-
公开(公告)号：CN105575775B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201510426921.9
申请日：2015-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金旼秀 , 宋炫知 , 姜善惠 , 金成旻 , 金瑆焕 , 金永珉 , 金润俊 , 金惠廷 , 南沇希 , 白载烈 , 尹星莉 , 尹龙云 , 李忠宪 , 郑瑟基 , 赵妍熹 , 洪承希 , 黄善民 , 黄元宗 , 李松世 , 金命九 , 刘奈莉
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F1/46 , G03F1/76 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
-
公开(公告)号：CN106226997A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610182871.9
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。
-
公开(公告)号：CN113396364B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202080012809.X
申请日：2020-03-23
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。
-
-
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：CN113138532B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202110056902.7
申请日：2021-01-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。
-
-
公开(公告)号：CN119024655A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410573611.9
申请日：2024-05-10
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种含金属的光刻胶显影剂组合物包括有机溶剂和磺酰亚胺类化合物。一种利用显影剂组合物形成图案的方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物；沿着衬底的边缘涂布用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物；对所得物进行干燥和加热以在衬底上形成含金属的抗蚀剂层；对含金属的抗蚀剂层进行曝光；以及涂布含金属的光刻胶显影剂组合物，并对所述含金属的光刻胶显影剂组合物进行显影。
-
公开(公告)号：CN119002177A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410320656.5
申请日：2024-03-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种抗蚀剂面层组合物以及使用所述抗蚀剂面层组合物来形成图案的方法。所述抗蚀剂面层组合物包括共聚物以及溶剂，所述共聚物包含由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元及包括由化学式M‑3A、化学式M‑3B、化学式M‑3C及化学式M‑3D表示的结构单元中的至少一者的第三结构单元。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
37
records
(took 0.026 seconds)
