含三氟甲基和哌嗪的三唑Mannich碱类化合物及其制备与应用

    公开(公告)号:CN105111192A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201510603487.7

    申请日:2015-09-17

    Applicant: 南开大学

    CPC classification number: C07D403/12 C07D249/12

    Abstract: 本发明属农用杀菌、除草剂领域,具体公开了一种含三氟甲基和哌嗪的三唑Mannich碱类化合物及制备方法和应用。本发明具有如通式I和II所示的结构式,式中R1、R2具有权利要求1所定义。本发明化合物对黄瓜枯萎病菌、花生褐斑病菌、苹果轮纹病菌、番茄早疫病菌、小麦纹枯病菌、小麦赤霉病菌等植物病菌有一定的离体抑制活性。特别是对苹果轮纹病菌、小麦纹枯病菌有较好的离体抑制活性。本发明的通式I和通式II化合物同时对油菜具有一定的除草活性,还对水稻KARI酶具有较好的离体抑制活性。本发明适用于对各种作物上菌害和草害的综合防治,以及对KARI酶活性的抑制。

    含(杂)芳基和哌嗪的1,2,4-三唑硫酮衍生物及制备方法和应用

    公开(公告)号:CN105330651B

    公开(公告)日:2018-05-01

    申请号:CN201510603490.9

    申请日:2015-09-17

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开了含(杂)芳基和哌嗪的1,2,4‑三唑硫酮衍生物及制备方法和应用。该合成方法反应步骤少,条件简单温和,操作简捷,收率高。本发明具有如通式I和II所示的结构式,式中R1、R2、R3具有权利要求1所定义。本发明化合物对黄瓜枯萎病菌、花生褐斑病菌、苹果轮纹病菌、番茄早疫病菌、小麦赤霉病菌、小麦纹枯病菌等植物病菌有一定的离体抑制活性,尤其对黄瓜枯萎病菌、花生褐斑病菌、苹果轮纹病菌、小麦纹枯病菌有较高的离体抑制活性。本发明的通式I和通式II化合物同时具有水稻KARI酶离体抑制活性。本发明适用于对各种作物上菌害的综合防治。

    一种调节多晶Fe3O4薄膜材料电阻率的方法

    公开(公告)号:CN101345287B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200810151233.6

    申请日:2008-09-03

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种调节多晶Fe3O4薄膜材料电阻率的方法,特别是一种通过退火控制多晶Fe3O4薄膜材料的电阻率升高或降低的方法。该方法解决了自旋注入过程中的电阻率不匹配问题,满足向各种具有不同电阻率的半导体材料中注入自旋的实际需要。该方法的优点是简单易行,容易有效地调节多晶Fe3O4薄膜材料的电阻率,并且所用方法实用性较好,易于工业化。

    柔性衬底薄膜太阳电池衬底的清洗方法

    公开(公告)号:CN100433375C

    公开(公告)日:2008-11-12

    申请号:CN200510122528.7

    申请日:2005-12-22

    Applicant: 南开大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种柔性衬底薄膜太阳电池衬底的清洗方法,由褪火、支撑、蹭试、加热超声清洗、真空烘干五个步骤组成的清洗方法,其中,200-230℃褪火1-3小时,水温至50-80℃加热,超声波清洗衬底30-60分钟,120-140℃真空条件下烘干。本发明实现对有机柔性衬底的清洗,使之达到半导体器件制造的清洁标准而不对其造成损伤。本发明是清洗用于半导体器件制造的柔性衬底的一种有效方法。

    柔性衬底薄膜太阳电池衬底的清洗方法

    公开(公告)号:CN1819281A

    公开(公告)日:2006-08-16

    申请号:CN200510122528.7

    申请日:2005-12-22

    Applicant: 南开大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种柔性衬底薄膜太阳电池衬底的清洗方法,由褪火、支撑、蹭试、加热超声清洗、真空烘干五个步骤组成的清洗方法,其中,200-230℃褪火1-3小时,水温至50-80℃加热,超声波清洗衬底30-60分钟,120- 140℃真空条件下烘干。本发明实现对有机柔性衬底的清洗,使之达到半导体器件制造的清洁标准而不对其造成损伤。本发明是清洗用于半导体器件制造的柔性衬底的一种有效方法。

    电子束蒸发低温制备锡掺杂氧化铟ITO薄膜的方法

    公开(公告)号:CN1818129A

    公开(公告)日:2006-08-16

    申请号:CN200610013295.1

    申请日:2006-03-14

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及电子束蒸发低温制备锡掺杂氧化铟ITO薄膜的方法。通过控制蒸发条件,在氧分压5.0×10-2Pa,衬底温度100℃,电子枪电压-8.0kv等条件下,实现采用电子束蒸发低温高效无损伤制备锡掺杂氧化铟ITO薄膜,薄膜材料的光学透过率为90%,电阻率为2.168×10-4Ω·cm,方块电阻为22Ω,厚度为100nm,霍尔系数为-4.55×10-2m2/v,迁移率为21.4cm2/v·s,其光电性能满足柔性太阳透明电极的需求,减小太阳电池串联电阻,提高输出效率。

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