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公开(公告)号：CN115910730A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211020205.7
申请日：2022-08-24
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明涉及离子源移动装置及离子植入装置,目的在于能够令离子源平稳地升降，使对装置本体装卸离子源的作业的作业性提升。本发明的离子源移动装置是能对于要以在第一水平方向与装置本体对置的方式固定至装置本体且具有腔室的离子源，能够使该离子源以一边使离子源的重心升降并一边使相对于装置本体的倾斜度变化的方式移动；该离子源移动装置构成为具备：支持构件，能支持固定在腔室的外侧的第一被支持构件；可动构件，连结在支持构件；及升降机构，能一边限制可动构件往与既定的第二方向交叉的方向移动，并一边使可动构件沿第二方向升降移动。
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公开(公告)号：CN109427526B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201810532390.5
申请日：2018-05-29
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/16 , H01J37/244
Abstract: 本发明提供一种能够使束电流测量器的维保操作简单化的离子束照射装置。该离子束照射装置(1)具有固定在离子束照射位置的束电流测量器(P)，束电流测量器(P)包括测量部(C)和配置在测量部(C)周围的防护罩(S)，防护罩(S)包括：前面防护罩(FS)，具有使离子束(3)的一部分通向测量部(C)的开口(H)；后面防护罩(BS)，配置在与前面防护罩(FS)相对的位置；侧面防护罩(SS)，配置在除了前面防护罩(FS)和后面防护罩(BS)以外的部位，在离子束照射装置(1)的真空室(8)的壁面上具有能够开闭的门(D)，门(D)兼用作后面防护罩(BS)。
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公开(公告)号：CN108573842B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201711143287.3
申请日：2017-11-17
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子源的装拆方法，能够实现离子源装拆作业效率的提高和离子源装拆机架结构的简化。离子束照射装置(ID)具有：外壳(12)，具有比配置离子束照射装置(ID)的地面(11)高的地面(4)，在内部收纳离子源(1)；以及通道(P)，从外壳(12)的外周端部朝向内侧形成在外壳(12)的地面的一部分上，形成有通道(P)的外壳(12)的地面的高度比其它部分低，与配置离子束照射装置(ID)的地面(11)的高度大致相同。
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公开(公告)号：CN106128929B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201510641785.5
申请日：2015-09-30
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种不导致装置构成的复杂化及装置整体的大型化而确实地固定基板的基板固定装置。本发明的基板固定装置具备平台以及夹抓机构，其中，前述夹抓机构包括：多个夹具，其与基板的各边对应而设置，并可在将基板予以固定的固定位置、与将基板予以释放的释放位置之间移动；以及动力传达机构，其在对应于基板的相对向的两边之中的一边而设置的一边侧夹具、与对应于另一边而设置的另一边侧夹具之间传达用以移动夹具的驱动力；而动力传达机构具有：滑动构件，其随着前述一边侧夹具的移动、或随着对前述一边侧夹具传达驱动力的构件的移动而往预定方向滑动移动，来对前述另一边侧夹具传达驱动力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109516106A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201711143720.3
申请日：2017-11-17
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供离子源支承台，能够以稳定的状态使放置在离子源支承台(X)上的离子源(101)成为倒伏姿势。离子源支承台(X)用于放置离子源(101)，所述离子源(101)包括长条状的等离子体生成容器(10)和一对辊(31)，所述一对辊(31)设置于等离子体生成容器(10)的在与长边方向垂直的方向上相对的侧壁(11b)上，离子源支承台(X)包括：一对轨道(5)，在离子源(101)悬吊的状态下，可转动地放置一对辊(31)；以及牵引机构(6)，在一对辊(31)放置在一对轨道(5)上的状态下，将离子源(101)从轨道(5)的一端(A)侧向另一端(B)侧牵引。
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公开(公告)号：CN104103554B
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201310567012.8
申请日：2013-11-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
CPC classification number: H01L21/67757 , H01J37/185 , H01J37/3171 , H01J37/32412 , H01L21/67718 , H01L21/67754
Abstract: 本发明提供能量线照射系统和工件输送机构，能大幅度改善生产率，并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件（W）在规定的工件交接区域和能量线的照射区域（AR）之间输送的工件支架（21），把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域（AR）的虚拟直线（C）相对的两个部位，并且作为所述工件支架（21）设置有：第一工件支架（21（1）），在一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动；以及第二工件支架（21（2）），在另一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动。
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公开(公告)号：CN103295943B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210425485.X
申请日：2012-10-30
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 小野田正敏
IPC: H01L21/677 , H01L21/265
Abstract: 本发明提供基板输送装置和使用该基板输送装置的半导体制造装置，能防止因使用于使基板输送台移动的杆动作而导致的粉尘等在真空室内飞散，并能容易地进行微调和维护。所述基板输送装置包括基板输送台（4）、肘节连杆机构（1）和多个杆（21），多个杆贯通形成真空室（9）或预真空室（8）的壁体，连接所述基板输送台（4）和所述肘节连杆机构（1）之间，所述肘节连杆机构（1）通过所述肘节连杆（11）的屈伸使所述杆（21）进退，由此使所述基板输送台（4）移动，在所述肘节连杆（1）处于伸展状态下，所述基板输送台（4）配置在堵塞位置，在该基板输送装置中设有密封结构（3），气密地密封所述杆（21）和所述壁体之间的间隙。
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公开(公告)号：CN104103554A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201310567012.8
申请日：2013-11-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
CPC classification number: H01L21/67757 , H01J37/185 , H01J37/3171 , H01J37/32412 , H01L21/67718 , H01L21/67754
Abstract: 本发明提供能量线照射系统和工件输送机构，能大幅度改善生产率，并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件（W）在规定的工件交接区域和能量线的照射区域（AR）之间输送的工件支架（21），把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域（AR）的虚拟直线（C）相对的两个部位，并且作为所述工件支架（21）设置有：第一工件支架（21（1）），在一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动；以及第二工件支架（21（2）），在另一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动。
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公开(公告)号：CN103295943A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210425485.X
申请日：2012-10-30
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 小野田正敏
IPC: H01L21/677 , H01L21/265
Abstract: 本发明提供基板输送装置和使用该基板输送装置的半导体制造装置，能防止因使用于使基板输送台移动的杆动作而导致的粉尘等在真空室内飞散，并能容易地进行微调和维护。所述基板输送装置包括基板输送台（4）、肘节连杆机构（1）和多个杆（21），多个杆贯通形成真空室（9）或预真空室（8）的壁体，连接所述基板输送台（4）和所述肘节连杆机构（1）之间，所述肘节连杆机构（1）通过所述肘节连杆（11）的屈伸使所述杆（21）进退，由此使所述基板输送台（4）移动，在所述肘节连杆（1）处于伸展状态下，所述基板输送台（4）配置在堵塞位置，在该基板输送装置中设有密封结构（3），气密地密封所述杆（21）和所述壁体之间的间隙。
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