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公开(公告)号:CN1473284A
公开(公告)日:2004-02-04
申请号:CN02802973.9
申请日:2002-12-06
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F7/36 , H01L21/3205 , H01L21/288 , H05K3/00 , C25D5/02 , H05B33/10
CPC classification number: H01L21/76838 , C25D5/022 , C25D7/12 , H01L21/0272 , H01L21/0274 , H01L21/288 , H01L21/31127 , H01L21/31133
Abstract: 本发明的目的在于提供可以减少制造成本的掩膜形成方法。一种为了采用液状的图案材料形成所需的图案,在被处理部件的表面形成掩膜的方法,其构成为具有:对整个被处理部件表面涂布抗蚀剂的第1工序(S152)、干燥已涂布的抗蚀剂的第2工序(S154)、通过用光刻法去除图案形成部分的抗蚀剂而进行图案形成的第3工序(S156)、和加热处理抗蚀剂的第4工序(S158)。
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公开(公告)号:CN1404624A
公开(公告)日:2003-03-19
申请号:CN01805391.2
申请日:2001-12-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L21/306
CPC classification number: G03F7/7075 , H01L21/0272 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L21/288 , H01L21/32051 , H01L21/6715 , H01L21/76838 , H01L21/76885 , H05K3/048
Abstract: 图案材料供给部(300),具备有使液态图案材料(312)成为雾状微粒子进行喷雾的莲喷头(310)。在莲喷头(310)的下方,设有配置工件(20)的处理台(318)。在工件(20)的表面具有设有图案形成用开口进行了疏水处理的掩膜。工件(20),通过处理台(318)由直流电源(328)外加电压,利用静电引力吸引液态图案材料(312)的微粒子。处理台(318),通过旋转,使附着在掩膜表面的液态图案材料填充到设在掩膜上的图案形成用开口部,同时能由内置的加热器(326)加热固化液态图案材料。
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公开(公告)号:CN1118934A
公开(公告)日:1996-03-20
申请号:CN95109198.0
申请日:1995-06-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67069
Abstract: 为使加工或检验晶片或基底的步骤更合理并提高半导体装置或液晶面板的生产效率,在该晶片或基底被传送经过的通路中的一个位置上设置用于在常压或接近常压的压力下在预定的放电气体中产生气体放电的单元,使该晶片的表面被暴露于由气体放电发生单元所产生的放电气体的激发和活化形态之下,适当地选择所述放电气体的类型,按在线方式完成对所述晶片的表面处理,例如抛光、清洗和提供亲水性。
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公开(公告)号:CN112289535B
公开(公告)日:2024-05-07
申请号:CN202010713317.5
申请日:2020-07-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01F1/33 , H01F3/08 , H01F27/255 , H01F41/02
Abstract: 提供磁性粉末及其制造方法以及包含所述磁性粉末的压粉磁芯及线圈部件,该磁性粉末在制造压粉磁芯时能够制造磁导率高且容易进行阻抗的调整的压粉磁芯。磁性粉末的特征在于,具有:芯部,所述芯部包含软磁性材料;基底层,设置于所述芯部的表面,并包含所述软磁性材料的氧化物,所述基底层的平均厚度为0.1nm以上且小于10nm;以及绝缘层,设置于所述基底层的表面,并以有机硅氧烷化合物作为主材料,所述有机硅氧烷化合物的C/Si原子比为0.01以上且2.00以下。
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公开(公告)号:CN107104667B
公开(公告)日:2022-08-30
申请号:CN201710068565.7
申请日:2017-02-08
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03L7/26
Abstract: 本发明涉及原子室及其制造方法、量子干涉装置、原子振荡器、电子设备以及移动体。课题:提供一种能够具有高耐热性的原子室。解决手段:一种原子室,其为在内部填充碱金属的原子室,其包含:由包含具有极性基团的化合物的材料形成的内壁;涂布于上述内壁的、由具有与上述极性基团发生消除反应的官能团和非极性基团的第1分子形成的第1涂层;以及涂布于上述第1涂层的、由非极性的第2分子形成的第2涂层,上述第2分子为聚丙烯、聚乙烯或聚甲基戊烯。
