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公开(公告)号：CN101369054B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200810211497.6
申请日：2004-11-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 豊田光纪
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B5/3025 , G02B27/0944 , G02B27/28 , G02B27/4233 , G02B27/4261 , G03F7/70158 , G03F7/70566
Abstract: 本发明提供一种光学照明装置，不仅能有效地抑制光量损失，且能够形成圆周方向偏光状态的轮胎状的照明瞳分布。本发明的光学照明装置具有光束变换元件(50)，可依据入射光束而在所定面形成轮胎状的光强度分布。该光束变换元件用有旋光性的光学材料形成，且由依入射光束形成轮胎状光强度分布中的第一圆弧状区域分布的第一基本元件(50A)、形成第二圆弧状区域分布的第二基本元件(50B)、形成第三圆弧状区域分布的第三基本元件(50C)，以及形成第四圆弧状区域分布的第四基本元件(50D)所构成。各基本元件在沿光束的透过方向的厚度互异。
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公开(公告)号：CN101681117A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880015567.9
申请日：2008-10-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 广田弘之
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/02 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70291
Abstract: 照明光学装置13将输出自曝光用光源12的曝光用光EL导向被照射物体R。照明光学装置13具备排列成矩阵状的多个空间光调变构件22，各空间光调变构件22将具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状而分别构成。又，各空间光调变构件中的至少1个配置在从光源输出的光的光路内。
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公开(公告)号：CN101384967A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005771.8
申请日：2007-02-16
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份有限公司
Inventor： O·伍尔夫 , H·西克曼 , E·卡尔切布莱纳 , S·雷南 , J·旺格勒 , A·布雷桑 , M·格哈德 , N·哈弗坎普 , A·舍尔茨 , R·沙恩韦伯尔 , M·莱 , S·布尔卡特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B27/0911 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70158
Abstract: 一种光学积分器，其用于在微光刻投影曝光设备的照射系统中产生多个二次光源，包括第一阵列的长的凸面弯曲的第一微透镜(112X)，所述微透镜并排地设置在第一平面中并且具有第一顶线(V)。所述光学积分器还包括第二阵列的长的凸面弯曲的第二微透镜(114X；214X)，所述微透镜并排地设置在第二平面中并且具有第二顶线(V1到V4)。其中在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶线或者其部分与第一顶线(V)的任意一个或者其部分不重合。
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公开(公告)号：CN101084472A
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200580034731.7
申请日：2005-08-30
Applicant: 数字光学公司
CPC classification number: G03F7/70075 , G02B5/0252 , G02B5/0263 , G02B5/0278 , G02B5/1809 , G02B27/281 , G02B27/286 , G03F7/70158 , G03F7/70566 , Y10T29/49
Abstract: 单块的偏振受控角漫射器包括：具有第一表面和第二表面的系统；用于在照明平面上提供角分布的受控角漫射器图案，该受控角漫射器图案在基板的第一和第二表面之一上；和在基板的第一和第二表面之一上的偏振图案。该受控角漫射器图案包括至少两个受控角漫射器元件。每个受控角漫射器元件都输出不同的角分布。偏振图案包括至少两个偏振元件。每个偏振元件都对应于各个受控角漫射器元件。所述至少两个偏振元件输出彼此旋转的偏振。
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公开(公告)号：CN107357138A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710779421.2
申请日：2017-09-01
Applicant: 天津津航技术物理研究所
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2008 , G03F7/70025 , G03F7/70158
Abstract: 本发明属于光学元件制作领域，具体涉及一种用于制作衍射光学元件的具有大曝光尺寸的大口径激光曝光系统。该激光曝光系统包括上导光棱镜、下导光棱镜、波导板、蓄液槽和支撑机构，通过分别位于波导板的上下两侧的上导光棱镜和下导光棱镜，将上下两束入射激光以一定角度照射到波导板的曝光区域，在波导板中形成干涉条纹。该激光曝光系统结构简单，能够制作大尺寸衍射光学元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105074574B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201480009868.6
申请日：2014-02-11
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70158 , G02B26/0833 , G02B27/0905 , G02B27/0933 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/702 , G03F7/70316
Abstract: 本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a‑d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a‑d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a‑d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a‑d，14a‑d)的分面反射镜(13，14)。
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公开(公告)号：CN102736444B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201210107106.2
申请日：2012-04-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： G·C·德弗里斯 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , F·J·J·杰森 , N·A·J·M·范阿尔勒
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70575 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70158 , G03F7/70191
Abstract: 本发明公开了一种用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法。在一种极紫外光刻设备中，照射系统包括琢面场反射镜和琢面光瞳反射镜。反射镜内部的场琢面反射镜将极紫外辐射聚焦到特定的相关光瞳琢面反射镜，由此将其引导至目标区域。每个场琢面反射镜被修改为散射不期望的深紫外辐射进入一方向范围内。深紫外辐射的大部分落到光瞳反射镜内的相邻光瞳琢面反射镜上，使得到达目标的深紫外辐射的量与期望的极紫外辐射相比被抑制。因为反射镜之间的距离远大于单个光瞳琢面反射镜的宽度，所以可以仅使用窄散射角来实现对深紫外辐射的良好的抑制。可以将散射层内的极紫外辐射的吸收最小化。
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公开(公告)号：CN105745579A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201480063035.8
申请日：2014-09-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
CPC classification number: G21K1/067 , G01N2021/95676 , G02B5/1814 , G02B5/1823 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B27/0025 , G02B27/0938 , G02B27/10 , G02B27/1086 , G02B27/12 , G02B27/14 , G02B27/142 , G02B27/146 , G02B27/4272 , G03F1/84 , G03F7/70025 , G03F7/70208 , G03F7/70566 , G03F7/70891 , G03F7/70991 , G21K2201/065 , H01S3/0903 , H05H7/04 , G03F7/70008 , G03F7/7005 , G03F7/70091 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/7065
Abstract: 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
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公开(公告)号：CN105074574A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480009868.6
申请日：2014-02-11
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70158 , G02B26/0833 , G02B27/0905 , G02B27/0933 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/702 , G03F7/70316
Abstract: 本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a-d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a-d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a-d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a-d，14a-d)的分面反射镜(13，14)。
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公开(公告)号：CN102385258B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201110307567.X
申请日：2008-09-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 谷津修
CPC classification number: G03F7/70058 , G02B26/00 , G02B26/02 , G02B27/0927 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70158
Abstract: 一种照明光学系统，其在来自光源(1)的光线的基础上对要照明的表面照明，所述照明光学系统具有：第一光学路径，衍射光学元件(6)可布置于其中的第一位置处；第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件(3a)的空间光调制器(3)可布置于其中的第二位置处；和第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径且一种分布形成光学系统(11)布置于其中。所述分布形成光学系统(11)基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。
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