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公开(公告)号：CN107359210B
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201710327951.3
申请日：2017-05-04
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L31/0203 , H01L31/18 , H01L23/498 , H01L27/14
Abstract: 公开了用于制造光电转换设备的方法。用于制造光电转换设备的方法，包括以下步骤：将包括设置有光电转换元件的半导体层的第一基板固定到第二基板；从第一基板的与第二基板相反的一侧使固定到第二基板的第一基板薄化；将第一基板固定到设置有半导体元件的第三基板，使得第三基板位于第一基板的与第二基板相反的一侧；以及在将第一基板固定到第三基板的步骤之后移除第二基板。
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公开(公告)号：CN102212778A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN201110083128.5
申请日：2011-04-02
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/042
Abstract: 本申请涉及蒸发设备，该蒸发设备减少掩模的变形、提高基板与蒸发掩模之间的附着性并且提高划分要形成膜的区域和不形成膜的区域的精度。该蒸发设备包括用于使设置在包括磁材料的蒸发掩模上的膜形成基板压靠蒸发掩模的施压机构。该施压机构包括用于将掩模至少吸引向膜形成基板的角部的磁体。
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公开(公告)号：CN101713066A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910204460.5
申请日：2009-09-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C23C16/448 , H01L21/00 , H01L51/56
CPC classification number: B32B37/08 , B32B37/0046 , B32B2037/246 , B32B2309/02 , B32B2309/62 , B32B2457/206 , C23C14/12 , Y10T156/10
Abstract: 一种用于沉积膜的方法、膜沉积装置和用于制造包含有机材料的膜的方法，所述用于沉积膜的方法包括准备通过升华而被提纯的沉积材料，在降低含水量的环境中固化已提纯的沉积材料，通过降低含水量的环境将已固化的沉积材料输送至膜沉积室中，在膜沉积室中将已固化的沉积材料的膜沉积在基板上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114914260A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202210517086.X
申请日：2017-03-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L27/146 , H04N5/225
Abstract: 本发明提供一种光电转换装置以及照相机。所述光电转换装置包括元件隔离部和像素隔离部，所述元件隔离部设置在半导体层的正面侧并且由绝缘体构成。所述像素隔离部包括在法线方向上与隔离区域交叠的部分。所述半导体层在中间平面中跨越半导体区域连续。所述部分位于一个半导体区域与另一半导体区域之间。
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公开(公告)号：CN109390376A
公开(公告)日：2019-02-26
申请号：CN201810873993.1
申请日：2018-08-03
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01L27/3218 , G09G3/3225 , G09G3/3233 , G09G3/3266 , G09G2300/0426 , G09G2300/0819 , G09G2300/0842 , G09G2310/0281 , H01L27/322 , H01L27/3258 , H01L51/5209 , H01L51/5218 , H01L51/5221 , H01L51/56 , H01L27/3246 , H01L51/5281
Abstract: 本发明提供显示设备及其制造方法、以及电子装置。公开的显示设备包括第一电极，第二电极，布置在第一电极和第二电极之间的有机层，以及构造成至少覆盖每个第一电极的侧面的绝缘膜。绝缘膜包括：第一绝缘层，其构造成至少覆盖每个第一电极的侧面的一部分；以及第二绝缘层，其构造成覆盖侧面。第一绝缘层布置在侧面和第二绝缘层之间，并且包括第一部分和第二部分，所述第二部分的密度低于所述第一部分的密度。
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公开(公告)号：CN108123064A
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201711237905.0
申请日：2017-11-30
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及一种显示装置、电子装置和显示装置的制造方法。显示装置包括：电极构造，其包括配置在基板上的第一电极和配置在所述第一电极上的构件；绝缘体，用于覆盖所述电极构造的周边部；有机膜，用于覆盖所述第一电极和所述绝缘体；以及第二电极，用于覆盖所述有机膜。所述构件包括以覆盖所述第一电极的上面的周边部的方式配置在所述电极构造的周边部中的第一部分，并且所述电极构造的周边部的反射率比作为所述电极构造的周边部内侧的部分的中央部的反射率低。
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公开(公告)号：CN102312189B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201110183672.7
申请日：2011-07-01
CPC classification number: C23C14/12 , C03C17/002 , C23C14/042 , C23C14/54 , H01J2237/0216
Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供能够减少可传送到对准机构的振动和变形并由此抑制在表面方向上的基板和掩模之间的不对准的成膜装置。所述成膜装置包括：成膜室；对准机构支撑部件；和设置在对准机构支撑部件上的对准机构，其中：对准机构支撑部件包含用于放置对准机构的支撑板、和腿部；支撑板被设置为借助于腿部与成膜室的顶板分开；并且，支撑板的至少一部分由能够将传送到支撑板的振动转换成热能而由此抑制振动的阻尼材料形成。
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公开(公告)号：CN102312189A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110183672.7
申请日：2011-07-01
CPC classification number: C23C14/12 , C03C17/002 , C23C14/042 , C23C14/54 , H01J2237/0216
Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供能够减少可传送到对准机构的振动和变形并由此抑制在表面方向上的基板和掩模之间的不对准的成膜装置。所述成膜装置包括：成膜室；对准机构支撑部件；和设置在对准机构支撑部件上的对准机构，其中：对准机构支撑部件包含用于放置对准机构的支撑板、和腿部；支撑板被设置为借助于腿部与成膜室的顶板分开；并且，支撑板的至少一部分由能够将传送到支撑板的振动转换成热能而由此抑制振动的阻尼材料形成。
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