集成电路的后段制程金属化叠层中的选择性互连

    公开(公告)号:CN112864128A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202011007713.2

    申请日:2020-09-23

    Abstract: 一种集成电路(IC)器件结构,包括:主芯片,具有器件层和在器件层的相邻第一和第二区域之上的一个或多个第一金属化层级。第一金属化层级互连到器件层。互连芯粒在第一区域内的第一金属化层级之上。互连芯粒包括多个第二金属化层级,以及多个第三金属化层级,在第二区域内的第一金属化层级之上并且与互连芯粒相邻。互连特征尺寸或组成中的至少一个在第二金属化层级中的一个第二金属化层级与第三金属化层级中相邻的一个第三金属化层级之间不同。

    微电子组件
    22.
    发明公开
    微电子组件 审中-公开

    公开(公告)号:CN111902933A

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN201980021409.2

    申请日:2019-05-14

    Abstract: 本文公开了微电子组件、相关的设备和方法。在一些实施例中,微电子组件可以包括:具有第一表面和相对的第二表面的封装衬底;嵌入在第一电介质层中的第一管芯,第一管芯具有第一表面和相对的第二表面,其中,第一管芯的第一表面通过第一互连耦合到封装衬底的第二表面;嵌入在第二电介质层中的第二管芯,第二管芯具有第一表面和相对的第二表面,其中,第二管芯的第一表面通过第二互连耦合到第一管芯的第二表面;以及嵌入在第三电介质层中的第三管芯,第三管芯具有第一表面和相对的第二表面,其中,第三管芯的第一表面通过第三互连耦合到第二管芯的第二表面。

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