-
公开(公告)号：CN1081835C
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：CN97111691.1
申请日：1997-04-01
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 一种压电元件，把压电体的表面上形成了电极5、6的压电振动片2安装到插头3上之后、封装到外壳4内而完成之前，在大气压或接近于大气压的压力下，在规定的放电气体中产生气体放电，在该气体放电36中生成常温下的液体或气体的有机化合物的活性原子团，并把插头和压电振动片的表面暴露其中。在这些表面上叠层有机物，从而形成被覆整个电极及其分割线18、插头的安装连接部等的树脂被覆膜9。在音叉型压电振子的情况下，从树脂被覆膜的上方照射激光来进行频率的调整。
-
公开(公告)号：CN105223738B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201510385854.0
申请日：2015-06-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1339
Abstract: 本发明提供能够使防湿性提高的电光装置和电子设备。具有元件基板(10)；和以与元件基板(10)介由密封件(14)而相对的方式配置的相对基板(20)，配置为从元件基板(10)以及相对基板(20)的侧面(10b、20b)到密封件(14)的长度(L)相对于元件基板(10)与相对基板(20)的间隔的长度(H)之比为50以上且300以下，以覆盖密封件(14)以及元件基板(10)和相对基板(20)的至少一部分侧面(10b、20b)的方式设置有阻挡膜(41)。
-
公开(公告)号：CN107104667A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710068565.7
申请日：2017-02-08
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03L7/26
Abstract: 本发明涉及原子室及其制造方法、量子干涉装置、原子振荡器、电子设备以及移动体。课题：提供一种能够具有高耐热性的原子室。解决手段：一种原子室，其为在内部填充碱金属的原子室，其包含：由包含具有极性基团的化合物的材料形成的内壁；涂布于上述内壁的、由具有与上述极性基团发生消除反应的官能团和非极性基团的第1分子形成的第1涂层；以及涂布于上述第1涂层的、由非极性的第2分子形成的第2涂层，上述第2分子为聚丙烯、聚乙烯或聚甲基戊烯。
-
公开(公告)号：CN1551250A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410042100.7
申请日：2004-05-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 宫川拓也
IPC: H01B13/00 , G02F1/1343 , H05K3/10 , G09F9/30
CPC classification number: H01L31/1884 , G02F1/13439 , H01L51/0021 , Y02E10/50
Abstract: 一种透明导电膜的图案形成方法，其特征是，由在基板表面将分散了铂族元素的特定的溶液涂布成规定形状的敏化处理工序、用于使所述铂族元素固定在基板表面的退火处理工序、将所述基板以规定时间浸渍在锡镀覆液中而在实施了所述敏化处理的位置上堆积锡的导电膜的成膜工序、对该锡的导电膜进行氧化处理而获得透明导电膜的氧化工序构成，本发明可以提供电传导性、透光性良好并且电极图案的形成容易的透明电解膜的图案形成方法。
-
公开(公告)号：CN1445820A
公开(公告)日：2003-10-01
申请号：CN03120581.X
申请日：2003-03-14
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/31 , G03F7/00
CPC classification number: H01L21/3127 , H01L21/0212 , H01L21/02274 , H01L21/0272 , H01L21/0273 , H01L21/288 , H01L21/76838 , H01L27/1292
Abstract: 本发明提供一种可削减制造成本的掩膜形成方法,是一种在被处理部件的表面形成规定图形覆膜的方法，该方法由改善图形材料溶液对被处理部件的密接性的工序(S178)；向设置在被处理部件表面的掩膜中的图形形成用凹部填充图形材料溶液的工序(S180)；通过处理图形材料溶液，改善应形成的图形覆膜膜质的工序(S186)；去除附着在掩膜上的图形材料溶液的工序(S188)；使图形材料溶液干燥的工序(S190)；和退火处理图形覆膜的工序(S196)而构成。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112289535A
