多层布线基板的制造方法
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103108503A

    公开(公告)日:2013-05-15

    申请号:CN201210448528.6

    申请日:2012-11-09

    Abstract: 本发明提供多层布线基板的制造方法,针对在芯基板的两个面具有由至少1层导体层和至少1层树脂绝缘层交替层叠而成的层叠构造体的多层布线基板,该制造方法能够在不降低制造成品率的前提下减薄芯基板且能够使该多层布线基板小型化。该多层布线基板的制造方法的特征在于包括:在支承基板形成包含至少1层导体层和至少1层树脂绝缘层的第1层叠构造体的第1层叠构造体形成工序;将在上侧主表面配设有金属层的芯基板以该芯基板的下侧主表面与上述第1层叠构造体接触的方式层叠于上述第1层叠构造体的芯基板形成工序;以及在上述芯基板上以覆盖上述金属层的方式形成包含至少1层导体层和至少1层树脂绝缘层的第2层叠构造体的第2层叠构造体形成工序。

    布线基板的制造方法
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101277592B

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN200810090749.4

    申请日:2008-03-31

    CPC classification number: H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 本发明提供一种布线基板的制造方法,在进行分割曝光时能够提高成品率和生产率。该布线基板的制造方法的特征在于,具有以下工序:将导体层和树脂绝缘层按该顺序层积于基板上;在层积有上述导体层和上述树脂绝缘层的上述基板上形成对位标记;在形成有上述对位标记的基板上设置感光性材料;以上述对位标记为基准,对由设置有上述对位标记的边界区域划分的多个曝光区域的上述感光性材料依次进行曝光;以及在上述基板的上述多个曝光区域之间,以与上述边界区域的宽度大致相同的切断宽度在上述对位标记上进行切断,使上述对位标记消失。

    配线基板的制造方法
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101400220B

    公开(公告)日:2010-11-10

    申请号:CN200810166281.2

    申请日:2008-09-25

    Abstract: 提供一种配线基板的制造方法,能够实现提高显影工序中的成品率,并且能够切实地形成形状优良的微细配线图案层。在本发明的配线基板K的制造方法中,首先在树脂绝缘层(16、17)的表面形成金属层(20、21)。接着,在金属层(20、21)上粘贴具有耐碱性的感光性干膜材料(22、23)后,进行曝光及基于碱的显影,形成预定图案的抗电镀剂(22a、22b)。接着,进行电镀而在抗电镀剂(22a、22b)的开口部(24、25)形成配线图案层(28、29)。接着,利用有机胺类剥离液来剥离抗电镀剂(22a、22b)。接着,去除位于抗电镀剂(22a、22b)正下方的金属层(20、21)。

    配线基板的制造方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101400220A

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200810166281.2

    申请日:2008-09-25

    Abstract: 提供一种配线基板的制造方法,能够实现提高显影工序中的成品率,并且能够切实地形成形状优良的微细配线图案层。在本发明的配线基板K的制造方法中,首先在树脂绝缘层(16、17)的表面形成金属层(20、21)。接着,在金属层(20、21)上粘贴具有耐碱性的感光性干膜材料(22、23)后,进行曝光及基于碱的显影,形成预定图案的抗电镀剂(22a、22b)。接着,进行电镀而在抗电镀剂(22a、22b)的开口部(24、25)形成配线图案层(28、29)。接着,利用有机胺类剥离液来剥离抗电镀剂(22a、22b)。接着,去除位于抗电镀剂(22a、22b)正下方的金属层(20、21)。

    多层布线基板的制造方法
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103108503B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201210448528.6

    申请日:2012-11-09

    Abstract: 本发明提供多层布线基板的制造方法,针对在芯基板的两个面具有由至少1层导体层和至少1层树脂绝缘层交替层叠而成的层叠构造体的多层布线基板,该制造方法能够在不降低制造成品率的前提下减薄芯基板且能够使该多层布线基板小型化。该多层布线基板的制造方法的特征在于包括:在支承基板形成包含至少1层导体层和至少1层树脂绝缘层的第1层叠构造体的第1层叠构造体形成工序;将在上侧主表面配设有金属层的芯基板以该芯基板的下侧主表面与上述第1层叠构造体接触的方式层叠于上述第1层叠构造体的芯基板形成工序;以及在上述芯基板上以覆盖上述金属层的方式形成包含至少1层导体层和至少1层树脂绝缘层的第2层叠构造体的第2层叠构造体形成工序。

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