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公开(公告)号：CN105340050B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201480035014.5
申请日：2014-07-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/08 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/006 , H01J2237/06 , H01J2237/08 , H01J2237/182 , H01J2237/1825 , H01J2237/184 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明的离子铣削装置具备真空室(105)、进行该真空室内的真空排气的排气装置(101)、在上述真空室内支撑离子束所照射的试样(102)的试样台(103)、加热上述真空室内的加热装置(107)、向上述真空室内导入作为热介质的气体的气源(106)、控制该气源的控制装置(110)，该控制装置在由上述加热装置进行的加热时，以上述真空室内的压力为预定的状态的方式控制。由此，在冷却试样进行离子铣削后大气开放时，可在短时间内进行用于抑制产生的结露等的温度控制。
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公开(公告)号：CN104040677A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280066028.4
申请日：2012-12-25
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/305 , H01J37/20
CPC classification number: H01J37/3053 , C23C8/40 , C23C14/505 , C23C16/4586 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J2237/002 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/28 , H01J2237/3151 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明的目的在于提供利用比较简单的结构来实现试料或试料台的冷却的带电粒子线照射装置。作为达到上述目的的一方案，带电粒子线照射装置具备带电粒子源、试料台、及具有传递用于使该试料台移动的驱动力的传递机构的驱动机构，其中，该带电粒子线照射装置具有配置于真空室内且能收容离子液体(12)的容器，该容器设置于在收容有所述离子液体(12)时使所述传递机构的至少一部分浸渍于离子液体(12)中的位置。
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公开(公告)号：CN105264632A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480032691.1
申请日：2014-04-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , G01K1/14 , G01N1/32 , H01J37/30 , H01J37/3002 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/08 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20271 , H01J2237/20285 , H01J2237/317
Abstract: 本发明的目的在于提供离子碾磨装置，能够在将离子束照射至试样并进行加工的离子碾磨装置中，与照射离子束时的试样的变形等无关地，高精度地进行试样的温度控制，例如提出有如下离子碾磨装置的方案，具有支撑将上述试样的一部分暴露于上述离子束并将该试样相对于离子束遮蔽的遮蔽件的遮蔽件支撑部件、和控制该遮蔽件支撑部件与上述试样台的至少一方的温度的温度控制机构，具备在上述离子束的照射中使上述试样台的与试样的接触面追随上述试样的变形而移动的移动机构、和配置在上述遮蔽件与试样之间并在上述离子束的照射中追随上述试样的变形而变形的试样保持部件中的至少一个。
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公开(公告)号：CN105047511A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510292799.0
申请日：2011-11-02
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/3053 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3007 , H01J37/304 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/26
Abstract: 本发明提供一种可在同一真空腔内进行剖面加工与平面加工双方的离子铣削装置。为实现该目的，提出一种离子铣削装置，其具备：离子源，其安装在真空腔内，向试料照射离子束；以及倾斜工作台，其具有相对于该离子源放出的离子束的照射方向垂直的方向的倾斜轴，其特征在于，所述离子铣削装置具备：旋转体，其设置在所述试料工作台上，且具有与所述倾斜轴正交的旋转倾斜轴；以及加工观察用开口，其设置在所述真空腔的壁面上，且设置在与由所述倾斜轴和所述离子束的照射轨道所成的平面正交的方向上。
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公开(公告)号：CN104094374A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201380007943.0
申请日：2013-02-18
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20 , G01N1/28 , H01J37/30 , H01L21/302
CPC classification number: C23C14/30 , G01N1/32 , H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/3053 , H01J37/3056 , H01J2237/317 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749 , H01J2237/334
