一种基于支持向量机的手语翻译方法

    公开(公告)号:CN111428802A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN202010242973.1

    申请日:2020-03-31

    Abstract: 本发明为一种基于支持向量机的手语翻译方法,其特征在于:包括以下:1、利用STM32开发板通过可穿戴数据手套采集手势电压信号;2、利用信号筛选程序将每一组手势电压信号对应的手语词语和常用手语句子制成手语语句库;3、编写包括支持向量机分类模块、数据传输模块和储存模块的支持向量机程序,所述的支持向量机分类模块是基于支持向量机二分类算法,采用有向无环方案构成的多分类模型;4、将每次收到的手势电压信号通过支持向量机分类模块转换为手语词语;5、将步骤4在一段时间内获得的手语词语转换为手语词语组,将手语词语组与手语语句库进行匹配并联想填充成句输出结果。本发明结合支持向量机及传感技术实现手语自动实时翻译识别。

    一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板

    公开(公告)号:CN216846167U

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202120786997.3

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域,所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶,一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识,深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽,在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构,所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同,且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。

    一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置

    公开(公告)号:CN217716312U

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202222097838.X

    申请日:2022-08-10

    Abstract: 本实用新型为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置,属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本实用新型装置包括激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块;所述激光光源发出激光光束,激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块,形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制,最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收;所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号,并进行数据处理。

    一种复合型纳米膜厚标准样板

    公开(公告)号:CN215261700U

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202120786965.3

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域,所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域,两测量工作区域厚度参数相同,所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框,所述的工作框四边外周设有一级循迹标识,在工作框内部设有二级循迹标识,工作框中部则设有中心几何薄膜结构,所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆,其外周布置有带箭头循迹标识,所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。

    一种多自由度自定心光学镜片夹持支架

    公开(公告)号:CN220348215U

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202322015023.7

    申请日:2023-07-28

    Abstract: 本实用新型为一种多自由度自定心光学镜片夹持支架,包括设于底座上的伸缩杆、与伸缩杆顶部固定连接的外圈、设于外圈内侧的中圈和设于中圈内侧的内圈,通过伸缩杆实现镜片高度调节和左右转动角度调节,通过中圈相对外圈的翻转活动实现镜片俯仰角度调节,通过带自定心夹持功能的内圈相对中圈的环面旋转实现镜片的自定心及径向旋转角度调节,从而在光学检测中实现了对不同尺寸的光学镜片的自定心夹持工作并可对其进行多自由度调节的功能,且结构简单,定位精准度高,同时能够实现不同尺寸的镜片夹持。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种用于检定两光栅平行性的装置

    公开(公告)号:CN220153527U

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202321274140.9

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本实用新型为一种用于检定两光栅平行性的装置,包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏,所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分,利用第一光栅和第二光栅的镜面反射,通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线,实现两光栅栅面平行调整,利用第一光栅和第二光栅的衍射效应,通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线,实现两光栅栅线平行调整。本实用新型结构简单,原理易懂,便于操作实现。

    一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置

    公开(公告)号:CN220556313U

    公开(公告)日:2024-03-05

    申请号:CN202322300207.8

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本实用新型为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置,包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统,所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动,所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器,所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统,由信号处理系统对干涉信号进行数据处理,获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。

    一种背对式两光栅相互平行的调节装置

    公开(公告)号:CN219936177U

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202321273857.1

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本实用新型为一种背对式两光栅相互平行的调节装置,用于实现两光栅栅面平行和两光栅栅线平行的调节,包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装板连接安装的伸缩式卡槽旋转机构,通过调节分设于光栅安装板正反两面的第一光栅A和第二光栅B分别与同一水平准直光源垂直来实现两光栅的栅面平行调节,通过红光光源发射光线,由接收屏分次显示两光栅形成的衍射图样,并对两个或以上的衍射光斑分别标记后连线,调节第一光栅A使其标记连线与第二光栅B的标记连线平行,完成两光栅的栅线平行调节。

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