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公开(公告)号：CN1621236A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN200410097310.6
申请日：2004-11-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1635 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2002/14403 , B41J2002/14475
Abstract: 提供一种喷墨记录头的制造方法、喷墨记录头以及喷墨墨盒。该喷墨头的制造方法，包括：准备硅基板的工序；在该基板的第一面上，形成具有设置了作为过滤器掩模的多个孔的层、以及覆盖该第一面使得第一面不从该多个孔露出的层的膜片的工序；在该基板上形成的膜片上形成紧密接触提高层的工序；在该紧密接触提高层上，形成构成多个喷出口和与该多个喷出口分别连通的多个墨流路的流路构成构件的工序；在硅基板上，通过各向异性刻蚀，从与基板的第一面相对的第二面一侧形成与多个墨流路连通的墨供给口的工序；以及将膜片的设置了多个孔的层作为掩模，在紧密接触提高层的位于墨供给口的开口部内的部位上形成过滤器的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101811395B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201010125866.7
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1635 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , Y10T29/49083 , Y10T29/49128 , Y10T29/4913 , Y10T29/49165 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明的目的是提供一种简单并且精确地制造排液头的方法，在所述排液头中，排出口与能量产生元件之间的距离是均匀的。
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公开(公告)号：CN102896899B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201210259703.7
申请日：2012-07-25
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1639 , B41J2/1645
Abstract: 本发明涉及液体排出头及其制造方法。一种液体排出头，其包括用于排出液体的液体排出口和具有与所述液体排出口相连通的液体流路的喷嘴层，其中所述喷嘴层具有两层，所述两层中为在所述液体流路侧的层的第一层具有用酸成膜的树脂，并且与作为另一层的第二层相比具有较小的水的静态接触角。
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公开(公告)号：CN102896899A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210259703.7
申请日：2012-07-25
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1639 , B41J2/1645
Abstract: 本发明涉及液体排出头及其制造方法。一种液体排出头，其包括用于排出液体的液体排出口和具有与所述液体排出口相连通的液体流路的喷嘴层，其中所述喷嘴层具有两层，所述两层中为在所述液体流路侧的层的第一层具有用酸成膜的树脂，并且与作为另一层的第二层相比具有较小的水的静态接触角。
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公开(公告)号：CN1621236B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200410097310.6
申请日：2004-11-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1635 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2002/14403 , B41J2002/14475
Abstract: 提供一种喷墨记录头的制造方法、喷墨记录头以及喷墨墨盒。该喷墨头的制造方法，包括：准备硅基板的工序；在该基板的第一面上，形成具有设置了作为过滤器掩模的多个孔的层、以及覆盖该第一面使得第一面不从该多个孔露出的层的膜片的工序；在该基板上形成的膜片上形成紧密接触提高层的工序；在该紧密接触提高层上，形成构成多个喷出口和与该多个喷出口分别连通的多个墨流路的流路构成构件的工序；在硅基板上，通过各向异性刻蚀，从与基板的第一面相对的第二面一侧形成与多个墨流路连通的墨供给口的工序；以及将膜片的设置了多个孔的层作为掩模，在紧密接触提高层的位于墨供给口的开口部内的部位上形成过滤器的工序。
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公开(公告)号：CN101811395A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010125866.7
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1635 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , Y10T29/49083 , Y10T29/49128 , Y10T29/4913 , Y10T29/49165 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明的目的是提供一种简单并且精确地制造排液头的方法，在所述排液头中，排出口与能量产生元件之间的距离是均匀。
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