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公开(公告)号:CN108917655B
公开(公告)日:2020-04-17
申请号:CN201810818139.5
申请日:2018-07-24
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明公开一种旋转平台,包括固定基座、转台和两个驱动器,固定基座的上表面开设有与转台形状相匹配的凹槽,转台可转动嵌置安装在凹槽内;转台包括中心圆形转子,中心圆形转子的两侧对称设置有两个旋转臂,两个驱动器以中心圆形转子的圆心为中心呈中心对称分布,两个驱动器用于同时驱动两个旋转臂同向旋转;该旋转平台在转动时可避免中心产生平移。本发明还提供一种结构紧凑、受环境影响小、角度分辨率高的多倍程平面干涉角度测量系统,包括上述旋转平台、被测平面镜和测角干涉仪,被测平面镜放置在中心圆形转子的上表面,测角干涉仪设置在旋转平台的一侧。
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公开(公告)号:CN104567693A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201510012759.6
申请日:2015-01-09
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开了一种计量型微纳台阶高度测量装置,包括支撑系统以及安装在支撑系统上的白光显微测头、位移扫描系统和计量系统。本发明的有益效果为:该计量型微纳台阶高度测量装置主要用来测量微纳台阶的高度或沟槽的深度。系统采用粗细两级位移扫描系统,压电陶瓷驱动的纳米位移台可在微米级扫描范围内实现亚纳米级步进;压电陶瓷驱动的升降台可在毫米级扫描范围内实现亚微米级步进;Z向测量范围最大可达200微米。显微干涉测头采用白光光源(即采用白光显微测头),基于白光干涉原理,可实现0.1nm的Z向分辨率,同时可直接获得被测表面的三维形貌。采用激光干涉仪组成计量系统,将位移直接溯源到国际单位制中米定义的波长基准。
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公开(公告)号:CN113418453B
公开(公告)日:2023-04-18
申请号:CN202110721179.X
申请日:2021-06-28
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种双激光干涉纳米级定位测量系统,包括:光源、第一分束棱镜、第一直角棱镜、第二直角棱镜、第二分束棱镜、标量干涉光采集模块、矢量干涉光采集模块和位移计算模块。本发明中的光电探测器采集待测物体位置移动过程中的反射干涉光的光强,并生成周期性的光强变化曲线,CCD相机采集待测物体位置移动前后的涡旋干涉光电的图像,根据光强变化曲线的整数周期与待测物体位置移动前后的涡旋干涉光的图像的变化的角度计算待测问题的位移量,光电探测器采集的反射干涉光为标量信号,CCD相机采集的涡旋干涉光为矢量信号,将二者综合计算位移量,在提高测量的分辨率的同时实现了干涉信号的快速采集与解调。
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公开(公告)号:CN113405469A
公开(公告)日:2021-09-17
申请号:CN202110723170.2
申请日:2021-06-28
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学多倍程纳米级位移测量系统,该系统包括:包括:光源、偏振分束棱镜、第一相位改变模块、第二相位改变模块、第一直角棱镜、第二直角棱镜和位移测量模块;在设置光源、偏振分束棱镜、第一相位改变模块、第二相位改变模块和位移测量模块的基础上增设第一直角棱镜和第二直角棱镜,实现了光束在第一平面反射镜(即测量镜)与第二平面反射镜(即参考镜)间的多次反射,和现有的基于矢量涡旋光场干涉的位移测量相比,增加了信号光与参考光之间的光程差,提高了位移测量的分辨力。
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公开(公告)号:CN108444416A
公开(公告)日:2018-08-24
申请号:CN201810606901.3
申请日:2018-06-13
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B15/00
Abstract: 本发明公开了一种用于长度测量校准的标准器组,其包括底座、支撑棒和标准球,所述底板上设置有若干通孔,所述支撑棒的一端设置在所述通孔中,所述支撑棒的另一端设置有一球窝,所述标准球设置在所述球窝内,所述标准球与所述球窝底面之间设置有粘接剂。本发明中采用在棒的顶端加工球窝,并通过粘接剂将标准球进行固定的方式,使得不对标准球进行任何破坏性加工,避免了标准球上破损导致测量结果准确性降低的问题,使得CT测量过程中可以充分利用整个球面,提高了测量结果的准确性。
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公开(公告)号:CN104567693B
公开(公告)日:2018-05-01
