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公开(公告)号：CN119024655A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410573611.9
申请日：2024-05-10
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种含金属的光刻胶显影剂组合物包括有机溶剂和磺酰亚胺类化合物。一种利用显影剂组合物形成图案的方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物；沿着衬底的边缘涂布用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物；对所得物进行干燥和加热以在衬底上形成含金属的抗蚀剂层；对含金属的抗蚀剂层进行曝光；以及涂布含金属的光刻胶显影剂组合物，并对所述含金属的光刻胶显影剂组合物进行显影。
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公开(公告)号：CN119002177A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410320656.5
申请日：2024-03-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种抗蚀剂面层组合物以及使用所述抗蚀剂面层组合物来形成图案的方法。所述抗蚀剂面层组合物包括共聚物以及溶剂，所述共聚物包含由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元及包括由化学式M‑3A、化学式M‑3B、化学式M‑3C及化学式M‑3D表示的结构单元中的至少一者的第三结构单元。
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公开(公告)号：CN118963076A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202410593379.5
申请日：2024-05-14
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物以及一种包括使用所述组合物来移除边珠的步骤的形成图案的方法及形成图案的系统。所述用于移除边珠的组合物包括：添加剂，包含选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的至少一者；羧酸类化合物；以及有机溶剂，其中选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的所述至少一者对羧酸类化合物的混合重量比为约9:1到约1.2:1。
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公开(公告)号：CN117795049A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202280055024.X
申请日：2022-07-04
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组成物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组成物来去除边珠的步骤，且所述组成物包括有机溶剂以及具有大于或等于30平方埃的AlogP3的化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109478015A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201680087729.4
申请日：2016-10-18
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/033 , H01L21/027 , H01L21/324 , H01L21/02 , C08L65/00
Abstract: 本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基或腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN106610567A
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN108027774A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680050701.3
申请日：2016-09-02
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G06F12/0813 , G06F13/14 , H04W28/14 , H04W28/24
CPC classification number: H04L63/1416 , G06F12/0813 , G06F2212/154 , G06F2212/60 , G06F2212/62 , H04L43/028 , H04L43/08 , H04L43/0823 , H04L47/2441 , H04W84/105 , H04W84/12
Abstract: 提供了一种用于处理数据的装置和方法。用于由终端处理数据的所述方法，该方法包括：识别用于分组的多个检查类型；基于预定标准，从用于分组的多个检查类型中确定至少一个检查类型；并且处理所确定的用于分组的至少一个检查类型。
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公开(公告)号：CN113744775B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202110041714.7
申请日：2021-01-13
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了存储器装置和包括存储器装置的存储器模块。所述存储器装置包括与多个存储器存储体通信的外围电路。所述多个存储体中的每个包括：存储器单元阵列，包括多个存储器单元；行解码器，通过多条字线与所述多个存储器单元连接；位线感测放大器，通过包括第一位线和第二位线的多条位线与所述多个存储器单元连接；和列解码器，被配置为将位线感测放大器与外围电路连接。存储器单元阵列包括：与第一位线连接的第一区段以及与第二位线连接的第二区段，并且第一区段和第二区段针对与行相关的错误彼此独立。
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公开(公告)号：CN111090387B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201910952640.5
申请日：2019-10-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G06F3/06
Abstract: 提供了存储模块、操作其的方法以及操作控制其的主机的方法。所述存储模块包括动态随机存取存储器(DRAM)装置、非易失性存储器装置和高速缓冲存储器。操作所述存储模块的方法包括：响应于外部设备进入页面故障模式，将存储在所述非易失性存储器装置中的目标数据复制到所述高速缓冲存储器；从所述外部设备接收第一刷新命令；以及响应于所述第一刷新命令，在第一刷新参考时间内执行与所述DRAM装置相关联的第一刷新操作，并且将复制到所述高速缓冲存储器的所述目标数据移动到所述DRAM装置。
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