基板的等离子处理装置

    公开(公告)号:CN101277580B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200810090518.3

    申请日:2008-03-26

    Abstract: 本发明提供一种在平行平板型等离子处理装置中具有适于基板加工的离子能量,还可使该离子能量宽度减小来精细控制加工形状的基板的等离子处理装置。等离子处理装置构成为包括:内部保持真空的室;配置于其内部、并构成为在主面上保持要处理的基板的RE电极;以及与该RF电极相对配置的对置电极;用于对所述RE电极外加规定频率的RE电压的RE电压外加装置;以及用于对所述RF电极外加规定的脉冲电压以便其与所述RF电压叠加的脉冲电压外加装置。所述脉冲电压外加装置具有调整所述脉冲电压的所述外加的定时、并设定不外加所述脉冲电压的停止时间的控制机构。

    半导体发光装置
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104465970A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410407696.X

    申请日:2014-08-19

    CPC classification number: H01L33/405 H01L33/385 H01L33/42 H01L33/502

    Abstract: 有关实施方式的半导体发光装置具备包含发光层在内的层叠体、设在上述层叠体之上的第1及第2电极、将上述层叠体、上述第1及第2电极覆盖的绝缘层、电连接在上述第1电极上的第1再配线、电连接在上述第2电极上的第2再配线、和将上述层叠体的侧面覆盖的遮光部。上述第1再配线、上述第2再配线及上述遮光部在与上述绝缘层接触的面上包含对于上述发光层的放射光的反射率为80%以上的部件。

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