-
-
公开(公告)号：CN101817257A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN201010122999.9
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1629 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1634
Abstract: 一种液体排出头用基板的制造方法，该基板是具有第一面和与第一面相反的第二面的硅基板，该制造方法包括如下步骤：在硅基板的第二面上提供如下的层：当暴露于硅的蚀刻剂时，该层具有比硅的蚀刻速率低的蚀刻速率；部分地去除该层，以使硅基板的第二面的一部分露出，其中，露出部分包围该层的至少一部分；以及使用硅的蚀刻剂对该层和硅基板的第二面的所述露出部分进行湿法蚀刻，以形成从硅基板的第二面延伸到第一面的液体供给口。
-
公开(公告)号：CN107718882B
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201710682892.1
申请日：2017-08-11
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
Abstract: 本发明公开了用于制造液体喷射头的方法。用于制造液体喷射头的方法包括：在基板上设置负型的第一感光树脂层；通过选择性地曝光所述第一感光树脂层来形成流路的图案；在所述第一感光树脂层上设置负型的第二感光树脂层；在所述第二感光树脂层上设置负型的第三感光树脂层；通过选择性地曝光所述第二和第三感光树脂层来形成喷射端口的图案；使所述第一、第二和第三感光树脂层显影；在显影之后在至少所述第三感光树脂层上照射活化能量线；以及在活化能量线的照射之后热固化所述第一、第二和第三感光树脂层。
-
公开(公告)号：CN104669795B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201410697215.3
申请日：2014-11-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1623 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1645
Abstract: 一种液体排出头的制造方法，其包括：转印工序，其中，将由支撑构件支撑的干膜转印到具有孔的基板；和剥离工序，其中，将所述支撑构件从所述基板上的所述干膜剥离。在所述剥离工序中，所述干膜与限定所述基板中的所述孔的壁面接触。
-
公开(公告)号：CN107718882A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710682892.1
申请日：2017-08-11
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
Abstract: 本发明公开了用于制造液体喷射头的方法。用于制造液体喷射头的方法包括：在基板上设置负型的第一感光树脂层；通过选择性地曝光所述第一感光树脂层来形成流路的图案；在所述第一感光树脂层上设置负型的第二感光树脂层；在所述第二感光树脂层上设置负型的第三感光树脂层；通过选择性地曝光所述第二和第三感光树脂层来形成喷射端口的图案；使所述第一、第二和第三感光树脂层显影；在显影之后在至少所述第三感光树脂层上照射活化能量线；以及在活化能量线的照射之后热固化所述第一、第二和第三感光树脂层。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103171288B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210576369.8
申请日：2012-12-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B44C1/227 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1643 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供一种用于喷墨头基板的处理方法，包括：在基板上形成阻挡层并且在阻挡层上形成种子层；在种子层上形成抗蚀膜并且对抗蚀膜进行图案化以使得图案化后的抗蚀膜与用于将喷墨头电连接到喷墨头外部的盘部相对应；在图案化后的抗蚀膜的开口中形成盘部；去除抗蚀膜；对基板进行各向异性蚀刻以形成供墨口；去除阻挡层和种子层；以及从基板的表面进行激光处理。
-
公开(公告)号：CN102381032B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201110249416.3
申请日：2011-08-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1604 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1643 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提出一种制造液体排出头的方法，该方法包括：提供基板，变成流路壁部件的固体部件在该基板上被设置为包围变成流路的区域；在该区域内形成由金属或金属化合物制成的模子；设置由树脂制成的覆盖层以覆盖固体部件和模子；和去除模子以形成流路。
-
公开(公告)号：CN101817257B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201010122999.9
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1629 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1634
Abstract: 一种液体排出头用基板的制造方法，该基板是具有第一面和与第一面相反的第二面的硅基板，该制造方法包括如下步骤：在硅基板的第二面上提供如下的层：当暴露于硅的蚀刻剂时，该层具有比硅的蚀刻速率低的蚀刻速率；部分地去除该层，以使硅基板的第二面的一部分露出，其中，露出部分包围该层的至少一部分；以及使用硅的蚀刻剂对该层和硅基板的第二面的所述露出部分进行湿法蚀刻，以形成从硅基板的第二面延伸到第一面的液体供给口。
-
公开(公告)号：CN116922957A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202310420631.8
申请日：2023-04-19
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本申请公开了打印元件基板和制造打印元件基板的方法。打印元件基板包括：基板，该基板包括能量生成元件，该能量生成元件生成用于从喷射口喷射液体的能量，以及，流路形成构件，包括将液体供应到喷射口的流路。流路形成构件包括不与流路连通的腔体。腔体的侧表面形成为基本上与基板垂直。基膜形成在腔体和基板之间。流路形成构件的折射率低于基膜的折射率，并且流路形成构件的折射率与基膜的折射率之差大于或等于0.3。
-
公开(公告)号：CN107303758A
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201710239127.2
申请日：2017-04-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1607 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2002/14459 , B41J2/16
Abstract: 一种液体喷出头的制造方法，包括如下步骤：预备基板，所述基板在其表面上包括具有多个开口的层，所述供给部的开口部位于所述开口中，多个所述开口沿排列方向排列，并且与多个所述开口不同的其它开口在所述排列方向上位于列端部的外侧；和将用于形成流路的干膜附着到所述基板和所述层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
19
records
(took 0.025 seconds)