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN202010713317.5
申请日：2020-07-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01F1/33 , H01F3/08 , H01F27/255 , H01F41/02
Abstract: 提供磁性粉末及其制造方法以及包含所述磁性粉末的压粉磁芯及线圈部件，该磁性粉末在制造压粉磁芯时能够制造磁导率高且容易进行阻抗的调整的压粉磁芯。磁性粉末的特征在于，具有：芯部，所述芯部包含软磁性材料；基底层，设置于所述芯部的表面，并包含所述软磁性材料的氧化物，所述基底层的平均厚度为0.1nm以上且小于10nm；以及绝缘层，设置于所述基底层的表面，并以有机硅氧烷化合物作为主材料，所述有机硅氧烷化合物的C/Si原子比为0.01以上且2.00以下。
-
公开(公告)号：CN108928118A
公开(公告)日：2018-12-04
申请号：CN201810288553.X
申请日：2018-04-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种对被形成在表面(喷嘴面(23))上的防液膜(40)的劣化进行抑制的喷嘴板(21)、液体喷射头(记录头(3))、液体喷射装置(打印机(1))以及喷嘴板(21)的制造方法。喷嘴板(21)在一个面(喷嘴面(23))侧开口有喷射液体的喷嘴(22)，所述喷嘴板(21)的特征在于，在一个面(喷嘴面(23))侧形成有包含交联的氟树脂的防液层(40)。
-
公开(公告)号：CN104972746B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201510160664.9
申请日：2015-04-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/045
CPC classification number: B41J11/002 , B41J11/0015 , B41M5/5209 , B41M7/0018 , B41M7/0045
Abstract: 本发明提供一种喷墨打印机，通过等离子体照射进行介质的表面改性的情况下能抑制介质的损伤及变色的至少一项。具备：输送机构，其向第1方向输送介质；托架，具有将由放电部分产生的等离子体从等离子体照射口射出并照射介质的至少一部分的等离子体照射机构、和向照射有等离子体的介质的部位从喷嘴喷出油墨的打印头，并向与第1方向相交的第2方向移动，等离子体照射机构相对于打印头设置于第2方向的一侧，在等离子体照射口与打印头之间设有分隔板，当将从介质的表面至喷嘴的距离设为A，将从介质的表面至等离子体照射口的距离设为B，将从介质的表面至分隔板的下端的距离设为C时，满足条件式：C＜A≤B。
-
公开(公告)号：CN1896848A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200610105517.2
申请日：2006-07-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/133
CPC classification number: G02F1/133734 , C23C14/042 , C23C14/225 , C23C14/568
Abstract: 本发明提供一种取向膜的制造装置，用于制造由在对置的一对基板之间夹持液晶而构成的液晶装置的取向膜，具备：由真空腔构成的成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，用于在所述成膜室内通过物理蒸镀法将取向膜材料蒸镀到所述基板，形成取向膜；遮蔽板，其形成在所述蒸镀部与所述基板之间，具有用于选择性地蒸镀取向膜材料的狭缝状的开口部分，覆盖所述基板的不形成取向膜的区域；给除材料室，其由经由闸阀与所述成膜室连通的真空腔构成；遮蔽板收容室，其与所述给除材料室连通，并收容所述遮蔽板的备品；和交换装置，其设置在所述给除材料室，并对配置在所述成膜室内的遮蔽板和配置在所述遮蔽板收容室内的备品的遮蔽板进行交换。
-
公开(公告)号：CN1149636C
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN95109198.0
申请日：1995-06-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67069
Abstract: 为使加工或检验晶片或基底的步骤更合理并提高半导体装置或液晶面板的生产效率，在该晶片或基底被传送经过的通路中的一个位置上设置用于在常压或接近常压的压力下在预定的放电气体中产生气体放电的单元，该晶片的表面被暴露于由气体放电发生单元所产生的放电气体的激发和活化形态之下，适当地选择所述放电气体的类型，按在线方式完成对所述晶片的表面处理，例如抛光、清洗和提供亲水性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
38
records
(took 0.031 seconds)
