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    用于场成像和/或光瞳成像的光学系统
    1.
    发明公开
    用于场成像和/或光瞳成像的光学系统 有权

    公开(公告)号：CN108351513A

    公开(公告)日：2018-07-31

    申请号：CN201680062181.8

    申请日：2016-08-31

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： H.门兹

    IPC: G02B27/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G02B27/005 ,  G02B5/1814 ,  G02B13/0035 ,  G02B13/14 ,  G02B27/0043 ,  G03F7/70241

    Abstract: 一种用于场成像和/或光瞳成像的光学系统(10)包括光轴(16；46)、光阑平面(18；38)以及像平面(20；40)。该光学系统包括透镜系统(11；37)，该透镜系统具有三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)，每个透镜组具有至少一个透镜，这些透镜组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)是彼此间隔开的，其中，这三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)具有第一透镜材料和/或与该第一透镜材料不同的第二透镜材料。该透镜元件系统(11；37)被进一步设计为傅立叶光学单元(12；36)，该傅立叶光学单元另外包括进一步透镜组(14d；42d)，该进一步透镜组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)与这三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)彼此间隔开并且具有至少一个透镜，该进一步透镜组包括该第一透镜材料和/或该第二透镜材料，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜组(14a，c；42b，d)中的两个被设计为与该场成像和/或该光瞳成像的纵向色差有关的第一和第二颜色欠校正透镜组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜组(14b，d；42a，c)中的另外两个被设计为第一和第二颜色过校正透镜组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)具有颜色欠校正透镜元件组和颜色过校正透镜元件组在各自情况下的交替序列。

    一种用于强激光系统中光束采样光栅的增透减反方法
    4.
    发明公开
    一种用于强激光系统中光束采样光栅的增透减反方法 有权

    公开(公告)号：CN107037515A

    公开(公告)日：2017-08-11

    申请号：CN201710357385.0

    申请日：2017-05-19

    Applicant: 中国科学技术大学

    Inventor： 陈火耀 ,  刘颖 ,  梁举曦 ,  王宇 ,  刘正坤 ,  邱克强 ,  徐向东 ,  洪义麟 ,  付绍军

    IPC: G02B5/18 ,  G02B1/118

    CPC classification number: G02B5/1857 ,  G02B1/118 ,  G02B5/1814

    Abstract: 一种用于强激光系统中光束采样光栅的增透减反方法，首先利用全息离子束刻蚀方法在熔石英基底上制作亚波长光栅模板；在亚波长光栅模板上滴少许PUA紫外压印胶，然后将PET薄膜盖到PUA上，利用紫外光照射PUA使其固化，将固化后的PUA与光栅模板分离，得到亚波长光栅软模；光束采样光栅的表面清洗后，在上面旋涂PMMA压印胶，将亚波长光栅软模覆盖到PMMA上面，软模光栅条纹方向与光束采样光栅条纹方向可以平行、垂直或者成角度，用夹持机构将两者压紧，放到烘箱中加热固化，将亚波长光栅软模和基底分离，在PMMA上形成亚波长光栅；然后利用氧等离子体灰化去除PMMA光栅的底层残余胶，利用到底的PMMA亚波长光栅掩模，使用CHF3反应离子束刻蚀，最后清洗去除残余胶，即得到具有增透减反效果的光束采样光栅。

    镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法
    5.
    发明公开
    镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法 有权 转让

    公开(公告)号：CN106940476A

    公开(公告)日：2017-07-11

    申请号：CN201710306498.8

    申请日：2017-05-04

    Applicant: 长春理工大学

    Inventor： 崔庆丰 ,  毛珊 ,  朴明旭 ,  赵春竹

    IPC: G02B27/00

    CPC classification number: G02B27/0012 ,  G02B5/1814

    Abstract: 镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法属于光学设计技术领域。现有技术仅考虑衍射光学元件本体对衍射效率的影响，并未考虑所述抗反射膜对衍射光学元件衍射效率的影响。本发明之镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法首先设计衍射光学元件的表面衍射微结构高度；其特征在于，其次，计算由衍射光学元件表面抗反射膜膜系各膜层材料和厚度引入的附加位相；最后，用所述表面衍射微结构高度减去与所述抗反射膜附加位相相当的高度，得到衍射光学元件本体表面衍射微结构的加工高度。应用于镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计，能够在实现衍射光学元件抗反射的同时，使得设计波长的衍射效率达到100％。

    影像感测装置及其光学膜片
    7.
    发明公开
    影像感测装置及其光学膜片 无效

    公开(公告)号：CN106646684A

    公开(公告)日：2017-05-10

    申请号：CN201610970980.7

    申请日：2016-11-04

    Applicant: 友达光电股份有限公司

    Inventor： 赖瑞琳

    IPC: G02B1/10 ,  G02B5/18 ,  G06K9/00

    CPC classification number: G02B5/003 ,  G02B5/201 ,  G02B5/208 ,  G02B6/005 ,  G06F3/0421 ,  G06K9/0004 ,  G02B1/10 ,  G02B5/1814

    Abstract: 本发明提供一种影像感测装置及其光学膜片，影像感测装置包含基板、光感应电路、光学膜片和光源。基板具有相对的第一表面和第二表面。光感应电路设置于第一表面。光学膜片设置于第二表面。光源设置于光学膜片背向基板的一面。光学膜片具有透光膜体以及光栅结构。透光膜体具有相对的第一面及第二面。透光膜体对于红光波段的光穿透率大于对于蓝光波段的光穿透率。光栅结构设置于第一面及第二面至少其一上，光栅结构的光穿透率小于透光膜体的光穿透率。本发明通过光学膜片提高长波长可见光波段的穿透率可提高影像清晰度。

    用于裸眼立体显示设备的狭缝光栅及裸眼立体显示设备
    9.
    发明公开
    用于裸眼立体显示设备的狭缝光栅及裸眼立体显示设备 无效

    公开(公告)号：CN106094083A

    公开(公告)日：2016-11-09

    申请号：CN201610382323.0

    申请日：2016-06-01

    Applicant: 武汉华星光电技术有限公司

    Inventor： 查国伟

    IPC: G02B5/18 ,  G02B27/22

    CPC classification number: G02B27/22 ,  G02B5/30 ,  H04N13/31 ,  H04N13/359 ,  G02B5/1814 ,  G02B27/2214

    Abstract: 本发明提供了一种用于裸眼立体显示设备的狭缝光栅及裸眼立体显示设备。该狭缝光栅包括基板以及间隔设置于基板上的多个遮光条，遮光条用于遮挡入射光线，狭缝光栅进一步包括位于遮光条之间的透光区域的线栅，线栅用于透射入射光线的第一偏振分量且反射入射光线的与第一偏振分量垂直的第二偏振分量。该裸眼立体显示设备包括背光模组、液晶面板以及上述狭缝光栅，狭缝光栅设置于背光模组与液晶面板之间。本发明能够显著提高显示器的亮度，同时降低了成本并减薄了产品的厚度。

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