公开(公告)号：CN106030756A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201480071488.5

申请日：2014-12-31

Applicant: 佳能纳米技术公司

Inventor： M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 ,  M·M·金凯德 ,  崔炳镇 ,  S·V·斯里尼瓦桑

IPC: H01L21/027

Abstract: 本发明提供用于局部区域压印的系统及方法，以使压印模板非对称地调整以容许在与该模板中心间隔开的位置处与基板上的一局部区域初始地接触。