-
公开(公告)号：CN116190295B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310480227.X
申请日：2023-04-28
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L21/68 , H01L21/683 , H01L33/00
Abstract: 本发明涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种半导体元器件转移装置及转移方法，在使用转移印章对半导体元器件进行转移时对转移印章的运动精度进行准确测量的目的，进而能够提升转移印章与半导体元器件之间的对准精度，保证了制备的产品的良品率，解决了相关技术中转移印章与临时载板或驱动电路背板对齐后，仅依靠导轨的大行程上下运动无法保证Micro LED芯片的精确拾取或者准确放置到驱动电路背板预定位置，从而导致转移的良率下降，影响后续相关制程的技术问题。
-
公开(公告)号：CN116394657A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310663504.0
申请日：2023-06-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/145
Abstract: 本申请属于打印技术领域，公开了一种多分辨率打印方法及装置，所述装置包括安装座，安装座能够绕z轴转动；至少两个喷头，每个喷头包括多个沿x轴方向以第一间隔等间隔排布的喷孔，各喷头沿y轴方向以第二间隔等间隔排布地设置在安装座上，且第二间隔可调；沿y轴方向，从第二个喷头起，各喷头的喷孔依次沿x轴的同一方向相对上一个喷头的喷孔偏移第一偏移距离，第一偏移距离与第一间隔满足关系：Of=No/M，其中Of为第一偏移距离，No为第一间隔，M为喷头的总数；从而能够实现多种分辨率的打印，且分辨率的调节范围大，适用性强。
-
公开(公告)号：CN115373433B
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211306426.0
申请日：2022-10-25
Applicant: 季华实验室(CN)
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明属于自动控制技术领域，公开了一种转台运动补偿方法、装置、设备及存储介质。该方法应用于曲柄滑块式转台，包括：确定初始条件参数，并根据初始条件参数构建转台控制函数；获取旋转组件对应的多个分段旋转角度；分别根据各个分段旋转角度驱动曲柄滑块式转台进行旋转，记录各分段对应的测量旋转角度；根据各分段对应的分段旋转角度和测量旋转角度计算转角偏差；根据转台控制函数将转角偏差转换为直线运动误差；根据直线运动误差对各分段下直线运动模块的直线运动位移进行补偿。通过上述方式，对转角进行校准，补偿直线运动模块的直线运动位移，提升了曲柄滑块式转台转角的控制精度。
-
公开(公告)号：CN119832304A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411883147.X
申请日：2024-12-19
Applicant: 季华实验室
IPC: G06V10/764 , G06V10/82 , G06V10/774 , G06V10/25 , G06V10/26 , G06N3/0464 , G06N3/08 , G06T7/00 , G06T7/10
Abstract: 本发明涉及计算机视觉技术领域，具体涉及一种缺陷检测方法、装置及设备，本发明通过获取历史缺陷样本集及扩充集生成第一缺陷样本集，涵盖更多缺陷情况，提升模型对复杂缺陷适应力；其次，利用深度卷积神经网络模型等预处理并生成Micro LED缺陷检测模型，提高检测精度，准确标注分类相似缺陷，保障检测结果可靠；再者，自动化样本集生成与模型优化节省时间精力，模型能够快速准确地助力生产决策；最后，该模型利于提升生产决策质量、推动科技创新，助力解决生产问题，保障工业可持续发展。
-
公开(公告)号：CN118722014B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202411210087.5
申请日：2024-08-30
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及打印设备技术领域，特别涉及一种墨栈装置及喷墨打印机，涉及打印设备技术领域，其中，墨栈装置包括基座、观墨机构以及墨栈机构，将观墨机构安装于基座并能在基座上沿纵向滑动，同时在观墨机构上形成沿纵向贯穿设置的观测空间，在将墨栈机构安装于基座，并使得墨栈机构沿横向穿设于观测空间，能够通过设置的观墨机构沿纵向靠近或者远离沿纵向贯穿墨栈机构的观测孔，以在喷头进入放置空间并对应于观测孔时，通过观墨机构对喷头进行观测作业，无需对观墨仪进行人工取放，由于观墨机构能靠近或远离观测孔，实现了观墨机构和墨栈机构共同集成于基座，以形成一墨栈装置的目的，即实现了集成化设计，也降低了空间占用率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117969555B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410375031.9
