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公开(公告)号：CN102129176A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201010022990.0
申请日：2010-01-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明揭露了一种消除长条镜面形引起的倾斜误差的方法，所述方法包括如下步骤：上载基底，保持工件台Y方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿X方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜Y方向面形引起的不同位置处的倾斜值；保持工件台X方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿Y方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜X方向面形引起的不同位置处的倾斜值；在工件台对应位置处，干涉仪控制工件台位置倾斜时，补偿长条镜Y方向和X方向面形引起的倾斜值，即可消除由长条镜面形引起的倾斜误差。所述方法可解决长条镜面形导致的倾斜偏差，且方法简单。
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公开(公告)号：CN101135858A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710044558.X
申请日：2007-08-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种物镜检测装置以及方法。现有技术通过在覆盖有光阻的晶圆上多次曝光来进行物镜检测致使检测过程复杂且效率低下。本发明的物镜检测装置包括光源，掩模台，工件台，物镜框架，分别用于驱动掩模台和工件台运动的掩模台驱动装置和工件台驱动装置，分别设置在掩模台与工件台上且具有多个对应的对准图形的第一和第二掩模，用于探测透过第二掩模上的对准图形的光的强度和该些对准图形位置的探测模块，用于控制驱动第一与第二掩模对准以及在两者对准后控制工件台驱动装置驱动工件台进行扫描运动的控制模块，以及用于将扫描运动中所探测到的数据运行一处理程序以得到待检测物镜的成像质量参数的处理模块。采用本发明可简化物镜的测量过程。
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公开(公告)号：CN106935491A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511021931.0
申请日：2015-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L21/268
CPC classification number: H01L21/268
Abstract: 本发明公开了一种激光退火装置及其退火方法，该激光退火装置包括激光光源系统、与激光光源系统连接，位于硅片上方的激光调节系统、位于硅片上方，对硅片表面光斑位置处的温度进行实时测量的温度监控系统、分别与激光光源系统、激光调节系统、温度监控系统以及载片台连接的中央控制系统。本发明通过设置具有多个独立的激光器，提供波长不同的激光，对硅片进行联合退火，通过选择最佳的工艺参数组对硅片进行退火，不同波长的激光进行互补，不仅达到最佳的退火温度，而且很好的抑制了硅片表面的图像效应；通过温度监控系统的反馈机制和中央控制系统的调节机制，提高了退火的均匀性和可控性，降低了热预算，减少热扩散，提高了退火装置的工艺适应性。
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公开(公告)号：CN103592820B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201210285811.1
申请日：2012-08-13
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种全局调平边沿扫描的装置，包括：一工件台，用于承载一硅片，并为该硅片提供多个自由度运动；工件台驱动装置，用于驱动所述工件台；调焦调平装置，用以实现对硅片和调焦调平装置的标记的垂向测量并建立两者之间的关系；测量系统，用于测量所述工件台的位置；第一传输系统，用于输入信息，所述输入信息为所述测量系统测得的信息；计算器，用于根据输入的信息进行计算得出全局调平边沿扫描的初始位置；第二传输系统，用于将初始位置信号传输给所述工件台驱动装置；所述工件台驱动装置驱动所述工件台从初始位置开始进行全局调平边沿扫描，最终回到初始位置。本发明还提供一种全局调平边沿扫描的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103197500B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201210001423.6
申请日：2012-01-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种测量镜面形补偿效果的方法，应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、掩模台干涉仪系统、掩模对准系统，掩模台贴附有长条镜，干涉仪光束通过长条镜反射，控制掩模台运动，该方法包括上载具有测试标记的掩模，测试标记包括若干子标记，子标记排成一列；掩模台干涉仪系统控制掩模台沿若干子标记的排列方向运动，通过掩模对准系统进行对准测量，分别获得若干子标记的对准位置，测试标记与掩模对准系统的对准标记相匹配；根据对准位置获得面形残差测量值，判断在排列方向上的长条镜的镜面形补偿效果是否达到要求。该测量方法步骤简单，快速准确，可避免曝光分析引入不必要误差项。
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公开(公告)号：CN103163742B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201110416901.5
申请日：2011-12-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种光刻装置，包括：产生曝光光束的光源；用于调整所述光源发出的光束的照明装置；用于承载掩模的掩模台；用于对掩模图案进行成像的成像光学系统；用于承载硅片的工件台；和，用于对硅片标记及掩模标记进行对准的机器视觉对准系统；其中，所述机器视觉对准系统具有照明系统、视觉成像系统和用于采集硅片标记或掩模标记所成的像的探测器，所述探测器具有第一探测单元和第二探测单元，所述第一探测单元比所述第二探测单元的捕获范围大、探测精度低。
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公开(公告)号：CN102841516B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110168712.0
申请日：2011-06-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种硅片对准系统焦面的校准方法，包括：步骤一：工件台保持无倾斜，采用高度步进的方式，通过对准标记的反射光强粗测对准光学系统的焦面位置；步骤二：将工件台保持在对准光学系统的焦面位置处，在多个不同的倾斜度下使用对准光学系统对准对准标记，得到对准位置与倾斜度之间的关系曲线，进而得到干涉仪阿贝误差；步骤三：保持倾斜度，不断改变工件台高度，测得表示对应的倾斜度下对准位置与高度之间关系的直线，改变倾斜度，重复上述步骤，测得对准光学系统的焦面高度及焦面倾角；步骤四：利用步骤三中得到的焦面高度和焦面倾角，利用迭代的方法重复步骤二得到精确校准干涉仪阿贝误差，然后重复步骤三精确校准对准光学系统的焦面。
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公开(公告)号：CN102736431A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201110087433.1
申请日：2011-04-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种测量运动台运动精度的测量装置，包括沿光传播方向依次设置的照明系统、用于放置测试掩模板的掩模台、投影物镜、用于放置测试硅片的工件台、多数测试标记和套刻标记曝光控制结构，多数测试标记呈矩阵分布在测试掩模板，每个测试标记具有同心设置的第一套刻标记和第二套刻标记，套刻标记曝光控制结构设置于测试掩模板和照明系统之间，使得测试掩模板上的第一套刻标记和第二套刻标记经投影物镜依序曝光到测试硅片上形成两层套刻标记图形，依据两层套刻标记图形的套刻误差测算出运动台的运动精度。同时还公开一种测量运动台运动精度的测量方法。该测量装置及测量方法消除了多种测量误差影响因数，可以更加准确测量和评估工件台的运动精度。
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