-
公开(公告)号：CN104238284A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410500277.0
申请日：2014-09-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
CPC classification number: G03F9/7026 , G01B9/02097 , G02B7/28
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅泰伯效应的检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。检测系统利用硅片离焦引起的光栅泰伯效应的“自成像”位相变化，完成光刻机硅片的高精度检焦：硅片位于焦面位置时，光栅成像波前为平面波前；硅片离焦时，其成像波前为球面波前。该检测系统结构简单，具有较高的抗干扰能力和较好的工艺适应性。
-
公开(公告)号：CN104199258A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201410479923.X
申请日：2014-09-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。检测系统通过二维光栅在子午面和弧矢面由两类不同频率的光栅剪切干涉，根据测量子午和弧矢面内4个区域的干涉条纹位相差异，计算相应区域的高度差，从而完成光刻机硅片的高精度检焦。该检测系统具有剪切干涉系统共光路特性，系统结构简单，具有较高的抗干扰能力和较好的工艺适应性；利用相应探测器同时完成硅片曝光区域边缘4个位置高度差测量，同步完成硅片的检焦和调平测量，适用于大面积曝光系统的高精度、实时性测量。
-
公开(公告)号：CN102494873A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110369257.0
申请日：2011-11-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供一种微透镜阵列焦距的测量方法，该方法结合清晰度函数定焦分析，利用光栅衍射分光的原理测量微透镜阵列焦距，平行入射光经过光栅后，由于高级次衍射光光强较小可忽略，其出射光被分成3束：0级、+1级和-1级，通过测量光栅分光后在微透镜各个子孔径中的0级和±1级的光斑中心距，完成对微透镜阵列焦距的测量。同时，利用该方法一次采集图像可完成对多个子孔径的测量，适合于阵列数较多的微透镜焦距测量。本发明由于光栅分光角度由光栅周期和测量波长确定，相比较传统的转角法测量，该方法无需转台，操作简便易行。
-
公开(公告)号：CN113568281B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202110861967.9
申请日：2021-07-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜系统，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜系统由20片透镜组成，物镜系统分辨力700nm，放大倍率为‑0.25倍，曝光视场44mm×44mm。本投影曝光物镜系统共轭距(物方到像方)为L＝740mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，采用球面校正系统场曲、畸变和波像差，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。
-
公开(公告)号：CN115657425A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211346045.5
申请日：2022-10-31
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻物镜畸变检测调整误差分离装置及方法，该装置包括照明系统、掩模、掩模台、温度与压强传感器、光刻物镜、夏克‑哈特曼传感器、传感器运动台、干涉仪和环境控制系统。沿所述照明系统激光照明方向依次是安装在掩模台上的掩模、带有温度与压强传感器的光刻物镜、检测波前信号的夏克‑哈特曼传感器、传感器运动台和干涉仪组成的测量系统和环境控制系统。安装在传感器运动台上的夏克‑哈特曼传感器对准测试波前后，由干涉仪返回理想球面波经掩模11×11个方孔和光刻物镜后测试波前的三维坐标，得到测试波前的坐标信息，通过坐标转换分离出调整误差引起的畸变，将分离了调整误差的数据添加进计算模型得到光刻物镜实际的畸变。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108761830B
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201810262324.0
申请日：2018-03-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种水平精密调节及锁紧机构，可用于精密光学系统中光学元件的在线微调和锁紧固定。本发明设计一种双边对称的平行四边形铰链机构，利用平行四边形在驱动力作用下变形实现被调元件的调节。在同一推动调节板上设计两圈相同的调节机构，实现水平方向X和Y独立调节的同时简化调节机构。该调节机构一端利用螺纹副调节平行四边形铰链，利用螺纹副的推动力和铰链的反作用力实现调节机构的调节和自锁。
-
公开(公告)号：CN108646372A
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201810262331.0
申请日：2018-03-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种单点驱动的轴向调节机构。该轴向调节机构利用3层机构，通过单点调节即可实现被调元件的轴向调节：底层支撑座用于调节机构的固定和链接；中层为驱动机构，驱动机构上均匀分布3点弹性机构，将对驱动机构的单点驱动力传递至3点弹性机构；顶层为元件支撑座，用于被调光学元件的固定支撑。当调节中层驱动机构时，驱动机构由直线导轨导向沿水平移动，驱动机构上均匀分布3点弹性调节机构将驱动机构的水平移动转换为光学元件支撑座的轴向移动从而实现光学元件的轴向调节。
-
公开(公告)号：CN104199173B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201410479916.X
申请日：2014-09-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种单倍率对称式投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的单倍率投影曝光物镜由12片透镜组成，采用对称式结构。物镜分辨力2.5μm，放大倍率为‑1，曝光视场15mm×15mm。本投影曝光物镜系统由第一组透镜组、光阑、第二组透镜组构成，第一和第二透镜组相对于光阑对称分布。本投影物镜共轭距为500mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足投影光刻机的高精度及高产率需求。
-
公开(公告)号：CN104198164B
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201410479415.1
申请日：2014-09-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G02B7/28 , G02B3/0006 , G02B21/008 , G03F7/70258 , G03F9/7026
Abstract: 本发明涉及一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。利用微透镜阵列对携带有硅片位置信息的波前进行检测，根据哈特曼波前检测原理，微透镜阵列的各个子单元将球面波波前分割，并成像于各自的焦面上。当硅片位于焦面位置时，微透镜阵列入射波前为平面波，衍射光斑位于微透镜阵列各个子单元的焦点上；当硅片存在离焦时，微透镜阵列入射波前为球面波，衍射光斑在微透镜阵列焦面上产生偏移。根据哈特曼波前检测原理，通过微透镜阵列对平面和球面波前成像光斑偏移，即可完成球面波前检测，从而完成硅片离焦测量。该检焦系统结构简单、精度和效率较高，适用于各类光刻机的高精度、实时性检焦测量。
-
公开(公告)号：CN104950427A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510382003.0
申请日：2015-07-02
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜，其像方有效视场为132×132mm，像方数值孔径可达0.17。物镜采用物方、像方双远心结构，共使用了21片透镜，所有透镜表面都为纯球面。本发明以对称、简单的结构实现所需的微米级的分辨率，保证了曝光所需足够的光强，能很好地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题，同时，本发明实现了对系统研制的短周期、低成本的控制。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
50
records
(took 0.051 seconds)
