用于设计半导体装置的方法和系统

    公开(公告)号:CN105488244B

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN201510645497.7

    申请日:2015-10-08

    Abstract: 提供了设计半导体装置的方法和用于设计半导体装置的系统。设计半导体装置的方法包括:提供包括有源区和虚设区的标准单元布局;确定有源区中的第一有源鳍与第二有源鳍之间的第一鳍节距和虚设区中的第一虚设鳍与第二虚设鳍之间的第二鳍节距;使用第一鳍节距和第二鳍节距在有源区中安置第一有源鳍和第二有源鳍并在虚设区中安置第一虚设鳍和第二虚设鳍;并检验标准单元布局。

    具有交叉耦合构造的集成电路

    公开(公告)号:CN109962066A

    公开(公告)日:2019-07-02

    申请号:CN201811276469.2

    申请日:2018-10-30

    Abstract: 提供了一种集成电路。所述集成电路可包括第一有源区和第二有源区,第一有源区和第二有源区可彼此平行地沿第一水平方向在基底上延伸并且具有彼此不同的导电类型。第一栅极线可在与第一水平方向交叉的第二水平方向上延伸,并且可与第一有源区形成第一晶体管。第一晶体管可包括施加有第一输入信号的栅极。第一栅极线可包括在垂直方向上与第一有源区叠置的并且具有位于第一有源区与第二有源区之间的区域上的端部的第一部分栅极线。

    集成电路、设计集成电路的计算系统和计算机实现方法

    公开(公告)号:CN108206183A

    公开(公告)日:2018-06-26

    申请号:CN201710956783.4

    申请日:2017-10-13

    Abstract: 一种集成电路包括:下层,包括在第一方向上延伸的第一下部图案和第二下部图案;布置在第一下部图案上的第一通孔和布置在第二下部图案上的第二通孔;布置在第一通孔上的第一上部图案;以及布置在第二通孔上的第二上部图案,其中第一颜色被分配给第一上部图案,第二颜色被分配给第二上部图案,第一上部图案和第二上部图案在第二方向上彼此邻近,并且第一通孔布置在第一下部图案的第一边缘区域中,第一边缘区域与第一下部图案的第二边缘区域相比离第二下部图案更远,第二边缘区域与第一边缘区域相对。

    集成电路、设计集成电路的计算系统和计算机实现方法

    公开(公告)号:CN108206183B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN201710956783.4

    申请日:2017-10-13

    Abstract: 一种集成电路包括:下层,包括在第一方向上延伸的第一下部图案和第二下部图案;布置在第一下部图案上的第一通孔和布置在第二下部图案上的第二通孔;布置在第一通孔上的第一上部图案;以及布置在第二通孔上的第二上部图案,其中第一颜色被分配给第一上部图案,第二颜色被分配给第二上部图案,第一上部图案和第二上部图案在第二方向上彼此邻近,并且第一通孔布置在第一下部图案的第一边缘区域中,第一边缘区域与第一下部图案的第二边缘区域相比离第二下部图案更远,第二边缘区域与第一边缘区域相对。

Patent Agency Ranking