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公开(公告)号：CN1621236A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN200410097310.6
申请日：2004-11-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1635 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2002/14403 , B41J2002/14475
Abstract: 提供一种喷墨记录头的制造方法、喷墨记录头以及喷墨墨盒。该喷墨头的制造方法，包括：准备硅基板的工序；在该基板的第一面上，形成具有设置了作为过滤器掩模的多个孔的层、以及覆盖该第一面使得第一面不从该多个孔露出的层的膜片的工序；在该基板上形成的膜片上形成紧密接触提高层的工序；在该紧密接触提高层上，形成构成多个喷出口和与该多个喷出口分别连通的多个墨流路的流路构成构件的工序；在硅基板上，通过各向异性刻蚀，从与基板的第一面相对的第二面一侧形成与多个墨流路连通的墨供给口的工序；以及将膜片的设置了多个孔的层作为掩模，在紧密接触提高层的位于墨供给口的开口部内的部位上形成过滤器的工序。
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公开(公告)号：CN1129528C
公开(公告)日：2003-12-03
申请号：CN95102446.9
申请日：1995-03-03
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 今仲良行 , 稻页正树 , 池田雅実 , 小泉宽 , 折笠刚 , 古川达生 , 樫野俊雄 , 岸田秀昭 , 刈田诚一郎 , 小山修司 , 寺井晴彦 , 林崎公之 , 片尾周一 , 后藤显 , 小俣好一 , 丸博之 , 泉田昌明 , 上山雄次 , 小野敬之
CPC classification number: B41J2/04506 , B41J2/04541 , B41J2/04543 , B41J2/04563 , B41J2/04565 , B41J2/0458 , B41J2/04588 , B41J2/04591 , B41J2/04598 , B41J2/155 , B41J29/393 , B41J2202/17 , B41J2202/20 , B41J2202/21
Abstract: 一种打印头，它包括：多个加热板，其每一个都包括一个其上加有打印数据和用于选择预加热脉冲信号的选择数据的移位寄存器；用于锁存该打印数据的锁存电路；用于锁存该选择数据的选择数据锁存电路；选择电路，用于选择根据锁存的选择数据输入的多个预加热脉冲信号中的任何一个；以及，受到打印数据或预加热脉冲信号驱动的多个加热电阻。
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公开(公告)号：CN1072116C
公开(公告)日：2001-10-03
申请号：CN96100210.7
申请日：1996-04-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1601 , B41J2/14024 , B41J2/1404 , B41J2/14048 , B41J2/14056 , B41J2/1604 , B41J2/1623 , B41J2/1625 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1643 , B41J2/211 , B41J2002/14379 , B41J2202/21 , Y10T29/49083 , Y10T29/49401
Abstract: 一种制作液体喷头的方法。此喷头具有喷出口，热产生元件，有包含第一通路部分和第二通路部分的液流通路，此第一通路部分与所说喷出口用液体连通，而第二通路部份安置在所说第一通路部分下面，有将所说的液流通路分成所说第一通路部分和第二通路部分的分隔壁，所说的方法包括：准备提供所说热产生元件衬底，形成具有所说活动部件的开槽分隔壁和所说第二通路部分的所说侧壁，以及把所说的开槽分隔壁连到所说的基底上以形成所说的第二道路。
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公开(公告)号：CN1113185A
公开(公告)日：1995-12-13
申请号：CN95103258.5
申请日：1995-03-03
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1623 , B41J2/14024 , B41J2/1601 , B41J2/1604 , B41J2/1632 , B41J2/1637 , B41J2002/14362 , B41J2002/14387 , B41J2202/20 , B41J2202/21
Abstract: 一种喷墨记录头，包括多个墨水喷射口，一个具有多个分别与喷射口流体连通的凹槽的第一构件，一个具有多个用以产生能量的能量产生元件的第二构件，所生能量用以把凹槽内的墨水通过喷射口喷出，以及，一个夹紧装置，用以把第一构件与第二构件夹紧，以便与凹槽一起构成墨水通道，其中，夹紧装置具有多个能独立操纵的压力调节机构。
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公开(公告)号：CN103171288B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210576369.8
申请日：2012-12-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B44C1/227 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1643 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供一种用于喷墨头基板的处理方法，包括：在基板上形成阻挡层并且在阻挡层上形成种子层；在种子层上形成抗蚀膜并且对抗蚀膜进行图案化以使得图案化后的抗蚀膜与用于将喷墨头电连接到喷墨头外部的盘部相对应；在图案化后的抗蚀膜的开口中形成盘部；去除抗蚀膜；对基板进行各向异性蚀刻以形成供墨口；去除阻挡层和种子层；以及从基板的表面进行激光处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102381032B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201110249416.3
申请日：2011-08-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1604 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1643 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提出一种制造液体排出头的方法，该方法包括：提供基板，变成流路壁部件的固体部件在该基板上被设置为包围变成流路的区域；在该区域内形成由金属或金属化合物制成的模子；设置由树脂制成的覆盖层以覆盖固体部件和模子；和去除模子以形成流路。
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公开(公告)号：CN101817257B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201010122999.9
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1629 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1634
Abstract: 一种液体排出头用基板的制造方法，该基板是具有第一面和与第一面相反的第二面的硅基板，该制造方法包括如下步骤：在硅基板的第二面上提供如下的层：当暴露于硅的蚀刻剂时，该层具有比硅的蚀刻速率低的蚀刻速率；部分地去除该层，以使硅基板的第二面的一部分露出，其中，露出部分包围该层的至少一部分；以及使用硅的蚀刻剂对该层和硅基板的第二面的所述露出部分进行湿法蚀刻，以形成从硅基板的第二面延伸到第一面的液体供给口。
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公开(公告)号：CN101811395B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201010125866.7
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1635 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , Y10T29/49083 , Y10T29/49128 , Y10T29/4913 , Y10T29/49165 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明的目的是提供一种简单并且精确地制造排液头的方法，在所述排液头中，排出口与能量产生元件之间的距离是均匀的。
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公开(公告)号：CN102191063A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110029956.0
申请日：2011-01-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C09K13/02 , H01L21/02 , H01L21/306 , B41J2/16
CPC classification number: H01L21/30608 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , C09K13/02
Abstract: 液体组合物，其用于进行硅基板的晶体各向异性蚀刻，该硅基板设置有由硅氧化物膜形成的蚀刻掩模，该硅氧化物膜用作掩模，该液体组合物包括：氢氧化铯、碱性有机化合物和水。
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公开(公告)号：CN1195629C
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN02128577.2
申请日：2002-08-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16 , H01L21/324
CPC classification number: B41J2/1604 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , Y10T29/49401
Abstract: 在形成有墨水喷出能量发生元件的Si基板上，从形成有墨水喷出能量发生元件的面的相反侧面、即背面进行各向异性蚀刻来形成墨水供给口9。在进行各向异性蚀刻时，使存在于Si基板背面的OSF(氧化诱起叠层缺陷)的密度为2×104个/cm2以上，并且使该OSF的长度为2μm以上。
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