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公开(公告)号:CN108928118B
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201810288553.X
申请日:2018-04-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种对被形成在表面(喷嘴面(23))上的防液膜(40)的劣化进行抑制的喷嘴板(21)、液体喷射头(记录头(3))、液体喷射装置(打印机(1))以及喷嘴板(21)的制造方法。喷嘴板(21)在一个面(喷嘴面(23))侧开口有喷射液体的喷嘴(22),所述喷嘴板(21)的特征在于,在一个面(喷嘴面(23))侧形成有包含交联的氟树脂的防液层(40)。
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公开(公告)号:CN108471311A
公开(公告)日:2018-08-31
申请号:CN201810153718.2
申请日:2018-02-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H03L7/26 , G01K7/245 , H01L29/66977 , G02F1/0126
Abstract: 本发明提供量子干涉装置、原子振荡器、电子设备以及移动体。量子干涉装置具有:原子室,其具有封入有碱金属的内部空间;第1光源部,其射出共振光对,所述共振光对彼此向相同方向进行圆偏振,对碱金属进行激励;第2光源部,其射出调整光;以及受光部,所述原子室具有:第1层,其设置在所述原子室的包围所述内部空间的内壁面,包含离子化趋势比所述碱金属低的金属氧化物即第1化合物衍生的化合物;第2层,其设置在所述第1层上,包含具有与所述第1化合物衍生的化合物进行脱离反应的官能团的第2化合物衍生的化合物;以及第3层,其设置在所述第2层上,包含非极性的第3化合物衍生的化合物。
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公开(公告)号:CN104786655B
公开(公告)日:2017-04-26
申请号:CN201510029246.6
申请日:2015-01-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J11/002 , D06P5/30
Abstract: 本发明提供能够在通过等离子体照射来进行介质的表面改性的情况下抑制介质的损伤以及变色中的至少一个的喷墨打印机以及印刷方法。本发明的一个方式的喷墨打印机具备:输送机构,其沿着第一方向输送介质;以及滑架,其具有等离子体照射机构和打印头,等离子体照射机构将在放电部分产生的等离子体从等离子体照射口射出并照射至介质的至少一部分,打印头向被等离子体照射了的介质的部位排出墨水,滑架沿着与第一方向相交的第二方向移动,等离子体照射机构相对于打印头被设置于第二方向的一侧,配置成等离子体照射机构的放电部分不与介质接触。
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公开(公告)号:CN105223738A
公开(公告)日:2016-01-06
申请号:CN201510385854.0
申请日:2015-06-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1339
Abstract: 本发明提供能够使防湿性提高的电光装置和电子设备。具有元件基板(10);和以与元件基板(10)介由密封件(14)而相对的方式配置的相对基板(20),配置为从元件基板(10)以及相对基板(20)的侧面(10b、20b)到密封件(14)的长度(L)相对于元件基板(10)与相对基板(20)的间隔的长度(H)之比为50以上且300以下,以覆盖密封件(14)以及元件基板(10)和相对基板(20)的至少一部分侧面(10b、20b)的方式设置有阻挡膜(41)。
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公开(公告)号:CN104972746A
公开(公告)日:2015-10-14
申请号:CN201510160664.9
申请日:2015-04-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/045
CPC classification number: B41J11/002 , B41J11/0015 , B41M5/5209 , B41M7/0018 , B41M7/0045
Abstract: 本发明提供一种喷墨打印机,通过等离子体照射进行介质的表面改性的情况下能抑制介质的损伤及变色的至少一项。具备:输送机构,其向第1方向输送介质;托架,具有将由放电部分产生的等离子体从等离子体照射口射出并照射介质的至少一部分的等离子体照射机构、和向照射有等离子体的介质的部位从喷嘴喷出油墨的打印头,并向与第1方向相交的第2方向移动,等离子体照射机构相对于打印头设置于第2方向的一侧,在等离子体照射口与打印头之间设有分隔板,当将从介质的表面至喷嘴的距离设为A,将从介质的表面至等离子体照射口的距离设为B,将从介质的表面至分隔板的下端的距离设为C时,满足条件式:C<A≤B。
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