一种碳化硅结势垒肖特基二极管结构

    公开(公告)号:CN118538777A

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202410723610.8

    申请日:2024-06-05

    Abstract: 本发明涉及一种碳化硅结势垒肖特基二极管结构,属于功率半导体技术领域;包括底部的阴极金属层、N+衬底层、N型缓冲层、第一N‑外延层、内置P型区、内置多晶硅、N+注入区、隔离介质层、第二N‑外延层、P+区、肖特基接触层、欧姆接触层以及顶部的阳极金属层;第一N‑外延层位于第二N‑外延层下方,在两者的交界处设置N+注入区和隔离介质层;U型分布的内置P型区位于隔离介质层下方,内部设置与阳极金属层相连的内置多晶硅。本发明二极管结构在截止状态具有更小的泄漏电流,同时有效降低了由于高能粒子辐射导致的泄漏电流增大,改善了肖特基结处的强电场分布,大幅提升了碳化硅结势垒肖特基二极管的抗单粒子烧毁能力。

    一种基于时间交织的高频信号单粒子瞬态检测方法

    公开(公告)号:CN116203381A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202211058825.X

    申请日:2022-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种基于时间交织的高频信号单粒子瞬态检测方法,包括:在未辐照情况下,对待测电路输出进行时间交织高速采集,得到采样值D(t),并计算得到对应时刻不含噪声的理想去噪值I(t)和噪声值Z(t);对待测电路进行辐照试验,对待测电路输出的高频信号进行时间交织高速采集,得到采样值D′(t);根据采样值D′(t)和对应时刻的噪声值Z(t),计算得到对应时刻不含噪声的实际去噪值V(t);根据V(t)与对应时刻的理想去噪值I(t)比较结果,确定对应时刻的单粒子瞬态的幅值和脉宽值;直到辐照试验结束,得到待测电路在重离子下的单粒子瞬态错误特征分布图。本发明有效提高了板级测试单粒子瞬态信号的脉宽精度和幅值精度,提高了测试的准确性。

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