半导体集成电路器件
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101785096A

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200980100120.6

    申请日:2009-02-24

    CPC classification number: H01L27/0207 H01L27/11807

    Abstract: 本发明提供一种不伴随OPC修正的数据量和处理时间增大而可防止靠近单元边界线的金属布线的变细和断线的半导体集成电路的布图结构。单元A和单元B在单元边界线(F1)处相邻。按照以单元边界线(F1)为对称轴实质上成为轴对称的方式,配置在直至单元边界线(F1)之间都不存在其它布线区的金属布线(m4、m6、m7、m9)的布线区。另一方面,扩散区的单元边界线(F1)侧的边(g1、g2、g3、g4)相对于单元边界线(F1)是非对称的。

    电平移动电路
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1184743C

    公开(公告)日:2005-01-12

    申请号:CN02126870.3

    申请日:2002-07-16

    CPC classification number: H03K3/012 H03K3/356113

    Abstract: 本发明旨在提供这样的电平移动电路,即使低压信号的电压电平降低时,该电路也可稳定输出经电平变换的信号。为此,在数字信号在N沟道晶体管15、16源极处输入的CMOS电平移动电路中,N沟道晶体管15、16的栅极处被输入偏置电压Vref,该偏置电压Vref,高于数字信号的高电平电压,但低于数字信号的高电平电压加上N沟道晶体管15、16的阈值电压后的值。本发明提供一种设有第一N沟道晶体管、第二N沟道晶体管、第一P沟道晶体管以及第二P沟道晶体管的CMOS电平移动电路,其中第一N沟道晶体管的衬底电极与第二N沟道晶体管的衬底电极上所加的电压之一或它们二者低于接地电压。

    半导体集成电路装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103890929A

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:CN201180074485.3

    申请日:2011-10-31

    CPC classification number: H01L27/0928 G06F17/5068 H01L27/0207 H01L27/11807

    Abstract: 本发明提供一种半导体集成电路装置,其中,第二单元(CL2)与具有基准单元高度的N倍(N为2以上的整数)的单元高度的第一单元(CL1)在单元宽度方向上邻接。在第二单元(CL2)的供电用金属布线(101)之下形成由杂质扩散区域形成的扩散布线(102)。第一单元(CL1)具有以横跨金属布线(101)的单元宽度方向上的延长区域的方式与扩散布线(102)相对置形成的晶体管扩散区域(D_MP23)。扩散布线(102)在单元宽度方向上与单元边界(BL1)相间隔地配置。

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