申请号:CN201510012759.6
申请日:2015-01-09
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开了一种计量型微纳台阶高度测量装置,包括支撑系统以及安装在支撑系统上的白光显微测头、位移扫描系统和计量系统。本发明的有益效果为:该计量型微纳台阶高度测量装置主要用来测量微纳台阶的高度或沟槽的深度。系统采用粗细两级位移扫描系统,压电陶瓷驱动的纳米位移台可在微米级扫描范围内实现亚纳米级步进;压电陶瓷驱动的升降台可在毫米级扫描范围内实现亚微米级步进;Z向测量范围最大可达200微米。显微干涉测头采用白光光源(即采用白光显微测头),基于白光干涉原理,可实现0.1nm的Z向分辨率,同时可直接获得被测表面的三维形貌。采用激光干涉仪组成计量系统,将位移直接溯源到国际单位制中米定义的波长基准。
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公开(公告)号:CN118225795B
公开(公告)日:2024-07-23
申请号:CN202410649644.7
申请日:2024-05-24
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开一种用于探测亚表面深度的标定板及其制备方法,涉及光学标定领域,该标定板包括:楔形玻璃、样品颗粒和固定装置;其中,楔形玻璃包括相互平行的第一侧面和第二侧面,相互垂直的第一平面和第二平面,以及一个斜面;第一侧面和第二侧面分别与第一平面、第二平面和斜面连接;斜面分别与第一平面和第二平面连接;第二平面与固定装置固定连接;第一平面与水平面平行;样品颗粒均匀附着在斜面上;样品颗粒为微球颗粒。本发明能够提高对光学元件亚表面探测深度标定的可靠性。
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公开(公告)号:CN118225795A
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202410649644.7
申请日:2024-05-24
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开一种用于探测亚表面深度的标定板及其制备方法,涉及光学标定领域,该标定板包括:楔形玻璃、样品颗粒和固定装置;其中,楔形玻璃包括相互平行的第一侧面和第二侧面,相互垂直的第一平面和第二平面,以及一个斜面;第一侧面和第二侧面分别与第一平面、第二平面和斜面连接;斜面分别与第一平面和第二平面连接;第二平面与固定装置固定连接;第一平面与水平面平行;样品颗粒均匀附着在斜面上;样品颗粒为微球颗粒。本发明能够提高对光学元件亚表面探测深度标定的可靠性。
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公开(公告)号:CN114234818A
公开(公告)日:2022-03-25
申请号:CN202111552361.3
申请日:2021-12-17
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开了一种激光干涉位移测量系统和方法,利用光纤跳线的出射端面和被测物表面构成开放式法布里珀罗腔,将激光光束在光纤跳线的出射端面与空气端面发生后向菲涅尔反射的部分作为参考光,将透射至被测物表面并反射耦合进光纤跳线的部分作为测量光,使参考光与测量光在光纤跳线内部发生干涉。当被测物发生位移时,法布里珀罗腔的腔长发生相应改变,相当于改变了测量光和参考光之间的光程差,从而导致测量光和参考光的相位差发生变化,最终影响二者的干涉信号,通过干涉信号调理模块和信号解调模块对干涉信号进行处理,计算得到被测物的位移量,从而实现了对位移的非接触、高精度测量。
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公开(公告)号:CN111351451A
公开(公告)日:2020-06-30
申请号:CN202010298447.7
申请日:2020-04-16
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开一种表面微观形貌测量传感器,用于测量待测工件表面的形貌,包括:触针,用于测量微观形貌;触针轴,一端与所述触针连接,用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动;磁恒力模块,与所述触针轴的另一端连接,用于调节所述触针与待测工件之间的测量力;触针轴气浮模块,环绕在所述触针轴外围,用于使所述触针轴悬浮;位移测量模块,设置在所述触针轴的正上方,用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本发明通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙,保证触针轴悬浮且摩擦最小,提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力,以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。
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