Abstract: 本发明的目的在于提供构造简单且能够设定高精密的加工范围的离子铣削装置。为了实现所述目的，提出了一种离子铣削装置，该离子铣削装置包括试样保持架，该试样保持架保持试样和对朝向该试样的离子束的照射的一部分进行限制的掩膜，该试样保持架包括：第一接面，其与位于所述离子束的通过轨道侧的试样的端面接触；以及第二接面，其以使所述掩膜位于比该第一接面远离所述离子束的位置的方式与所述掩膜的端面接触。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105264632B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201480032691.1
申请日：2014-04-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , G01K1/14 , G01N1/32 , H01J37/30 , H01J37/3002 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/08 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20271 , H01J2237/20285 , H01J2237/317
Abstract: 本发明的目的在于提供离子碾磨装置，能够在将离子束照射至试样并进行加工的离子碾磨装置中，与照射离子束时的试样的变形等无关地，高精度地进行试样的温度控制，例如提出有如下离子碾磨装置的方案，具有支撑将上述试样的一部分暴露于上述离子束并将该试样相对于离子束遮蔽的遮蔽件的遮蔽件支撑部件、和控制该遮蔽件支撑部件与上述试样台的至少一方的温度的温度控制机构，具备在上述离子束的照射中使上述试样台的与试样的接触面追随上述试样的变形而移动的移动机构、和配置在上述遮蔽件与试样之间并在上述离子束的照射中追随上述试样的变形而变形的试样保持部件中的至少一个。
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公开(公告)号：CN104040677B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201280066028.4
申请日：2012-12-25
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/305 , H01J37/20
CPC classification number: H01J37/3053 , C23C8/40 , C23C14/505 , C23C16/4586 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J2237/002 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/28 , H01J2237/3151 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明的目的在于提供利用比较简单的结构来实现试料或试料台的冷却的带电粒子线照射装置。作为达到上述目的的一方案，带电粒子线照射装置具备带电粒子源、试料台、及具有传递用于使该试料台移动的驱动力的传递机构的驱动机构，其中，该带电粒子线照射装置具有配置于真空室内且能收容离子液体(12)的容器，该容器设置于在收容有所述离子液体(12)时使所述传递机构的至少一部分浸渍于离子液体(12)中的位置。
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公开(公告)号：CN105340050A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480035014.5
申请日：2014-07-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/08 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/006 , H01J2237/06 , H01J2237/08 , H01J2237/182 , H01J2237/1825 , H01J2237/184 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明的离子铣削装置具备真空室(105)、进行该真空室内的真空排气的排气装置(101)、在上述真空室内支撑离子束所照射的试样(102)的试样台(103)、加热上述真空室内的加热装置(107)、向上述真空室内导入作为热介质的气体的气源(106)、控制该气源的控制装置(110)，该控制装置在由上述加热装置进行的加热时，以上述真空室内的压力为预定的状态的方式控制。由此，在冷却试样进行离子铣削后大气开放时，可在短时间内进行用于抑制产生的结露等的温度控制。
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公开(公告)号：CN103180929B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201180051255.5
申请日：2011-11-02
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/30 , H01J37/305
CPC classification number: H01J37/3053 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3007 , H01J37/304 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/26
Abstract: 本发明提供一种可在同一真空腔内进行剖面加工与平面加工双方的离子铣削装置。为实现该目的，提出一种离子铣削装置，其具备在真空腔内配置、且具有平行于与离子束正交的第一轴的倾斜轴的倾斜工作台，其中，离子铣削装置具备驱动机构和切换部，驱动机构具有平行于与第一轴正交的第二轴的旋转轴以及倾斜轴，且使试料旋转或者倾斜，切换部对如下两个状态进行切换，其一是一边使倾斜工作台倾斜，一边使支承台旋转或者往复倾斜，从而照射离子束的状态，其二是使倾斜工作台成为非倾斜状态，并且使支承台往复倾斜，从而照射离子束的状态。
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公开(公告)号：CN102473576A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080033608.4
申请日：2010-07-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/09 , G01N1/286 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/31
Abstract: 本发明涉及配置在离子铣削装置的离子源(1)与试样(7)之间与试样接触的位置上的遮蔽板(8，10)，其特征在于，上述遮蔽板为在中心具有开口的圆形，并能够相对于通过上述开口的轴(11)进行旋转。并且，在上述遮蔽板的端部的上述离子源侧的面上设有槽，再有，在上述遮蔽板的端部设有倾斜面。由此，能够提供具有增加能够加工次数并能够高精度地进行遮蔽板的位置调整的遮蔽板的离子铣削装置。
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