一种光学检测系统及装置
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103383247B

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201310323229.4

    申请日:2013-07-30

    Abstract: 本发明公开了一种光学检测系统及装置,所述系统包括由上至下依次排列的激光器、非偏振分光镜、偏振分光镜、透反镜及测量透镜;非偏振分光镜位置水平对应光电接收器A,透反镜与测量透镜之间固定有λ/4波片,偏振分光镜位置水平对应光电接收器B。本发明设计的光学检测系统及装置解决了现有用于表面形貌测量的光学检测装置及非接触式显微测头,抗干扰能力不强、分辨力有限等问题。

    光频梳器件和光频梳器件的制作方法

    公开(公告)号:CN111864535A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN202010575729.7

    申请日:2020-06-22

    Abstract: 本发明涉及一种光频梳器件和光频梳器件的制作方法,所述介质层设置于所述衬底层的表面。所述光频梳层设置于所述介质层远离所述衬底的表面。所述介质层与所述光频梳层接触的表面设置有应力释放单元。所述应力释放单元包括V形结构。所述V形结构较大程度上阻挡了应力产生的方向和路径,从所述氮化硅薄膜传递到所述介质层表面的应力会被所述V形结构阻挡,从而可以避免所述介质层和所述氮化硅薄膜开裂,进而可以提高产品良率。

    扫描探针
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110967528A

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201811166846.7

    申请日:2018-09-30

    Abstract: 本申请涉及一种扫描探针。所述扫描探针包括第一延伸体、第二延伸体和第三延伸体。所述第一延伸体、所述第二延伸体和所述第三延伸体依次连接。所述第一延伸体的横截面积、所述第二延伸体的横截面积和所述第三延伸体的横截面积依次减小。所述第一延伸体、所述第二延伸体和所述第三延伸体依次连接,且所述第一延伸体的横截面积、所述第二延伸体的横截面积和所述第三延伸体的横截面积依次减小可以通过结构的几何级联获得纳米级联场增强。

    扫描探针
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110967525A

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201811161514.X

    申请日:2018-09-30

    Abstract: 本申请涉及一种扫描探针,所述扫描探针包括探针主体,延伸体和弯钩部。所述延伸体设置于探针主体的一端。所述弯钩部,设置于所述延伸体远离所述探针主体的一端。所述弯钩部可以增加散射截面,进而提高拉曼散射。

    扫描探针
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110967528B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN201811166846.7

    申请日:2018-09-30

    Abstract: 本申请涉及一种扫描探针。所述扫描探针包括第一延伸体、第二延伸体和第三延伸体。所述第一延伸体、所述第二延伸体和所述第三延伸体依次连接。所述第一延伸体的横截面积、所述第二延伸体的横截面积和所述第三延伸体的横截面积依次减小。所述第一延伸体、所述第二延伸体和所述第三延伸体依次连接,且所述第一延伸体的横截面积、所述第二延伸体的横截面积和所述第三延伸体的横截面积依次减小可以通过结构的几何级联获得纳米级联场增强。

    微区共焦拉曼光谱探测系统

    公开(公告)号:CN110967330B

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN201811162987.1

    申请日:2018-09-30

    Abstract: 本申请提供一种微区共焦拉曼光谱探测系统,通过第一分光单元以及第二分光单元实现了透射式的光路结构,使得拉曼散射光经过透射,传输至第一光谱探测单元与第二光谱探测单元进行拉曼光谱探测。经第一分光单元与第二分光单元可以分离出的第一路散射光与第二路散射光沿原路返回,沿光路传输至第一棱镜。并且,通过扫描探针可以增强拉曼散射,用以激发出样品的散射光,使得样品表面或近表面的电磁场的增强导致吸附分子的拉曼散射信号比普通拉曼散射信号大大增强,实现了在微区拉曼光谱中精确共焦、高空间分辨率以及高拉曼光谱分辨率的探测。

    多量值计量标准器以及多量值计量标准器制备方法

    公开(公告)号:CN110986846B

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN201911257083.1

    申请日:2019-12-10

    Abstract: 本申请提供一种多量值计量标准器以及多量值计量标准器制备方法。通过第一正方形结构(S1)、第二正方形结构(S2)、第三正方形结构(S3)以及长方形结构(P)等结构,可以任意组合构造出多量值计量标准器。此时,多量值计量标准器具有量值多、量值范围宽、且可结合集成电路工艺节点和精密测量需求,根据多量值纳米结构构建所对应的标准器量值等优点,为半导体制备工艺线的关键尺寸、关键线宽、特征纳米结构等提供准确测量依据,为大型精密仪器提供便携的原位的校准多个参考量值。多量值计量标准器解决了传统标准器的单一量值只能校准一个量程的弊端,提升了应用领域和量值传递的可靠性与一致性。

    多量值计量标准器以及多量值计量标准器制备方法

    公开(公告)号:CN110986846A

    公开(公告)日:2020-04-10

    申请号:CN201911257083.1

    申请日:2019-12-10

    Abstract: 本申请提供一种多量值计量标准器以及多量值计量标准器制备方法。通过第一正方形结构(S1)、第二正方形结构(S2)、第三正方形结构(S3)以及长方形结构(P)等结构,可以任意组合构造出多量值计量标准器。此时,多量值计量标准器具有量值多、量值范围宽、且可结合集成电路工艺节点和精密测量需求,根据多量值纳米结构构建所对应的标准器量值等优点,为半导体制备工艺线的关键尺寸、关键线宽、特征纳米结构等提供准确测量依据,为大型精密仪器提供便携的原位的校准多个参考量值。多量值计量标准器解决了传统标准器的单一量值只能校准一个量程的弊端,提升了应用领域和量值传递的可靠性与一致性。

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