申请日：2024-03-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质，将基板可活动地安装于基台，再使得基板的一侧面形成像素坑阵列，并使得像素坑阵列中包括多个沿预设打印方向依次排列的多个像素坑子阵列，再将打印模块以及视觉检测机构均位于像素坑阵列的上方，通过控制打印模块对多个像素坑子阵列中的目标像素子阵列填充墨滴以进行打印，并控制视觉检测机构采集上一完成打印子阵列的当前图像信息，根据当前图像信息，对上一完成打印子阵列进行漏点检测，在进行墨滴打印的打印过程中即可实现对基板上已完成打印的像素坑中是否存在漏点的情况进行即时检测，实现了对墨滴打印中的像素坑中存在的漏点进行实时检测的功能，节约打印时间，提升打印效率。
-
公开(公告)号：CN117870881A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202311786148.8
申请日：2023-12-22
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提供了一种多区域波长标定方法、装置及计算机可读存储介质，多区域波长标定方法包括在光谱仪上根据空间维度划分出预设数量个信号通道；获取光纤信号，并将光纤信号分为预设数量个子信号；将预设数量个子信号一一对应输入至各个信号通道中；分别计算各个子信号在对应信号通道中的像元位置；根据像元位置获取其对应信号通道中的拟合方程。本发明技术方案按照空间维度将光谱仪划分出多个信号通道，同时将光纤信号分为多个子信号，从而可通过单次信号采集处理，实现光谱仪在多个信号通道中的标定，也即根据不同空间维度的波长标定。简化标定操作流程，提高标定的效率，避免曝光波动、光源不稳等影响，有效保证标定的准确度。
-
公开(公告)号：CN117465138A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311802918.3
申请日：2023-12-26
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及打印设备技术领域，并具体公开一种喷头模组、喷头模组调节方法及打印机，喷头模组包括底座，底座上形成有沿X向布置的第一安装孔及沿Y向贯穿底座且与第一安装孔连通的多个第一调节孔，支座沿Y向可滑动地安装于第一安装孔内并形成有沿X向延伸且与第一安装孔对应并连通的第二安装孔及沿Y向贯穿支座且与第二安装孔连通的多个第二调节孔以及贯穿支座且与第二安装孔连通的第三调节孔，喷头沿X向及沿Y向可滑动地安装于第二安装孔内，各第一调节孔安装有第一千分尺，各第二调节孔安装有第二千分尺，第三调节孔安装有用于沿X向推动喷头模组的第三千分尺，对喷头模组安装精度进行精准调节和控制，降低了打印时的误差。
-
公开(公告)号：CN117253844A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311544434.3
申请日：2023-11-20
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L21/687 , H01L33/00 , G03F7/20
Abstract: 本申请公开一种六自由度圆弧形磁浮微动台及器件转移装置，涉及磁悬浮技术领域，其中，六自由度圆弧形磁浮微动台包括：定子；动子，且动子与定子平行设置；环形永磁阵列，环形永磁阵列设置在动子上；至少三个第一绕组，三个第一绕组设置在定子上；至少三个第二绕组，三个第二绕组设置在定子上。本申请提供的上述方案，可以通过改变三个第一绕组电流大小和方向来调节磁浮支撑力，从而实现Z、Rx、Ry这三个自由度的运动。由于第二绕组的受力方向为径向，当三个第二绕组到环形永磁阵列中心的距离不同时，三个第二绕组在径向受力的同时也会产生旋转转矩，从而实现了微动台在X、Y和Rz向运动的目的，进而方便了高精密大型设备的精确定位。
-
公开(公告)号：CN116811447A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202311081736.1
申请日：2023-08-25
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及视觉定位技术领域，公开了一种基板纠偏和定位方法及相关设备，该基板纠偏和定位方法：通过获取基板偏转的基准角度以及目标位置，在基板实际纠偏和定位中，获取实时的基板偏转的实际角度和基板的实际位置，根据基准角度和实际角度的角度偏差控制转台对基板进行纠偏，根据目标位置和实际位置的位置偏差控制工作台对基板进行定位，解决了由于现有对多相机无共同视野进行标定的方法成本较高，标定过程复杂，计算繁琐的基板纠偏问题，通过本申请设置的基板纠偏和定位方法，不但可以满足基板纠偏微米级精度，而且相较于利用三维立体坐标系标定更加简单和高效。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
37
records
(took 0.074 seconds)
