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公开(公告)号：CN104238273A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201310245119.0
申请日：2013-06-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种工件台安全防护装置，包括设置于工作平面上方的硅片台和粗动台，还包括设于工作平面四周的运动限位机构以及固定于粗动台上的防撞缓冲机构，其中，运动限位机构包括X向限位机构和Y向限位机构，X向限位机构和Y向限位机构分别包括限位边条、支撑导向机构以及缓冲器，限位边条固定于支撑导向机构上，并沿X向或Y向运动，缓冲器固定于限位边条上；防撞缓冲机构包括碰撞边框以及弹性构件，弹性构件的两端分别连接至碰撞边框和粗动台。本发明利用运动限位机构限制工件台的运动范围，防止控制失效时工件台运动出工作平面，同时采用防撞缓冲机构减小工件台之间、工件台与碰撞边框之间发生碰撞时对工件台内部装置及部件的冲击。
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公开(公告)号：CN103777303A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210402585.0
申请日：2012-10-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种长条镜安装装置，设置于光刻机工件台的主基板下表面上，该长条镜安装装置通过在长条镜的中间段施加作用力，从而改变了长条镜的受力状态，使长条镜的最小变形处和最大变形处的差值变小，从而起到了矫正长条镜的平面度的作用，提高了长条镜的水平精度，该长条镜安装装置无需很高的长条镜加工精度，降低了长条镜的加工难度，也无需增加长条镜的厚度以克服其自重所带来的形变，大大节省了长条镜的材料耗费，减少了成本，并且长条镜水平精度的提高也使工件台激光干涉仪的Z向测量精度得以提高。
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公开(公告)号：CN103294078A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210041402.7
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D23/19
Abstract: 本发明提出一种模块化温度控制装置，包括依次连接的具有电泵控制单元的介质驱动电泵、温度控制单元和多个介质冷却模块，所述介质冷却模块包括：相互连接的介质冷却基板模块上板和介质冷却基板模块下板；快速连接接头，设置于所述介质冷却基板模块下板的侧面，其中，所述介质冷却基板模块下板具有四方双螺旋型内腔，其四周具有四个流体出入口用于连接所述快速连接接头。本发明提出的模块化温度控制装置，基于模块化的设计思想，将测量系统中的热交换界面设计成模块化介质冷却基板，便于快捷安装和配置的，由基本模块组装成符合工况所需的结构形式，适合光刻机中多系统冷却的工程需求。
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公开(公告)号：CN102866587A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201110191799.3
申请日：2011-07-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种工件台，包括第一承片台、第一X向线缆、第一Y向线缆、第一Y向滑台、第二Y向滑台和第一线缆交换装置。第一X向线缆的一端固定在工件台上。第一Y向线缆的一端固定在第一承片台上。第一Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第二Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第一线缆交换装置连接第一X向线缆和第一Y向线缆的另一端，选择性地跟随第一Y向滑台或第二Y向滑台沿Y向运动。本发明提出的工件台可极大地减小电缆、管路等配套设施工作过程中产生的扰动对工件台运动定位精度的影响，缩短双台交换的时间，提高光刻生产效率。
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公开(公告)号：CN102207240A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN201010137226.8
申请日：2010-03-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种具有减振装置的精密运动平台。该精密运动平台包括基座、微动台、减振装置、水平向电机和垂向电机。减振装置的个数为三个及三个以上，呈多边形形态放置在基座和微动台之间，用以支撑微动台。水平向电机和垂向电机的个数三个及三个以上，放置在基座和微动台之间，平均分布在一圆周路径上，与减振装置错位放置，用以在水平方向上和垂直方向上主动控制微动台的位置或速度。本发明提出的减振装置的精密运动平台将减振装置与电机分开设计，提高了设计自由度，降低成本。减振装置的结构中应用了空气静压轴承，不需要间隙密封，从而降低制造精度要求，制造成本下降。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101614964B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200910056279.4
