一种碳化硅微结构的制备方法

    公开(公告)号:CN103441063B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201310214526.5

    申请日:2013-05-31

    Abstract: 本发明专利公开了一种碳化硅微结构的制备方法就,该方法是在气体环境中,利用飞秒激光辐照,通过扫描的方式,在碳化硅基片上诱导产生折射率变化区域,再通过氢氟酸和硝酸的混合液,腐蚀去除折射变化区域,从而制备碳化硅微结构。该方法工艺流程简单,微结构的分布不需要掩模板定义;与当前常用的湿法和干法刻蚀相比,腐蚀选择性好,刻蚀区域完全由激光辐照区域决定。利用该方法,通过调控激光辐照参数,可以在碳化硅基片上制备没有杂质元素污染的高纵横比狭槽。该方法可以应用于半导体器件领域和微机械电子系统。

    一种发动机喷雾流场近场区光学诊断系统

    公开(公告)号:CN103712771B

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201310647624.8

    申请日:2013-12-04

    Abstract: 一种发动机喷雾流场近场区光学诊断系统,包括沿飞秒脉冲激光入射方向放置的分光系统、复用系统、光克尔门选通成像系统以及比较成像系统;分光系统将入射飞秒脉冲激光分成具有不同波长和偏振特征,时间间隔可调的三束光脉冲,三束光脉冲通过复用系统分别记录不同时刻喷雾流场近场区的信息,并经过光克尔门选通成像系统分别成像。利用光克尔门选通弹道光成像系统可以有效排除散射光的影响,提高成像信噪比;通过比较成像系统所记录的三幅流场图中单个粒子轨迹可计算粒子的速度和加速度信息。

    毫米以及亚毫米量级环形金刚石刀具的深加工方法及系统

    公开(公告)号:CN105149790A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510404025.2

    申请日:2015-07-10

    Inventor: 陈烽 杨青 邓泽方

    CPC classification number: B23K26/36

    Abstract: 本发明涉及毫米以及亚毫米量级环形金刚石刀具的深加工方法及系统,首先利用飞秒激光直写的方式在金刚石刀具刃口产生一个微米级的凹槽,并且通过精确控制三维平移台与旋转轴的移动,在圆形状的环形金刚石刀具上得到周期性的微小凹槽。本方法不论在效率、成本及尺寸控制等方面皆表现出明显的优势,为金刚石刀具深加工能够进行大规模实用化生产提供了一条可能的途径。

    三维静态及动态显微检测系统及方法

    公开(公告)号:CN104807818A

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201410044665.2

    申请日:2014-01-29

    Abstract: 本发明的目的在于提出一种三维静态及动态显微检测系统包括光学系统和图像分析计算机140;光学系统包括依次设置在同一光轴上的光源100、汇聚透镜101、孔径光阑102、滤波片103、具有多个焦距的多焦点透镜120、光学采集CCD130;光学采集CCD130与图像分析计算机140相连;多焦点透镜120为两焦点透镜、三焦点透镜或四焦点透镜;滤波片103、多焦点透镜120分别位于被检测物体的两侧;多焦点透镜120的每个焦点均位于被检测物体内;本发明可以实时检测被测物体在三维空间上的多个截面信息,可对快速反应或变化的待测目标进行实时三维显微跟踪检测。

    一种基于飞秒激光处理和湿法刻蚀的硅微结构加工方法

    公开(公告)号:CN103232023A

    公开(公告)日:2013-08-07

    申请号:CN201310141035.2

    申请日:2013-04-22

    Abstract: 本发明公开了一种基于飞秒激光处理和湿法刻蚀的硅微结构加工方法:在含氧气体氛围中利用飞秒激光扫描单晶硅基片,在扫描区诱导硅产生折射率变化,再通过氢氟酸湿法刻蚀去除折射率变化区形成硅微结构。本发明的方法工艺简单,与现有技术相比,其不需要使用掩模板定义微结构的分布图样;相对于通常的湿法和干法刻蚀,腐蚀选择性好,刻蚀区域完全由飞秒激光处理区域决定,不存在侧向钻蚀;在深硅槽的加工中可以获得深宽比高、深度大的硅槽。本发明的方法可应用于微机械电子系统。

    飞秒激光增强化学刻蚀制备微透镜阵列光束整形器的方法

    公开(公告)号:CN102759800A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201210207940.9

    申请日:2012-06-21

    Abstract: 飞秒激光增强化学刻蚀制备微透镜阵列光束整形器的方法,选用石英玻璃作为样品材料;通过飞秒激光在其表面加工得到微透镜阵列弹坑;将已加工出的微透镜阵列弹坑放入氟化氢溶液中辅助刻蚀,即可完成微透镜阵列光束整形器的制备;本发明利用飞秒激光增强化学刻蚀制备微透镜阵列,具有所制得的微透镜阵列形貌可控的优点。其中,透镜的形貌可以通过激光脉冲作用点的合理排列进行控制,透镜的焦距则可以通过激光参数进行调控;该方法能够实现高填充比、大面积微透镜阵列的高效率加工;而且所制备出的微透镜阵列能够简单、便捷的实现使高斯光束的空间光强均匀分布。

    一种复眼结构微透镜阵列的微纳制备方法

    公开(公告)号:CN102759763A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201210208216.8

    申请日:2012-06-21

    Abstract: 一种复眼结构微透镜阵列的微纳制备方法,将用于制备微透镜阵列模板的硬质材料固定在三维精密位移台上,使超短脉冲激光作用于材料表面,烧蚀出所需的弹坑阵列;将烧蚀出弹坑阵列的硬质材料置于氢氟酸稀释液中进行腐蚀,采用平面浇铸工艺将PMMA氯仿溶液均匀涂覆在模板表面,自然干燥固化;将小球加热,用球冠对PMMA薄膜的背面进行均匀挤压,直到薄膜包覆住半球,形成半球壳状结构,即可得到复眼结构微透镜阵列;本发明实现了复眼结构微透镜阵列的高重复性、低成本批量生产,同时相关参数灵活可调。

    一种玻璃棒表面微透镜阵列的制备方法

    公开(公告)号:CN102757014A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201210207758.3

    申请日:2012-06-21

    Abstract: 一种玻璃棒表面微透镜阵列的制备方法,将用于制备微透镜阵列的玻璃棒置于飞秒加工平台上;根据加工所需,控制飞秒加工平台的移动,同时控制单点的辐照,在玻璃棒表面烧蚀出所需的弹坑阵列;将带有烧蚀弹坑的玻璃棒置于氢氟酸稀释溶液中,并且用超声波水浴加热辅助,将玻璃棒从氢氟酸的稀释溶液中取出,在超声波水浴条件下,依次在丙酮、无水乙醇、去离子水中清洗;即可得到表面具有微透镜阵列的玻璃棒;本发明利用飞秒激光逐点辐照辅助化学湿法刻蚀工艺,在玻璃棒表面实现了高质量的微透镜阵列的制备。

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