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公开(公告)号：CN100516121C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200480015571.7
申请日：2004-06-04
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
Abstract: 本发明的目的是提供可以有效地去除钯的精制方法以及使用该法的电致发光材料和电致发光元件。本发明涉及一种电致发光材料的精制方法，其中用含有磷的材料对作为杂质含有钯的电致发光材料进行处理，将钯除去。
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公开(公告)号：CN106957410A
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201610859491.4
申请日：2010-05-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够容易地多层化、并且在如树脂那样的不能在高温下进行处理的基板中也能够使用的有机电子材料及含有该有机电子材料的油墨组合物、使用该有机电子材料或者该油墨组合物形成的有机薄膜、使用了该有机薄膜的具有比以往更优良的发光效率、发光寿命的有机电子元件、有机EL元件。本发明提供：一种有机电子材料，其特征在于，其含有聚合物或低聚物，所述聚合物或低聚物具有在3个方向以上分支的结构，并且具有至少一个聚合性取代基；含有该有机电子材料的油墨组合物；使用所述有机电子材料制作而成的有机薄膜。本发明还提供含有该有机薄膜的有机电子元件、有机电致发光元件。
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公开(公告)号：CN103333661A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201310241712.8
申请日：2009-12-10
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/3105
CPC classification number: H01L21/31053 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂、第2添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，式中，X11、X12和X13各自独立地为氢原子或1价的取代基，其中，所述第2添加剂为饱和单羧酸。
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公开(公告)号：CN102766407A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201210212508.9
申请日：2009-04-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/3105
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1463 , H01L21/30625 , H01L21/31053 , H01L21/31055 , H01L21/76224
Abstract: 本发明提供一种研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法。本发明涉及含有水、4价金属氢氧化物粒子及添加剂的研磨剂，该添加剂含有阳离子性的聚合物和阳离子性的多糖类中的至少一者。本发明提供一种在使绝缘膜平坦化的CMP技术中可以高速且低研磨损伤地研磨绝缘膜、且氧化硅膜与停止膜的研磨速度比高的研磨剂。而且提供一种保管该研磨剂时的研磨剂组件及使用有该研磨剂的基板研磨方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102576812A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080045523.8
申请日：2010-09-30
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H01L51/0043 , C08G61/12 , C08G61/123 , C08G65/18 , C08G73/026 , C08G2261/1644 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3246 , C08G2261/342 , C08L63/00 , C09K11/06 , C09K2211/1433 , H01L51/0035 , H01L51/0039 , H01L51/5056 , H01L51/5088 , H05B33/14
Abstract: 本发明提供可以制作能够降低驱动电压、进行稳定的长时间驱动的有机电子元件的有机电子用材料。该有机电子用材料是至少含有离子化合物和具有电荷传输性单元的化合物(以下称为电荷传输性化合物)的有机电子用材料，前述离子化合物由抗衡阳离子和抗衡阴离子组成，前述抗衡阳离子为H+、碳阳离子、氮阳离子、氧阳离子、具有过渡金属的阳离子中的任1种或2种以上。
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公开(公告)号：CN102449799A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080024331.9
申请日：2010-05-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H01L51/0035 , C08G61/12 , C08G61/124 , C08G73/0266 , C08G2261/131 , C08G2261/132 , C08G2261/135 , C08G2261/1424 , C08G2261/1434 , C08G2261/1644 , C08G2261/312 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3241 , C08G2261/354 , C08G2261/364 , C08G2261/411 , C08G2261/512 , C08G2261/76 , C09D11/52 , C09D165/00 , C09K11/06 , C09K2211/1425 , C09K2211/1433 , C09K2211/1466 , H01L51/0003 , H01L51/0036 , H01L51/0037 , H01L51/0039 , H01L51/0043 , H01L51/0097 , H01L51/5012 , H01L51/5056 , H01L51/5088 , H01L51/5221 , H01L2251/5338
Abstract: 本发明提供能够容易地多层化、并且在如树脂那样的不能在高温下进行处理的基板中也能够使用的有机电子材料及含有该有机电子材料的油墨组合物、使用该有机电子材料或者该油墨组合物形成的有机薄膜、使用了该有机薄膜的具有比以往更优良的发光效率、发光寿命的有机电子元件、有机EL元件。本发明提供：一种有机电子材料，其特征在于，其含有聚合物或低聚物，所述聚合物或低聚物具有在3个方向以上分支的结构，并且具有至少一个聚合性取代基；含有该有机电子材料的油墨组合物；使用所述有机电子材料制作而成的有机薄膜。本发明还提供含有该有机薄膜的有机电子元件、有机电致发光元件。
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公开(公告)号：CN102311532A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110215028.3
申请日：2006-05-18
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C08G61/00 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1466 , C09K2211/1475 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0077 , H01L51/0085 , H01L51/5012
Abstract: 本发明以提供可缩短反应时间的共轭聚合物的制造方法为目的。本发明的共轭聚合物的制造方法，其特征为，其是通过铃木偶合制造共轭聚合物的方法，该方法使用微波照射，且该微波的最大输出功率为100～500W，反应时间为10～240分钟，反应温度为70～150℃。共轭聚合物优选为作为有机电子材料使用的聚合物，更优选为作为电致发光材料使用的聚合物。所述电致发光材料可以用于电致发光元件。
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公开(公告)号：CN1798794A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200480015571.7
申请日：2004-06-04
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
Abstract: 本发明的目的是提供可以有效地去除钯的精制方法以及使用该法的电致发光材料和电致发光元件。本发明涉及一种电致发光材料的精制方法，其中用含有磷的材料对作为杂质含有钯的电致发光材料进行处理，将钯除去。
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公开(公告)号：CN202975539U
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201220530030.X
申请日：2012-10-16
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1333 , G06F3/041
Abstract: 本实用新型的目的在于提供一种能够有效地防止画像显示装置的破裂、缓和应力及冲击、透明性优异、即使在高温条件下（比如80℃以上）及高湿条件下（比如85%RH以上），而且，即使使用聚碳酸酯等的塑料作为保护板，也能够抑制气泡、浮起、剥离等发生的画像显示装置，是至少在偏光板或者触摸板和透明保护板之间介入安装有粘着层的画像显示装置，所述透明保护板由聚碳酸酯板构成，该透明保护板与所述粘着层的耐剥离强度在18～30N/10mm的范围。
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