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公开(公告)号：CN102668014B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201080053246.5
申请日：2010-11-15
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/265 , H01J37/22 , H01J37/26
Abstract: 本发明的带电粒子显微镜系统的特征在于，将带电粒子显微镜的操作项目限定于显示在GUI画面(2)上的控制按钮中的项目。若用户在带电粒子显微镜的GUI画面(2)上仅操作了一次与希望的观察条件相对应的控制按钮(41、42、43)，则能够根据所述观察条件，设定保存在表中的电子光学条件，并进行测定。由此，能够提供直观且容易操作的带电粒子显微镜用的图形用户界面环境。
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公开(公告)号：CN107949899B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201580082721.4
申请日：2015-09-25
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/305 , H01J27/04 , H01J37/08
Abstract: 为了提供能抑制从电子显微镜镜筒放出的观察用电子束的轨道移位的离子铣削装置，离子铣削装置具备：包含永久磁铁(114)并产生加工样品的离子的潘宁放电方式的离子枪(100)；和用于观察样品的扫描电子显微镜，在该离子铣削装置中设置用于减少从永久磁铁(114)向电子显微镜镜筒的泄漏磁场的磁屏蔽(172)。
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公开(公告)号：CN105264632A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480032691.1
申请日：2014-04-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , G01K1/14 , G01N1/32 , H01J37/30 , H01J37/3002 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/08 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20271 , H01J2237/20285 , H01J2237/317
Abstract: 本发明的目的在于提供离子碾磨装置，能够在将离子束照射至试样并进行加工的离子碾磨装置中，与照射离子束时的试样的变形等无关地，高精度地进行试样的温度控制，例如提出有如下离子碾磨装置的方案，具有支撑将上述试样的一部分暴露于上述离子束并将该试样相对于离子束遮蔽的遮蔽件的遮蔽件支撑部件、和控制该遮蔽件支撑部件与上述试样台的至少一方的温度的温度控制机构，具备在上述离子束的照射中使上述试样台的与试样的接触面追随上述试样的变形而移动的移动机构、和配置在上述遮蔽件与试样之间并在上述离子束的照射中追随上述试样的变形而变形的试样保持部件中的至少一个。
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公开(公告)号：CN105047511A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510292799.0
申请日：2011-11-02
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/3053 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3007 , H01J37/304 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/26
Abstract: 本发明提供一种可在同一真空腔内进行剖面加工与平面加工双方的离子铣削装置。为实现该目的，提出一种离子铣削装置，其具备：离子源，其安装在真空腔内，向试料照射离子束；以及倾斜工作台，其具有相对于该离子源放出的离子束的照射方向垂直的方向的倾斜轴，其特征在于，所述离子铣削装置具备：旋转体，其设置在所述试料工作台上，且具有与所述倾斜轴正交的旋转倾斜轴；以及加工观察用开口，其设置在所述真空腔的壁面上，且设置在与由所述倾斜轴和所述离子束的照射轨道所成的平面正交的方向上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102668013B
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201080052970.6
申请日：2010-11-12
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/143 , H01J37/04 , H01J37/141 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/143 , H01J37/04 , H01J37/141 , H01J37/26 , H01J37/28
Abstract: 本发明提供一种能够抑制柱镜筒架的温度上升，且维持分解能等性能，并同时实现装置的小型化的扫描电子显微镜。该扫描电子显微镜利用会聚透镜使从电子源放出的电子线会聚而向试料上照射，并对来自试料的二次电子进行检测，从而观察试料，所述扫描电子显微镜的特征在于，所述会聚透镜具有电磁线圈型及永久磁铁型这两种。
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公开(公告)号：CN104094374A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201380007943.0
申请日：2013-02-18
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20 , G01N1/28 , H01J37/30 , H01L21/302
CPC classification number: C23C14/30 , G01N1/32 , H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/3053 , H01J37/3056 , H01J2237/317 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749 , H01J2237/334
Abstract: 本发明的目的在于提供构造简单且能够设定高精密的加工范围的离子铣削装置。为了实现所述目的，提出了一种离子铣削装置，该离子铣削装置包括试样保持架，该试样保持架保持试样和对朝向该试样的离子束的照射的一部分进行限制的掩膜，该试样保持架包括：第一接面，其与位于所述离子束的通过轨道侧的试样的端面接触；以及第二接面，其以使所述掩膜位于比该第一接面远离所述离子束的位置的方式与所述掩膜的端面接触。
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公开(公告)号：CN116544088A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310581760.5
申请日：2018-02-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提高通过向试样照射非聚焦的离子束加工试样的离子铣削装置的加工精度、或加工面形状的再现精度。为此，具有试样室(6)、设置于试样室的离子源位置调整机构(5)、经由离子源位置调整机构安装于试样室且射出离子束的离子源(1)、以及以旋转中心为轴旋转的试样台(2)，若将离子束的离子束中心(B0)和旋转中心(R0)一致时的旋转中心的延伸方向设为Z方向，且将与Z方向垂直的面设为XY面，则离子源位置调整机构(5)能够调整离子源(1)的XY面上的位置及Z方向的位置。
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公开(公告)号：CN109478488B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201680087921.3
申请日：2016-08-09
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明为了提供在使用了遮蔽板的截面加工中能够提高加工位置精度的带电粒子束装置，采用如下带电粒子束装置，其具有：离子源(101)；载置试样(107)的试样台(106)；配置为从离子源(101)观察，试样(107)的一部分露出的遮蔽板(108)；以及使试样(107)及遮蔽板(108)相对于来自离子源(101)的离子束(102)的向试样(107)的照射方向相对性地倾斜的倾斜部(123、124)。
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