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公开(公告)号：CN102312189B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201110183672.7
申请日：2011-07-01
CPC classification number: C23C14/12 , C03C17/002 , C23C14/042 , C23C14/54 , H01J2237/0216
Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供能够减少可传送到对准机构的振动和变形并由此抑制在表面方向上的基板和掩模之间的不对准的成膜装置。所述成膜装置包括：成膜室；对准机构支撑部件；和设置在对准机构支撑部件上的对准机构，其中：对准机构支撑部件包含用于放置对准机构的支撑板、和腿部；支撑板被设置为借助于腿部与成膜室的顶板分开；并且，支撑板的至少一部分由能够将传送到支撑板的振动转换成热能而由此抑制振动的阻尼材料形成。
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公开(公告)号：CN102312189A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110183672.7
申请日：2011-07-01
CPC classification number: C23C14/12 , C03C17/002 , C23C14/042 , C23C14/54 , H01J2237/0216
Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供能够减少可传送到对准机构的振动和变形并由此抑制在表面方向上的基板和掩模之间的不对准的成膜装置。所述成膜装置包括：成膜室；对准机构支撑部件；和设置在对准机构支撑部件上的对准机构，其中：对准机构支撑部件包含用于放置对准机构的支撑板、和腿部；支撑板被设置为借助于腿部与成膜室的顶板分开；并且，支撑板的至少一部分由能够将传送到支撑板的振动转换成热能而由此抑制振动的阻尼材料形成。
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公开(公告)号：CN108123064B
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201711237905.0
申请日：2017-11-30
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及一种显示装置、电子装置和显示装置的制造方法。显示装置包括：电极构造，其包括配置在基板上的第一电极和配置在所述第一电极上的构件；绝缘体，用于覆盖所述电极构造的周边部；有机膜，用于覆盖所述第一电极和所述绝缘体；以及第二电极，用于覆盖所述有机膜。所述构件包括以覆盖所述第一电极的上面的周边部的方式配置在所述电极构造的周边部中的第一部分，并且所述电极构造的周边部的反射率比作为所述电极构造的周边部内侧的部分的中央部的反射率低。
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公开(公告)号：CN108172698B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201711275516.7
申请日：2017-12-06
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种显示装置及其制造方法。该装置包括发光元件和保护层。发光元件包括通过绝缘部而隔离的下部电极、具有配置在下部电极上的发光层的有机层以及覆盖有机层的上部电极。绝缘部包括配置在下部电极上的第一部分以及配置在下部电极之间的第二部分。保护层覆盖上部电极，并且设置有配置在第二部分的上方并且具有与保护层的折射率不同的折射率的隔离部。上部电极的配置在隔离部的下方的部分的上表面的高度低于上部电极的配置在第一部分的上方的部分的上表面的高度。
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公开(公告)号：CN1467556A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03142511.9
申请日：2003-06-10
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 浮贺谷信贵
CPC classification number: G02F1/167
Abstract: 提供一种光调制装置及其制造方法。该光调制装置备有：以留出规定间隙的状态配置的第一基板及第二基板；配置在这些基板之间，将像素隔开的隔壁构件；配置在该像素中的液体及多个带电颗粒；以及配置在该像素上的第一电极及第二电极。其制造方法包括：在上述第二基板上形成上述隔壁构件的工序；将上述液体和上述带电颗粒配置在由上述第二基板和上述隔壁构件形成的凹部中的工序；将上述开孔构件压在上述隔壁构件上，将上述带电颗粒封装在上述凹部内的工序；以及配置闭塞构件以将上述开孔构件的孔部闭塞的工序。如果采用该方法，则在制造阶段(像素密封时)能防止带电颗粒从像素流出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107275352A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710197850.9
申请日：2017-03-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L27/146 , H04N5/225
CPC classification number: H01L27/1463 , H01L27/14612 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H01L27/1464 , H01L27/14641 , H01L27/14645 , H01L27/14689 , H04N5/2253
Abstract: 本发明提供一种光电转换装置以及照相机。所述光电转换装置包括元件隔离部和像素隔离部，所述元件隔离部设置在半导体层的正面侧并且由绝缘体构成。所述像素隔离部包括在法线方向上与隔离区域交叠的部分。所述半导体层在中间平面中跨越半导体区域连续。所述部分位于一个半导体区域与另一半导体区域之间。
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公开(公告)号：CN101381859B
公开(公告)日：2011-03-02
申请号：CN200810214894.9
申请日：2008-09-03
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12
Abstract: 在衬底上形成有机化合物的膜的气相沉积方法中，加热填充有气相沉积材料的材料容纳部分，从而蒸发或升华所述气相沉积材料，并将气相沉积材料通过连接到材料容纳部分的多个管道排出到真空腔的膜形成空间，并且具有不同的电导系数的多个管道中的具有较小的电导系数的管道设置有用于控制释放到所述真空腔中的气相沉积材料的量的流量调整机构，由此可以细微地调整膜形成速度；以及相应的气相沉积系统。
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公开(公告)号：CN101381859A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810214894.9
申请日：2008-09-03
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12
Abstract: 在衬底上形成有机化合物的膜的气相沉积方法中，加热填充有气相沉积材料的材料容纳部分，从而蒸发或升华所述气相沉积材料，并将气相沉积材料通过连接到材料容纳部分的多个管道排出到真空腔的膜形成空间，并且具有不同的电导系数的多个管道中的具有较小的电导系数的管道设置有用于控制释放到所述真空腔中的气相沉积材料的量的流量调整机构，由此可以细微地调整膜形成速度；以及相应的气相沉积系统。
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公开(公告)号：CN107275352B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN201710197850.9
申请日：2017-03-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L27/146 , H04N5/225
Abstract: 本发明提供一种光电转换装置以及照相机。所述光电转换装置包括元件隔离部和像素隔离部，所述元件隔离部设置在半导体层的正面侧并且由绝缘体构成。所述像素隔离部包括在法线方向上与隔离区域交叠的部分。所述半导体层在中间平面中跨越半导体区域连续。所述部分位于一个半导体区域与另一半导体区域之间。
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公开(公告)号：CN108172698A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201711275516.7
申请日：2017-12-06
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种显示装置及其制造方法。该装置包括发光元件和保护层。发光元件包括通过绝缘部而隔离的下部电极、具有配置在下部电极上的发光层的有机层以及覆盖有机层的上部电极。绝缘部包括配置在下部电极上的第一部分以及配置在下部电极之间的第二部分。保护层覆盖上部电极，并且设置有配置在第二部分的上方并且具有与保护层的折射率不同的折射率的隔离部。上部电极的配置在隔离部的下方的部分的上表面的高度低于上部电极的配置在第一部分的上方的部分的上表面的高度。
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