防污染阱以及真空应用装置

    公开(公告)号:CN105474348B

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:CN201480045594.6

    申请日:2014-09-18

    Abstract: 本发明提供防污染阱以及真空应用装置,在现有构造中将双重的冷却罐之间真空隔热,通过与内侧容器连接的高导热率材料来对冷却部进行冷却。在这样的构造中,也有由于高导热率材料、针对冷却部的浸入热而造成的影响,但例如在制冷剂使用了液体氮的情况下,约需要30分钟到达-120℃。即使花费了时间的情况下,也就是-150℃前后的到达温度,远远不及液体氮温度的-196℃。因此,在本发明的防污染阱以及真空应用装置中,其特征在于,是在真空应用装置中冷却装置内冷却部(5)的构造,具有装有对冷却部(5)进行冷却的制冷剂(2)的冷却罐(1)、和从上述冷却罐(1)到冷却部(5)附近的冷却管(7),制冷剂(2)被供给到冷却部(5)前端。并且,其特征在于,将用于释放冷却管内气泡(10)的管(8)插入到冷却部(5)。

    防污染阱以及真空应用装置

    公开(公告)号:CN105474348A

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201480045594.6

    申请日:2014-09-18

    Abstract: 本发明提供防污染阱以及真空应用装置,在现有构造中将双重的冷却罐之间真空隔热,通过与内侧容器连接的高导热率材料来对冷却部进行冷却。在这样的构造中,也有由于高导热率材料、针对冷却部的浸入热而造成的影响,但例如在制冷剂使用了液体氮的情况下,约需要30分钟到达-120℃。即使花费了时间的情况下,也就是-150℃前后的到达温度,远远不及液体氮温度的-196℃。因此,在本发明的防污染阱以及真空应用装置中,其特征在于,是在真空应用装置中冷却装置内冷却部(5)的构造,具有装有对冷却部(5)进行冷却的制冷剂(2)的冷却罐(1)、和从上述冷却罐(1)到冷却部(5)附近的冷却管(7),制冷剂(2)被供给到冷却部(5)前端。并且,其特征在于,将用于释放冷却管内气泡(10)的管(8)插入到冷却部(5)。

    电子显微镜用试样支架及试样观察方法

    公开(公告)号:CN103348439B

    公开(公告)日:2016-09-28

    申请号:CN201180067087.9

    申请日:2011-11-02

    CPC classification number: H01J37/20 H01J37/28 H01J2237/2001 H01J2237/2003

    Abstract: 不是环境控制式电子线装置,即使通常的电子线装置也能实现试样附近的局部低真空化与试样冷却,并且不对装置进行改造且不追加气缸等设备而只利用试样支架实现试样附近的局部低真空化与试样冷却。在能将成为气体源的物质收纳在内部的容器与在该容器的试样台下部具备贯通孔的试样支架上载置被观察试样,通过上述贯通孔将从上述容器蒸发或挥发的气体供给到上述被观察试样,在上述被观察试样的载置位置或试样附近形成局部的低真空状态。并且,利用在挥发时的气化热也能进行试样冷却。

    电子显微镜用试样支架及试样观察方法

    公开(公告)号:CN103348439A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201180067087.9

    申请日:2011-11-02

    CPC classification number: H01J37/20 H01J37/28 H01J2237/2001 H01J2237/2003

    Abstract: 不是环境控制式电子线装置,即使通常的电子线装置也能实现试样附近的局部低真空化与试样冷却,并且不对装置进行改造且不追加气缸等设备而只利用试样支架实现试样附近的局部低真空化与试样冷却。在能将成为气体源的物质收纳在内部的容器与在该容器的试样台下部具备贯通孔的试样支架上载置被观察试样,通过上述贯通孔将从上述容器蒸发或挥发的气体供给到上述被观察试样,在上述被观察试样的载置位置或试样附近形成局部的低真空状态。并且,利用在挥发时的气化热也能进行试样冷却。

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