公开(公告)号：CN205748332U

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201620552831.4

申请日：2016-06-08

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  上海计测工程设备监理有限公司

Inventor： 雷李华 ,  邵力 ,  李源 ,  魏佳斯 ,  蔡潇雨 ,  傅云霞 ,  张波

IPC: G01B21/04

Abstract: 本实用新型为一种微纳米标准样板，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。

公开(公告)号：CN210922540U

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201921943497.5

申请日：2019-11-12

Applicant: 上海市计量测试技术研究院

Inventor： 吴俊杰 ,  李源 ,  王阳 ,  傅云霞 ,  蔡潇雨 ,  魏佳斯 ,  周勇 ,  孙恺欣

IPC: G01B11/24 ,  G01B11/00

Abstract: 本实用新型涉及一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置，在利用本实用新型的一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置对样品表面参数进行测量时，开启激光光源并对X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器进行校正之后，将测端球沿被测样品的表面接触扫描；测端球通过测针以及中心连接部带动四棱锥反射镜产生位置变化，从而使得四棱锥反射镜的三个反射面反射至X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器上的光斑产生偏移量；根据光斑所产生的偏移量可以得出测端球与样品表面接触点的X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的坐标参数。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利