申请日：2009-08-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
Abstract: 本发明公开了一种硅片台双台交换曝光系统，包括基台、处于不同工位的2个硅片台、相互垂直设置的X梁和Y梁、分别对称设置于基台两侧的2个X向直线导轨和2个Y向直线导轨、及驱动与夹紧单元；X梁和Y梁沿直线导轨自由滑动，Y梁由错层结构的双侧直线导轨和连接架组成，X梁设置在连接架下方；直线导轨和双侧直线导轨在同一水平高度上；驱动与夹紧单元用于驱动并携带硅片台移动。本发明硅片台交换位置时，至少1个硅片台同时被X梁和Y梁上的驱动与夹紧单元承载，从而实现从X梁至Y梁的转移，或者从Y梁至X梁的转移。本发明流程简单，交换效率高，工位交换时硅片台没有脱离导轨，保证了其位置精度，且两硅片台也不会发生碰撞。
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公开(公告)号：CN101581347A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910053600.3
申请日：2009-06-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: F16F15/023 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种减振支撑装置及采用该减振支撑装置的光刻机。该减振支撑装置包括支撑板、与该支撑板相对设置的气浮块、主气缸，该支撑板包括基板、设置在该基板四周的侧壁和设置在该基板中心位置的导向孔，该气浮块包括挡板、设置在该挡板四周的侧壁和设置在该挡板中心位置的导向杆，该导向杆和该导向孔相配合形成一静压空气轴承，该支撑板的侧壁和该气浮块的侧壁通过波纹管密封连接，该支撑板、该气浮块、该波纹管和该主气缸所围空间内充满压力气体，形成一空气弹簧。本发明中装配在光刻机下的减振支撑装置不会产生旋转运动、制造成本低。
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公开(公告)号：CN101526118A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200910045207.X
申请日：2009-01-13
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: F16F9/04 , F16F15/023
Abstract: 本发明公开了一种减振支撑装置，包括一气缸活塞机构，所述气缸活塞机构包括一气缸，一活塞，以及连接所述气缸和所述活塞的一金属波纹管；所述气缸还包括至少一导向杆，所述活塞还包括与所述导向杆相配合的一导向孔；所述活塞沿着所述导向杆，相对所述气缸运动。所述减振支撑装置还包括至少一万向连杆和至少一柔性立柱，所述万向连杆位于所述活塞的上部，所述柔性立柱位于所述气缸活塞机构的外侧。本发明的装置实现了气缸和活塞的完全密封，可适用于有真空度要求的对振动敏感的设备。
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公开(公告)号：CN100504612C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200510112113.1
申请日：2005-12-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种精密定位和调整工装，包括盖板(2)、垫片(5)、定位轴(6)，还包括平板(1)、圆环(3)和Rz调整装置(4)，圆环(3)由具有不同直径的阶梯状圆环组成并可通过其中一圆环的圆柱面及平面定位与平板(1)紧固安装在一起，Rz调整装置(4)安装在平板的槽面(104)中，定位轴(6)通过平板上销孔(101)定位及螺纹与盖板连接安装在平板上，盖板(2)通过螺纹连接安装在平板上，垫片(5)安装在定位轴(6)与平板(1)之间，盖板(2)、垫片(5)、定位轴(6)、和与它们连接最近的平板及圆环组成一套调节模块。有益作用是，保证了X、Y精度和Rz精度的定位精度。
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公开(公告)号：CN100504106C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200710046060.7
申请日：2007-09-17
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种气缸活塞减振装置，其包括一第一气缸以及与所述第一气缸相互咬合的第一活塞，所述第一活塞可以在所述第一气缸腔体内部活动；所述气缸活塞减振装置还包括一设置于所述第一气缸腔体内并位于第一气缸以及第一活塞之间的偏摆机构，其中，所述气缸活塞减振装置的偏摆机构进一步包括一个第二气缸和一个柔性活塞长杆，所述第二气缸装配在第一活塞上或装配在第一气缸腔体内壁上，所述柔性活塞长杆一端置于第二气缸内并与第二气缸相互咬合且可在第二气缸腔体内活动，另一端与第二气缸相对应的装配在第一气缸腔体内壁上或装配在第一活塞上。本发明的气缸活塞减振装置可实现两自由度方向的减振，组合使用还可实现六自由度方向的减振。
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