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公开(公告)号：CN102200690B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201010131941.0
申请日：2010-03-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及利用该标记的测量方法。所述标记由周期分布的子标记组成，所述子标记中包括多种不同的线条标记。所述方法在预期的最佳像面附近，在不同的高度上扫描标记的空间像，记录空间像能量分布，根据能量分步计算测量标记在不同测量高度处的空间像的频率分布，根据频率分布计算视场中不同位置的最佳成像高度，最后根据最佳成像高度拟合像面高度、倾斜、场曲等参数。
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公开(公告)号：CN102129176B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201010022990.0
申请日：2010-01-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明揭露了一种消除长条镜面形引起的倾斜误差的方法，所述方法包括如下步骤：上载基底，保持工件台Y方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿X方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜Y方向面形引起的不同位置处的倾斜值；保持工件台X方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿Y方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜X方向面形引起的不同位置处的倾斜值；在工件台对应位置处，干涉仪控制工件台位置倾斜时，补偿长条镜Y方向和X方向面形引起的倾斜值，即可消除由长条镜面形引起的倾斜误差。所述方法可解决长条镜面形导致的倾斜偏差，且方法简单。
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公开(公告)号：CN102486623A
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201010572174.7
申请日：2010-12-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的调焦测控装置及方法，该装置包括光源模块、光学透镜模块、标准平面透镜、执行模块、探测器模块以及处理模块，该光源模块发出的光束经过该光学透镜模块、标准平面透镜及被测对象后形成参考光束及检测光束，该探测器模块通过检测不同焦平面位置处的参考光束和检测光束的干涉条纹光强以获得该被测对象的表面面形数据，该处理模块接收该被测对象的表面面形数据，对该表面面形数据进行拟合以计算出所述被测对象相对于最佳焦平面的变化量，以供所述执行模块依据所述处理模块的计算结果驱动所述被测对象至最佳焦平面。
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公开(公告)号：CN101221368A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200810032842.X
申请日：2008-01-21
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 毛方林
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种物面像面位置的实时测校装置以及方法，所述装置包括照明光源系统、投影物镜成像系统、用于支撑并固定掩模版的掩模台、用于支撑并固定晶片的工作台，所述测校装置还包括用于监测物面位置的投影物镜成像系统顶部传感器，以及用于监测像面位置的投影物镜成像系统底部传感器，所述方法监测不同时刻投影物镜成像系统顶部传感器和底部传感器测量结果，通过与初始标定时刻物面像面位置相比较，计算可得不同时刻物面像面漂移量，并对投影系统物面像面位置进行实时校正。通过本发明的测校装置及方法，可以测量待测物面、像面与透镜的相对位置，有效修正光刻装置中投影物镜系统物面、像面漂移值。
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公开(公告)号：CN103454862B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201210181489.8
申请日：2012-06-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法，其特征在于，包括：步骤一、设置旋转台的旋转角度为零，并与水平向运动台保持固定的位置关系，在硅片上套刻曝光，读取曝光标记偏差，计算各曝光场的旋转角度；步骤二、根据所述各曝光场的旋转角度，拟合由所述运动轨道扭转引入的旋转角度；步骤三、使所述工件台先后沿第一方向和与第一方向垂直的第二方向运动，测量工件台的旋转角度；步骤四、根据所述工件台的旋转角度，拟合获得由缩放效应引入的旋转角度；步骤五、根据所述工件台的旋转角度、所述运动轨道扭转引入的旋转角度与缩放效应引起的旋转角度，计算方镜面形引起的旋转角度，获得一补偿后的方镜形貌。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103309167B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210062953.1
申请日：2012-03-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种运动台定位精度的测量系统及测量方法，所述测量系统包括：运动台控制系统，用于驱动运动台按照一设定路线步进或扫描；第一位置测量系统，用于实时测量运动台的当前位置并反馈至运动台控制系统，从而由运动台控制系统根据所述当前位置驱动运动台步进或扫描至一设定位置；第二位置测量系统，用于当运动台控制系统驱动运动台每次经过所述设定位置时，分别测量运动台位于所述设定位置时的实际位置，计算每次实际位置之间的偏差并与运动台精度指标比较，从而判断运动台定位精度是否达标。所述测量方法可离线测量运动台的定位精度，无需依赖于光刻机其它部件，在光刻机集成中可提前诊断运动台定位问题。
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公开(公告)号：CN102486615B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201010567531.0
申请日：2010-12-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种确定光刻投影装置最佳物面的方法，包括下述步骤：驱动图案形成装置至一物面高度位置，该图案形成装置包括第一组标记图案及第二组标记图案；驱动衬底至对应的像面位置处；将该第一组标记图案曝光至衬底表面上形成第一曝光图案；水平移动该衬底；将该第二组标记图案曝光至该衬底表面上形成第二曝光图案，以使该第二曝光图案与第一曝光图案一起构成套刻图案；改变该图案形成装置的垂向高度，在不同物面高度处重复上列步骤，形成多个套刻图案；读取不同物面高度处形成的套刻图案的套刻结果；根据套刻结果拟合出不同物面高度处的畸变值；根据不同物面位置对应的畸变值，选取最小畸变值所对应的物面高度为最佳物面位置。
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公开(公告)号：CN102486615A
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201010567531.0
申请日：2010-12-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种确定光刻投影装置最佳物面的方法，包括下述步骤：驱动图案形成装置至一物面高度位置，该图案形成装置包括第一组标记图案及第二组标记图案；驱动衬底至对应的像面位置处；将该第一组标记图案曝光至衬底表面上形成第一曝光图案；水平移动该衬底；将该第二组标记图案曝光至该衬底表面上形成第二曝光图案，以使该第二曝光图案与第一曝光图案一起构成套刻图案；改变该图案形成装置的垂向高度，在不同物面高度处重复上列步骤，形成多个套刻图案；读取不同物面高度处形成的套刻图案的套刻结果；根据套刻结果拟合出不同物面高度处的畸变值；根据不同物面位置对应的畸变值，选取最小畸变值所对应的物面高度为最佳物面位置。
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公开(公告)号：CN101174104A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200710171608.0
申请日：2007-11-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 毛方林
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种确定光刻投影装置最佳物面和最佳像面的方法及相关装置。其利用二维曝光的方法，即控制掩膜版与晶片在一定运动范围内步进，而在晶片上得到一组对应于不同物面、像面位置的曝光标记，比较此组曝光标记的分辨率，而确定最佳物面和最佳像面的位置。与先前技术相比，此方法所得到的最佳物面及最佳像面精度更高，且解决了先前技术中为提高精度所带来的成本问题。
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公开(公告)号：CN103453847B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201210181490.0
申请日：2012-06-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于运动台误差校准的方法，其特征在于，包括：步骤一：利用干涉仪于第一起始位置以一定步长测量所述运动台的反射镜面的面形，获得第一组面形数据，所述步长为所述干涉仪两轴的间距；步骤二：重复执行步骤一，每次起始位置与前一次起始位置的间距大于零且小于所述步长，获得多组面形数据，共同组合得到所述运动台的反射镜面的完整面形数据；步骤三、采用插值处理所述完整面形数据，将插值后的面形结果与所述完整面形数据相减得到面形残差；步骤四、对所述面形残差进行滤波获得一最终面形数据；步骤五、利用所述最终面形数据，在运动台控制系统进行伺服控制时，提前补偿反射镜面型数据。
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