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公开(公告)号：CN111060998B
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN201910968836.3
申请日：2019-10-12
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 复曲面透镜、光学元件和图像形成设备。在包括具有微细凹凸结构的复曲面的复曲面透镜中，微细凹凸结构包括多个孔，多个孔具有孔深度H和表面开口直径孔深度H和表面开口直径满足表达式并且(a)多个孔具有靠近底面的圆柱形状和远离底面的圆锥台形状，该圆锥台形状的直径朝向复曲面的顶面逐渐增大，或者(b)在复曲面的顶面与该多个孔的侧面之间的角度θ满足78°≤θ≤85°。
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公开(公告)号：CN111060998A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201910968836.3
申请日：2019-10-12
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 复曲面透镜、光学元件和图像形成设备。在包括具有微细凹凸结构的复曲面的复曲面透镜中，微细凹凸结构包括多个孔，多个孔具有孔深度H和表面开口直径 孔深度H和表面开口直径 满足表达式并且(a)多个孔具有靠近底面的圆柱形状和远离底面的圆锥台形状，该圆锥台形状的直径朝向复曲面的顶面逐渐增大，或者(b)在复曲面的顶面与该多个孔的侧面之间的角度θ满足78°≤θ≤85°。
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公开(公告)号：CN101041891A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710088796.0
申请日：2007-03-22
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12
Abstract: 本发明的目的是，减少在汽相淀积源中产生的激溅，并以稳定、高速的汽相淀积速度实施汽相淀积。通过以下步骤实施根据本发明的汽相淀积：将多个多纳圈状平板垂直层叠在坩埚中，将薄的汽相淀积材料安装在多纳圈状平板上，使用包围坩埚的加热器以加热多纳圈状平板上的汽相淀积材料，使得从汽相淀积材料产生的蒸汽通过各层上的流动空间A流到垂直的流动路径B中，和从流动路径B的顶部的开口向要被淀积的衬底排放蒸汽。流动空间A的传导力比流动路径B的传导力小。
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公开(公告)号：CN1167265A
公开(公告)日：1997-12-10
申请号：CN96113232.9
申请日：1996-07-12
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02B5/20
CPC classification number: G02F1/133512 , C03C17/30 , C03C17/38 , C03C23/006 , G02F1/133516
Abstract: 本申请公开的是一种制造用于图象装置的彩色滤光器基板的方法，该基板通过在透明衬底上有选择地配置挡光元件和大量具有彼此不同的光谱特性的着色元件构成，其步骤包括在部分地方有挡光元件形成的基底上形成由硅烷偶合剂组成的防水层，将基底的表面暴露在氧等离子体下，并在基底的透明区域配置大量具有彼此不同的光谱特性的着色元件。
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公开(公告)号：CN114660688B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202210301592.5
申请日：2019-10-12
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 复曲面透镜、光学元件和图像形成设备。在包括具有微细凹凸结构的复曲面的复曲面透镜中，微细凹凸结构包括多个孔，多个孔具有孔深度H和表面开口直径φt，孔深度H和表面开口直径φt满足表达式0.3≤H/φt≤0.6，并且(a)多个孔具有靠近底面的圆柱形状和远离底面的圆锥台形状，该圆锥台形状的直径朝向复曲面的顶面逐渐增大，或者(b)在复曲面的顶面与该多个孔的侧面之间的角度θ满足78°≤θ≤85°。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114660688A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210301592.5
申请日：2019-10-12
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 复曲面透镜、光学元件和图像形成设备。在包括具有微细凹凸结构的复曲面的复曲面透镜中，微细凹凸结构包括多个孔，多个孔具有孔深度H和表面开口直径φt，孔深度H和表面开口直径φt满足表达式0.3≤H/φt≤0.6，并且(a)多个孔具有靠近底面的圆柱形状和远离底面的圆锥台形状，该圆锥台形状的直径朝向复曲面的顶面逐渐增大，或者(b)在复曲面的顶面与该多个孔的侧面之间的角度θ满足78°≤θ≤85°。
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公开(公告)号：CN1121963A
公开(公告)日：1996-05-08
申请号：CN95108952.8
申请日：1995-07-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C16/278 , C23C16/272 , C23C16/507
Abstract: 一种通过高频等离子体CVD方法形成金刚石膜的方法，使用了电感耦合放电，并将高频波的频率设定在40-250MHz之间，由此将含碳的原料气体分解为等离子体状态，以在基体上形成金刚石膜。
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公开(公告)号：CN102212778A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN201110083128.5
申请日：2011-04-02
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/042
Abstract: 本申请涉及蒸发设备，该蒸发设备减少掩模的变形、提高基板与蒸发掩模之间的附着性并且提高划分要形成膜的区域和不形成膜的区域的精度。该蒸发设备包括用于使设置在包括磁材料的蒸发掩模上的膜形成基板压靠蒸发掩模的施压机构。该施压机构包括用于将掩模至少吸引向膜形成基板的角部的磁体。
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公开(公告)号：CN1111291C
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：CN97110064.0
申请日：1997-03-14
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02F1/1343
CPC classification number: G02F1/13439 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/134336
Abstract: 本发明为一种适于构成液晶装置的电极板，包括至少一个透明衬底，多个彼此以一定间隔设置在所述透明衬底上的金属电极，和一个设置在所述间隔处的绝缘层。所述多个金属电极中的每一个都包括设置在所述透明衬底上并由从钛、铬、钼、钨、铝、钽和镍组成的一组金属中选择的金属或其合金构成的第一层，设置在所述第一层上并由铜或银构成的第二层；和设置在所述第二层上并由从钼、钽、钨、钛、铬、镍、铝和锌组成的一组金属中选择的金属或其合金构成的第三层。
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公开(公告)号：CN1166615A
公开(公告)日：1997-12-03
申请号：CN97110064.0
申请日：1997-03-14
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02F1/1343
CPC classification number: G02F1/13439 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/134336
Abstract: 本发明为一种适于构成液晶装置的电极板，包括至少一个透明衬底，多个彼此以一定间隔设置在所述透明衬底上的金属电极，和一个设置在所述间隔处的绝缘层。所述多个金属电极中的每一个都包括设置在所述透明衬底上并由从钛、铬、钼、钨、铝、钽和镍组成的一组金属中选择的金属或其合金构成的第一层，设置在所述第一层上并由铜或银构成的第二层；和设置在所述第二层上并由从钼、钽、钨、钛、铬、镍、铝和锌组成的一组金属中选择的金属或其合金构成的第三层。
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