半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1983573A

    公开(公告)日:2007-06-20

    申请号:CN200610071086.2

    申请日:2006-03-31

    Abstract: 本发明提供一种具有WLP结构且能够提高耐热性的半导体器件。在芯片的Si衬底和密封树脂之间形成围堰层,以围绕芯片的所有侧面,该围堰层分布在PI膜和Si衬底上。选择围堰层的材料,以在围堰层和Si衬底之间、围堰层和PI膜之间以及围堰层和密封树脂之间获得良好的附着性。从而,即使在加热环境中,在半导体器件的侧面上、Si衬底和密封树脂结合的部分处出现裂缝,该裂缝也不会延伸到围堰层中。因此,可避免密封树脂脱落或芯片内部出现脱落,并且保持半导体器件的性能。

Patent Agency Ranking