一种旋转平台及多倍程平面干涉角度测量系统

    公开(公告)号:CN108917655A

    公开(公告)日:2018-11-30

    申请号:CN201810818139.5

    申请日:2018-07-24

    Abstract: 本发明公开一种旋转平台,包括固定基座、转台和两个驱动器,固定基座的上表面开设有与转台形状相匹配的凹槽,转台可转动嵌置安装在凹槽内;转台包括中心圆形转子,中心圆形转子的两侧对称设置有两个旋转臂,两个驱动器以中心圆形转子的圆心为中心呈中心对称分布,两个驱动器用于同时驱动两个旋转臂同向旋转;该旋转平台在转动时可避免中心产生平移。本发明还提供一种结构紧凑、受环境影响小、角度分辨率高的多倍程平面干涉角度测量系统,包括上述旋转平台、被测平面镜和测角干涉仪,被测平面镜放置在中心圆形转子的上表面,测角干涉仪设置在旋转平台的一侧。

    一种光学检测系统及装置
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103383247B

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201310323229.4

    申请日:2013-07-30

    Abstract: 本发明公开了一种光学检测系统及装置,所述系统包括由上至下依次排列的激光器、非偏振分光镜、偏振分光镜、透反镜及测量透镜;非偏振分光镜位置水平对应光电接收器A,透反镜与测量透镜之间固定有λ/4波片,偏振分光镜位置水平对应光电接收器B。本发明设计的光学检测系统及装置解决了现有用于表面形貌测量的光学检测装置及非接触式显微测头,抗干扰能力不强、分辨力有限等问题。

    一种表面微观形貌测量传感器

    公开(公告)号:CN211696278U

    公开(公告)日:2020-10-16

    申请号:CN202020562698.7

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本实用新型公开一种表面微观形貌测量传感器,用于测量待测工件表面的形貌,包括:触针,用于测量微观形貌;触针轴,一端与所述触针连接,用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动;磁恒力模块,与所述触针轴的另一端连接,用于调节所述触针与待测工件之间的测量力;触针轴气浮模块,环绕在所述触针轴外围,用于使所述触针轴悬浮;位移测量模块,设置在所述触针轴的正上方,用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本实用新型通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙,保证触针轴悬浮且摩擦最小,提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力,以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种多维纳米位移装置
    25.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212209444U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202021474545.3

    申请日:2020-07-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种多维纳米位移装置,包括固定框架、移动框架、移动台、第一驱动装置和第二驱动装置,移动框架套在移动台外周并与移动台形成柔性连接,且移动框架内壁与移动台外壁之间有间隙,固定框架套在移动框架外周并与移动框架形成柔性连接,固定框架内壁与移动框架外壁之间有间隙,移动台中部用于放置待测样品,固定框架的一侧框上固定设有至少两个第一驱动装置,第一驱动装置驱动移动框架和移动台往复移动,移动框架的一侧框上固定设有至少一个第二驱动装置,第二驱动装置驱动移动台往复移动,第一驱动装置的驱动方向与第二驱动装置的驱动方向垂直,该多维纳米位移装置能够提高重载大行程的纳米位移精度,以及修正运动过程中的偏摆。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪

    公开(公告)号:CN212158499U

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN202020564296.0

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪,垂直式表面粗糙度测头包括固定架、移动架、位移测量模块、针杆、触针和导向装置,移动架竖向滑动连接于固定架上,移动架上设置针杆,移动架的底板上设有导向装置,导向装置能够用于对针杆进行竖向导向以防止针杆摆动,针杆的底端固定设置有触针,针杆穿过导向装置,触针贯穿移动架的底板,位移测量模块用于测量针杆竖直方向上的移动距离;表面粗糙度仪包括架体、移动装置和上述的垂直式表面粗糙度测头。本实用新型中,触针与针杆在导向装置的作用下,测量过程中始终与工件表面垂直,操作简便、测量精准程度高。

    一种用于长度测量校准的标准器组

    公开(公告)号:CN208432233U

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201820913070.X

    申请日:2018-06-13

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于长度测量校准的标准器组,其包括底座、支撑棒和标准球,所述底板上设置有若干通孔,所述支撑棒的一端设置在所述通孔中,所述支撑棒的另一端设置有一球窝,所述标准球设置在所述球窝内,所述标准球与所述球窝底面之间设置有粘接剂。本实用新型中采用在棒的顶端加工球窝,并通过粘接剂将标准球进行固定的方式,使得不对标准球进行任何破坏性加工,避免了标准球上破损导致测量结果准确性降低的问题,使得CT测量过程中可以充分利用整个球面,提高了测量结果的准确性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构

    公开(公告)号:CN212207832U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202020635834.0

    申请日:2020-04-24

    Abstract: 本实用新型公开一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构,主要包括用于转换光路的落射照明盒、支撑零部件用的笼杆、安装各种透镜的笼板、光圈可调的可变光阑以及安装并调节紫外光源用的光学调整架。通过调节安装透镜的笼板和安装紫外光源的光学调整架在笼杆上的位置,能够实现成像要求的紫外光源的消色差、扩束和准直,通过移动可变光阑上的拨杆,能够调节紫外光源入射到落射照明盒的光束范围,通过调节安装紫外光源的光学调整架上面的旋转调节螺钉,能够实现紫外光源在俯仰、偏摆方向的微调,紫外光学显微镜在三种紫外光源调节方式下,互相配合,共同作用,从而达到高分辨率成像的显微镜光源需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种计量型微纳台阶高度测量装置

    公开(公告)号:CN204346373U

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201520016874.6

    申请日:2015-01-09

    Abstract: 本实用新型公开了一种计量型微纳台阶高度测量装置,包括支撑系统以及安装在支撑系统上的白光显微测头、位移扫描系统和计量系统。本实用新型的有益效果为:该计量型微纳台阶高度测量装置主要用来测量微纳台阶的高度或沟槽的深度。系统采用粗细两级位移扫描系统,压电陶瓷驱动的纳米位移台可在微米级扫描范围内实现亚纳米级步进;压电陶瓷驱动的升降台可在毫米级扫描范围内实现亚微米级步进;Z向测量范围最大可达200微米。显微干涉测头采用白光光源(即采用白光显微测头),基于白光干涉原理,可实现0.1nm的Z向分辨率,同时可直接获得被测表面的三维形貌。采用激光干涉仪组成计量系统,将位移直接溯源到国际单位制中米定义的波长基准。

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